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公开(公告)号:KR101614318B1
公开(公告)日:2016-04-22
申请号:KR1020090073916
申请日:2009-08-11
Applicant: 한국세라믹기술원
Inventor: 허승헌
IPC: B82B3/00
Abstract: 본발명은탄소나노판복합체에관한것으로서, 구체적으로는그래핀산화물또는그래핀인탄소나노판을재료로하여이를화학적, 물리적으로분산시킨다음에분산체를이용하여복합체소재에복합화시켜제조되는탄소나노판복합체에관한것이다. 본발명은아직개발이되지않고있는탄소나노판인그래핀산화물이나그래핀을원료로하여이를물리적화학적처리방법에의해분산한후 이를복합체소재에복합화시킴으로써산업적으로다양한용도로활용될수 있는탄소나노판복합체를제공할수 있다.
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公开(公告)号:KR1020160021365A
公开(公告)日:2016-02-25
申请号:KR1020140106030
申请日:2014-08-14
Applicant: 한국세라믹기술원
CPC classification number: H01B5/14 , G02B1/116 , G06F3/041 , G06F2203/04103 , H01B7/0009 , H01B13/00 , H01B13/0003 , H01B13/0026 , H01B13/0033
Abstract: 본발명은「(a) 상면에전기전도성막이코팅된기판을준비하는단계; 및 (b) 상기기판의상면에플라즈마유발에너지원을조사하되, 조사각도가상기기판상면과수직기준으로 5°에서 85° 또는 -85°에서 -5°사이를이루도록조사하는단계;를포함하여이루어지는플라즈마광폭전기전도성막식각방법」을제공한다.
Abstract translation: 根据本发明,提供了一种等离子体宽导电膜蚀刻方法,包括:(a)通过导电膜在上表面上制备涂覆基板的步骤; 和(b)在基板的上表面垂直的5〜85度或负85〜5度的照射角度照射基板上的等离子体诱导能源的工序。
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公开(公告)号:KR101581451B1
公开(公告)日:2015-12-30
申请号:KR1020130168266
申请日:2013-12-31
Applicant: 한국세라믹기술원
Abstract: 본발명은흑연산화물표면의물분자를열처리없이원하는용매로치환함으로써흑연산화물의판형구조가유지되는흑연산화물코팅액제조방법및 이를기반으로한 흑연산화물코팅물제조방법에관한것이다. 본발명은「(a) 흑연을산화시켜수계흑연산화물슬러리를제조하는단계; (b) 상기수계흑연산화물슬러리에과량의양쪽성용매를투입한용액을제조하는단계; (c) 상기용액에분자단위충격파를제공하는단계; (d) 상기 (b)단계내지 (c)단계를 2회이상반복하는단계; (e) 상기용액에과량의유계용매를투입하여혼합용액을제조하는단계; (f) 상기혼합용액에분자단위충격파를제공하는단계; 및 (g) 상기 (e)단계내지 (f)단계를 2회이상반복하여코팅액을제조하는단계; 를더 포함하는것을특징으로하는유계용매함유흑연산화물코팅액제조방법」을제공한다.
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公开(公告)号:KR101581449B1
公开(公告)日:2015-12-30
申请号:KR1020130168265
申请日:2013-12-31
Applicant: 한국세라믹기술원
IPC: C09D7/12 , C09D201/00 , C09D1/00 , B05D3/00
Abstract: 본발명은흑연산화물표면의물분자를열처리없이원하는용매로치환함으로써흑연산화물의판형구조가유지되는흑연산화물코팅액제조방법및 이를기반으로한 흑연산화물코팅물제조방법에관한것이다. 본발명은「(a) 흑연을산화시켜수계흑연산화물슬러리를제조하는단계; (b) 상기수계흑연산화물슬러리에과량의양쪽성용매를투입한용액을제조하는단계; (c) 상기용액에분자단위충격파를제공하는단계; 및 (d) 상기 (b)단계내지 (c)단계를 2회이상반복하여코팅액을제조하는단계; 를포함하는것을특징으로하는양쪽성용매함유흑연산화물코팅액제조방법」을제공한다.
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公开(公告)号:KR101575221B1
公开(公告)日:2015-12-09
申请号:KR1020130168268
申请日:2013-12-31
Applicant: 한국세라믹기술원
IPC: C09D7/12 , C09D201/00 , C09D1/00 , B05D3/00
Abstract: 본발명은흑연산화물표면의물분자를열처리없이원하는용매로치환함으로써흑연산화물의판형구조가유지되는흑연산화물코팅액제조방법및 이를기반으로한 흑연산화물코팅물제조방법에관한것이다. 본발명은「(a) 흑연을산화시켜수계흑연산화물슬러리를제조하는단계; (b) 상기수계흑연산화물슬러리에과량의양쪽성용매를투입한용액을제조하는단계; (c) 상기용액에분자단위충격파를제공하는단계; (d) 상기 (b)단계내지 (c)단계를 2회이상반복하여코팅액을제조하는단계; 및 (e) 상기코팅액에정량의공용매를첨가하는단계; 를포함하는것을특징으로하는공용매함유흑연산화물코팅액제조방법」을제공한다.
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公开(公告)号:KR101538037B1
公开(公告)日:2015-07-21
申请号:KR1020140066946
申请日:2014-06-02
Applicant: 한국세라믹기술원
Inventor: 허승헌
CPC classification number: G01N23/207 , C01B32/182 , G01N1/36 , G01N1/44 , G01N23/223
Abstract: 본발명은그래핀분석방법에관한것으로서, 현재까지난제로남아있고이론적접근만가능하였던원자-분자-나노단위의초미세두께를갖는그래핀두께를층 수단위로정확히측정하고결정하는방법에대한기술과, 여기서얻어진데이터를기준으로하여미지그래핀시료들의두께(층수), 나노박막들의두께, 나노결정립들의크기(평균치, 분포등)를알아내는방법에관한것이다. 본발명은「(a) 층수 별로정의된그래핀에대하여 XRD 측정을수행하여 (002) 회절피크를얻어내는단계; 및 (b) 상기그래핀층 수별 (002) 피크들로부터 FWHM(full width at half maximum) 및층간간격(d)을포함한그래핀두께에대한유효정보를도출하는단계; 를포함하는그래핀분석방법」을제공한다.
Abstract translation: 本发明涉及一种石墨烯分析方法,更具体地说,涉及一种精确测量多层原子 - 分子 - 纳米单元中极薄的石墨烯的厚度的方法,这仍然是未解决的问题,并且只能接近 理论上根据由此获得的数据,获得未知石墨烯样品的厚度(层数),纳米薄膜的厚度和纳米晶粒的尺寸(平均值,分布等)。 石墨烯分析方法包括:(a)对由多个层(002)定义的石墨烯进行XRD测量以获得衍射峰的步骤; 和(b)从石墨烯层数(002)的峰值得出包括半峰全宽(FWHM)和层间距离(d002)的石墨烯厚度的有效信息的步骤。
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公开(公告)号:KR1020150054186A
公开(公告)日:2015-05-20
申请号:KR1020130136327
申请日:2013-11-11
Applicant: 한국세라믹기술원
Inventor: 허승헌
Abstract: 본발명은흑연으로부터형성되는판상소재로서, 그면직경이 0.1~5㎛인초박판탄소(Ultra-Thin Carbon : 이하, 'UTC'라함) 소재가함유된화장품조성물을제공한다. 이러한화장품조성물은피부에코팅될때 UTC 소재의적층구조를형성하게되며, 화장품의유효성분들은이들 UTC 소재의층간에위치하게된다. 이러한박판적층구조는피부위에서의화장품조성물코팅막의형상을잡아줌으로써화장품조성물의유효성분들을장시간유용케하는구조적인효과를줄 뿐만아니라시너지효과에의한뛰어난물성들(피부발림성, 보습성, 자외선차단성, 피부활성기능등)을발휘하게한다. 이런 UTC 자체의물성, UTC 함유에의한구조적물성및 시너지효과는기존화장품들의기능성을극대화시킬수 있으며소비자니즈에맞는다양한신규화장품들즉, 보습용화장품, 기능성화장품, 자외선차단크림, 미백용화장품, 주름방지화장품, 여드름개선화장품, 아토피용화장품, 색조화장품들을시장에제공할수 있게해준다.
Abstract translation: 本发明提供作为从石墨得到的板状材料,其含有侧面直径为0.1〜5μm的超薄碳(UTC)材料的化妆品组合物。 化妆品组合物当涂覆在皮肤上时形成UTC材料的叠层结构,并且将化妆品中的活性组分置于UTC材料层之间。 通过保持化妆品组合物涂膜的形状,薄板层叠结构不仅可以长时间维持化妆品组合物的活性成分,而且可以显示优异的性能(皮肤铺展性,保湿性,紫外线阻断性,皮肤活化性, 等等)通过协同效应。 UTC属性,UTC内容的结构特性和协同效应可以最大限度地发挥化妆品的功能,允许满足客户需求的各种新型化妆品,包括保湿剂,功能性化妆品,防紫外线霜,美白化妆品,皱纹护理化妆品,痤疮护理化妆品 ,特应护理化妆品,以及向市场供应的彩色化妆品。
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公开(公告)号:KR101510806B1
公开(公告)日:2015-04-08
申请号:KR1020130125886
申请日:2013-10-22
CPC classification number: C09D5/26 , B05D1/005 , B05D1/02 , B05D1/18 , B05D1/28 , B05D1/30 , B05D1/40 , C03C17/256 , C03C2217/23 , C09D1/00
Abstract: 산화그래핀(GO: graphene oxide)과세라믹졸을포함하는산화그래핀-세라믹하이브리드졸 용액으로부터형성되는산화그래핀-세라믹하이브리드코팅막으로서, 상기산화그래핀-세라믹하이브리드코팅막내 산화그래핀의함량은상기산화그래핀-세라믹하이브리드코팅막의총 중량에대하여 0.002 내지 3.0 중량%인그래핀-세라믹하이브리드코팅막및 이의제조방법이제공된다.
Abstract translation: 提供了一种石墨烯氧化物 - 陶瓷复合涂层及其制备方法。 氧化石墨烯 - 陶瓷混合涂层由包括氧化石墨烯(GO)和陶瓷溶胶的氧化石墨烯 - 陶瓷杂化溶胶溶液形成。 石墨烯氧化物 - 陶瓷混合涂层中的氧化石墨烯的含量相对于石墨烯氧化物 - 陶瓷混合涂层的总重量为0.002-3.0重量%。
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公开(公告)号:KR101510805B1
公开(公告)日:2015-04-08
申请号:KR1020130125885
申请日:2013-10-22
CPC classification number: C09K5/14 , B05D1/005 , B05D1/02 , B05D1/18 , B05D1/28 , B05D1/305 , C03C17/006 , C03C17/22 , C03C2218/11 , C03C2218/31 , C04B35/013 , C04B35/14 , C04B35/46 , C04B35/62222 , C04B35/624 , C04B35/62635 , C04B35/6264 , C04B35/64 , C04B2235/3232 , C04B2235/3418 , C04B2235/425 , C04B2235/666 , C04B2235/9607
Abstract: 그래핀(RGO: reduced graphene oxide)과세라믹졸을포함하는그래핀-세라믹하이브리드졸 용액으로부터형성되는그래핀-세라믹하이브리드코팅막으로서, 상기그래핀-세라믹하이브리드코팅막내 그래핀의함량은상기그래핀-세라믹하이브리드코팅막의총 중량에대하여 0.001 내지 1.8 중량%인그래핀-세라믹하이브리드코팅막및 이의제조방법이제공된다.
Abstract translation: 本发明提供一种石墨烯 - 陶瓷复合涂膜及其制造方法。 石墨烯 - 陶瓷混合涂膜由包括还原型氧化石墨(RGO)和陶瓷溶胶的石墨烯陶瓷混合溶胶溶液形成。 石墨烯 - 陶瓷混合涂膜中的石墨烯含量相对于石墨烯 - 陶瓷复合涂膜的总重量为0.001-1.8重量%。
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公开(公告)号:KR1020140021138A
公开(公告)日:2014-02-20
申请号:KR1020120086692
申请日:2012-08-08
IPC: B23K26/36 , H01B13/00 , H01L31/18 , H01L31/042
CPC classification number: Y02E10/542 , Y02P70/521
Abstract: The present invention relates to a patterning method to form a leading wire having a line width no wider than 30μm from a transparent conducting oxide coated on a substrate using a laser beam. Provided in the present invention is a fine patterning method for a transparent conducting oxide using laser scribing which includes: (a) a phase for preparing a substrate coated with a transparent conducing oxide; (b) a phase for rounding off the transparent conducing oxide, leaving with a flank around the transparent conducing wire portion using a broad-width laser beam; and (c) a phase for rounding off the flank with a narrow-width laser beam. [Reference numerals] (AA) FTO film(top); (BB) FTO film; (CC) Cross section; (DD) Substrate(PI, glass, plastic, ceramic, metal); (EE) FTO laser etching; (FF) FTO etched part(scribbing)
Abstract translation: 本发明涉及一种使用激光束从涂覆在基板上的透明导电氧化物形成线宽不大于30μm的引线的图案化方法。 在本发明中提供了一种使用激光划线的透明导电氧化物的精细图案化方法,其包括:(a)用于制备涂覆有透明导电氧化物的基底的相; (b)用于使透明导电氧化物四舍五入的相位,使用宽幅激光束在透明导电线部分周围留下一个侧面; 和(c)用窄宽度激光束使侧面倒圆的相位。 (附图标记)(AA)FTO膜(顶部); (BB)FTO电影; (CC)截面; (DD)基材(PI,玻璃,塑料,陶瓷,金属); (EE)FTO激光蚀刻; (FF)FTO蚀刻部分(划线)
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