公开(公告)号：EP0084438A3

公开(公告)日：1983-11-30

申请号：EP83300167

申请日：1983-01-13

Applicant: Corning Glass Works

Inventor： Scherer, George Walter

IPC: C03B19/00 ,  C03C03/06 ,  C04B35/14

CPC classification number: C03B19/12 ,  C03C1/006 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/06 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/22

Abstract: Suspensions of fumed oxides, e.g. fumed silica, are prepared in non-aqueous media and the suspensions are used to cast shapes for glass or cermic products. The suspensions are destabilized prior to casting with an added gelling agent, cast before gelation, and then gelled, dried and, optionally, sintered to clear glass or void-free ceramic products.

公开(公告)号：TWI394720B

公开(公告)日：2013-05-01

申请号：TW097124959

申请日：2008-07-02

Applicant: 贏創德固賽有限責任公司 ,  EVONIK DEGUSSA GMBH

Inventor： 莫尼卡 奧斯沃 ,  OSWALD, MONIKA ,  克莉絲汀 舒瑟依斯佛 ,  SCHULZE-ISFORT, CHRISTIAN ,  凱伊 舒曼契爾 ,  SCHUMACHER, KAI ,  瑞夫 霍夫曼 ,  HOFMANN, RALPH ,  柯里那 奇斯納 ,  KISSNER, CORINNA

IPC: C03B19/10 ,  C03C12/00

CPC classification number: C03B19/1005 ,  C03C1/006 ,  C03C3/06 ,  C03C3/083 ,  C03C12/00 ,  C03C2201/06 ,  C03C2201/14 ,  C03C2201/28 ,  C03C2201/31 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/34 ,  C03C2201/40 ,  C03C2201/42 ,  C03C2201/50 ,  C03C2203/20 ,  C04B35/14 ,  C04B35/62655 ,  C04B2235/72

公开(公告)号：TWI363044B

公开(公告)日：2012-05-01

申请号：TW093131624

申请日：2004-10-19

Applicant: 日本電氣硝子股份有限公司

Inventor： 青木重明 ,  永井裕樹 ,  高木雅隆

IPC: C03C

CPC classification number: C03C3/00 ,  C03B5/16 ,  C03B5/193 ,  C03B5/235 ,  C03B2201/20 ,  C03C1/00 ,  C03C13/00 ,  C03C2201/06 ,  C03C2203/10 ,  C03C2203/52 ,  C03C2203/54

Abstract: 本發明的玻璃組成物是一種無機玻璃的玻璃組成物，在玻璃中所含的氦內，質量數為3的氦與質量數為4的氦之體積比3He/4He的值(0℃ 1atm)小於大氣中的3He/4He的值。另外，本發明的玻璃製品的製造方法是一種含有將玻璃原料加熱熔融製程，使得熔融玻璃均勻化的製程，使均勻化的熔融玻璃成為一定形狀的成形製程的玻璃製品製造方法，該方法使得玻璃中所含的氦達到一定的質量比，藉以製成本發明的玻璃製品。

Abstract in simplified Chinese: 本发明的玻璃组成物是一种无机玻璃的玻璃组成物，在玻璃中所含的氦内，质量数为3的氦与质量数为4的氦之体积比3He/4He的值(0℃ 1atm)小于大气中的3He/4He的值。另外，本发明的玻璃制品的制造方法是一种含有将玻璃原料加热熔融制程，使得熔融玻璃均匀化的制程，使均匀化的熔融玻璃成为一定形状的成形制程的玻璃制品制造方法，该方法使得玻璃中所含的氦达到一定的质量比，借以制成本发明的玻璃制品。

公开(公告)号：TW343959B

公开(公告)日：1998-11-01

申请号：TW086100125

申请日：1997-04-07

Applicant: 康寧公司

Inventor： 伊來赫特魯地 ,  帶尼華倫賀特 ,  答尼李哈德森 ,  葛立尤金史密司

IPC: C01B

CPC classification number: B01J19/26 ,  B01J2219/00157 ,  B01J2219/00159 ,  C01B33/183 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1423 ,  C03B37/01413 ,  C03B37/0142 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/14 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/34 ,  C03B2207/42 ,  C03B2207/80 ,  C03C1/00 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/06 ,  C03C2203/40 ,  Y02P40/57

Abstract: 本發明係關於一種製造矽石之方法。提供液態不含鹵化物能夠藉由熱氧化分解為SiO2之含矽化合物以及直接地加入燃燒器火焰，因而形成微細分離非結晶粉塵。非結晶粉塵沉積於承受器表面上，與沉積同時或隨後將粉塵固結為熔融砂石玻璃物體。本發明更進一步係關於一種由液態不含鹵化物之含矽化合物形成熔融矽石之裝置，其包含：在操作時產生火焰之燃燒器；供應液態含矽化合物至火焰以藉由熱氧化分解將化合物轉化為微細分離非結晶粉塵之注入器；以及承受器表白，粉塵將沉積在該表面上。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种制造硅石之方法。提供液态不含卤化物能够借由热氧化分解为SiO2之含硅化合物以及直接地加入燃烧器火焰，因而形成微细分离非结晶粉尘。非结晶粉尘沉积于承受器表面上，与沉积同时或随后将粉尘固结为熔融砂石玻璃物体。本发明更进一步系关于一种由液态不含卤化物之含硅化合物形成熔融硅石之设备，其包含：在操作时产生火焰之燃烧器；供应液态含硅化合物至火焰以借由热氧化分解将化合物转化为微细分离非结晶粉尘之注入器；以及承受器表白，粉尘将沉积在该表面上。

公开(公告)号：EP2872454B1

公开(公告)日：2017-08-09

申请号：EP13730603.1

申请日：2013-06-25

Applicant: Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG

Inventor： SUCH, Mario ,  SCHOETZ, Gerhard ,  LANGNER, Andreas

IPC: C03B19/06 ,  B28B1/26 ,  C01B33/14 ,  C01B33/18 ,  C03C4/00

CPC classification number: C09K11/7706 ,  C01B33/18 ,  C03B19/066 ,  C03B2201/06 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/34 ,  C03B2201/36 ,  C03C1/006 ,  C03C3/06 ,  C03C3/061 ,  C03C4/12 ,  C03C2201/06 ,  C03C2201/3488 ,  C03C2201/36 ,  C09K11/025

公开(公告)号：EP2872454A1

公开(公告)日：2015-05-20

申请号：EP13730603.1

申请日：2013-06-25

Applicant: Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG

Inventor： SUCH, Mario ,  SCHOETZ, Gerhard ,  LANGNER, Andreas

IPC: C03B19/06 ,  B28B1/26 ,  C01B33/14 ,  C01B33/18 ,  C03C4/00

CPC classification number: C09K11/7706 ,  C01B33/18 ,  C03B19/066 ,  C03B2201/06 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/34 ,  C03B2201/36 ,  C03C1/006 ,  C03C3/06 ,  C03C3/061 ,  C03C4/12 ,  C03C2201/06 ,  C03C2201/3488 ,  C03C2201/36 ,  C09K11/025

Abstract: The invention relates to a method for producing a doped SiO
2 slurry in which an SiO2 suspension is brought into interaction with at least one doping solution, wherein the SiO2 suspension and/or the doping solution act on one another in the form of an atomised spray, the average droplet diameter of which is in the range between 10 μm and 100 μm. The invention further relates to the use of an SiO2 slurry doped by the atomised spray method for the production of doped quartz glass, particularly for the production of laser-active quartz glass.

Abstract translation: 本发明涉及一种制备掺杂SiO 2浆料的方法，其中SiO 2悬浮液与至少一种掺杂溶液相互作用，其中SiO 2悬浮液和/或掺杂溶液以雾化喷雾的形式彼此作用， 其平均液滴直径在10μm和100μm之间的范围内。 本发明还涉及通过雾化喷雾方法掺杂的SiO 2浆料用于生产掺杂石英玻璃的用途，特别是用于生产激光活性石英玻璃。

公开(公告)号：EP2371774A3

公开(公告)日：2012-05-09

申请号：EP10252133.3

申请日：2010-12-16

Applicant: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

Inventor： Maida, Shigeru , Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. ,  Otsuka, Hisatoshi , Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. ,  Ueda, Tetsuji , Shin-Etsu Quartz Products Co.,Ltd. ,  Ezaki, Masanobu , Shin-Etsu Quartz Products Co.,Ltd.

IPC: C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  C03B19/14

CPC classification number: G03F7/2008 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/36 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/06 ,  G03F1/24

Abstract: A titania-doped quartz glass which experiences a reduction in OH group concentration of less than or equal to 100 ppm upon heat treatment at 900°C for 100 hours is suitable as the EUV lithography member.

公开(公告)号：EP2371774A2

公开(公告)日：2011-10-05

申请号：EP10252133.3

申请日：2010-12-16

Applicant: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

Inventor： Maida, Shigeru , Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. ,  Otsuka, Hisatoshi , Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. ,  Ueda, Tetsuji , Shin-Etsu Quartz Products Co.,Ltd. ,  Ezaki, Masanobu , Shin-Etsu Quartz Products Co.,Ltd.

IPC: C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  C03B19/14

CPC classification number: G03F7/2008 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/36 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/06 ,  G03F1/24

Abstract: A titania-doped quartz glass which experiences a reduction in OH group concentration of less than or equal to 100 ppm upon heat treatment at 900°C for 100 hours is suitable as the EUV lithography member.

Abstract translation: 在900℃热处理100小时时，OH基浓度小于或等于100ppm的二氧化钛掺杂石英玻璃适合作为EUV光刻元件。

公开(公告)号：EP1679288A1

公开(公告)日：2006-07-12

申请号：EP04792900.5

申请日：2004-10-19

Applicant: NIPPON ELECTRIC GLASS CO., LTD

Inventor： AOKI, S., Nippon Electric Glass Co., Ltd. ,  NAGAI, H., Nippon Electric Glass Co., Ltd. ,  TAKAGI, M., Nippon Electric Glass Co., Ltd

IPC: C03B5/225 ,  C03C3/00

CPC classification number: C03C3/00 ,  C03B5/16 ,  C03B5/193 ,  C03B5/235 ,  C03B2201/20 ,  C03C1/00 ,  C03C13/00 ,  C03C2201/06 ,  C03C2203/10 ,  C03C2203/52 ,  C03C2203/54

Abstract: The glass composition of the present invention is an inorganic glass composition in which the volume ratio of helium with a mass number of 3 to helium with a mass number of 4, namely 3 He/ 4 He in the glass (0°C, 1 atm) is smaller than the volume ratio 3 He/ 4 He in the atmosphere. The method of producing a glass article of the present invention includes the steps of: melting a glass raw material by heating; homogenizing molten glass; forming the molten glass into a desired shape; and cooling the shaped glass to room temperature, in which helium with a certain mass ratio is dissolved in the glass material so that the glass article of the present invention is obtained.

Abstract translation: 本发明的玻璃组合物是其中质量数为4的氦质量数为3的氦的体积比，即玻璃中的3 He / 4 He（0℃，1大气压）的无机玻璃组合物 ）小于3 He / 4 He在大气中的体积比。 本发明的玻璃制品的制造方法包括以下步骤：通过加热熔化玻璃原料; 均质化熔融玻璃; 将所述熔融玻璃形成为期望的形状; 并将成形玻璃冷却至室温，将具有一定质量比的氦溶解在玻璃材料中，得到本发明的玻璃制品。

公开(公告)号：EP1471038A2

公开(公告)日：2004-10-27

申请号：EP04008387.5

申请日：2004-04-07

Applicant: Schott Glas ,  CARL-ZEISS-STIFTUNG trading as Schott Glas

Inventor： Hack, Hrabanus ,  Schuhmacher, Jörg ,  Schmidt, Matthias ,  Menzel, Andreas

IPC: C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00

CPC classification number: C03C4/0085 ,  C03B19/1407 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1469 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/06 ,  C03C2201/42 ,  Y02P40/57

Abstract: Es wird ein Verfahren zur Herstellung von Glaskörpern aus dotiertem Quarzglas durch Flammenhydrolyse angegeben, bei dem mittels eines einzelnen Brenners (14), dem Brennstoff und Precursoren zur Bildung des Glases zugeführt werden, ein Formling (24) auf einem Target (28) erzeugt wird. Das so hergestellte dotierte Quarzglas zeichnet sich durch eine geringe Defektdichte und eine verringerte Schlierendicke aus. Vorzugsweise wird der Formling (24) anschließend zu einem zweiten Formling umgesenkt wird, der eine größere Breite und geringere Höhe als der erste Formling aufweist. Dadurch können die Defektdichte und die Schlierendicken weiter reduziert werden (Fig. 1).

Abstract translation: 一种生产由火焰水解指定掺杂的二氧化硅玻璃的玻璃体，其中通过单个燃烧器（14）的装置，用于输送到目标上的模制（24）的玻璃形成的燃料和前体（28）生成的方法。 由此制得的掺杂的石英玻璃的特征在于低的缺陷密度和厚度减小的条纹。 优选地，模制（24）然后被转换降低到第二模制，其具有比所述第一模制大的宽度和更小的高度。 因此，缺陷密度和舒利莱恩厚度（图1）可以被进一步减小。