Abstract:
A non-colored FTO(f-dopped tin oxide) conductive film having high quality and high transmittance is provided to reduce optical coloration effect through a series of polymer post-treatment so as to produce a transmittance-increased FTO film. A non-colored FTO(f-dopped tin oxide) conductive film using a series of polymer post-treatment comprises the following steps of: heating a glass substrate up to a temperature range of 400-600°C to form a SiO2 barrier film; forming the FTO film on the SiO2 barrier film using a spray/ultrasonic spraying method; and coating the FTO film with polymer in post-treatment which is performed by dropping a polymer solution onto the FTO film and spin-coating or dip-coating the FTO film with the polymer solution.
Abstract:
본 발명은 폴리머 후처리 공정을 이용한 무색 투명 FTO 전도막 제조 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 흐릿하며 광학적 착색이 있어 투과율이 낮고 시각적 방해가 있는 FTO(F-dopped Tin Oxide) 투명 전도막을 간단한 후처리 공정을 통하여 투과율을 높이고 무색에 가까운 FTO 막을 제조할 수 있도록 한 폴리머 후처리 공정을 이용한 무색 투명 FTO 전도막 제조 방법에 관한 것이다. 이를 위해, 본 발명은 유리기판을 400~600℃로 가열한 후, SiO 2 베리어 막을 형성하는 단계와; 스프레이/초음파 분무법을 이용하여 상기 베리어 막 위에 FTO 막을 형성하는 단계와; 상기 FTO 막에 폴리머를 코팅 또는 접합시키는 후처리 공정을 실시하는 단계; 를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 폴리머 후처리 공정을 이용한 무색 투명 FTO 전도막 제조 방법을 제공한다. 폴리머, 후처리 공정, FTO, 전도막, 유리기판, 베리어 막, 무색 투명
Abstract:
Transparent conductive F-doped tin oxide glass for defogging is provided to have excellent heat resistance, chemical resistance and abrasion resistance and to include FTO transparent oxide conductive having low resistance and high transmittance. Transparent conductive F-doped tin oxide glass for defogging is made by laminating a glass plate layer, a dielectric barrier layer, a functional layer, a metal electrode layer, a plastic interlayer and a glass plate layer in the order. A molar ratio of F/Sn in the functional layer is 0.5~2. A thickness of the FTO transparency conductive film layer is 0.1~1.3 mum. The dielectric barrier layer is made by SiO2 or mixing a transition metal selected from Ti, Zn and Al with SiO2. A thickness of the thickness is 5 ~ 200 nm.
Abstract:
본 발명은 유리판층, 유전체 배리어층, 기능성층, 금속 전극층, 플라스틱 중간층 및 유리판층의 순으로 적층되어 이루어진 습기제거용 불소 함유 산화주석(FTO) 투명전도막 유리 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 상기 기능성층으로서 Sn 대비 F가 0.5 ~ 2 범위 몰비를 갖고, (301) 결정면을 주로 포함하는 FTO 투명전도막을 스프레이 코팅하여 제조된 것을 포함하여 이루어진 저저항 및 고투과율을 갖는 습기제거용 FTO 투명전도막 유리 및 이의 제조방법에 관한 것이다. FTO 투명전도막 유리, 저저항, 고투과율, 습기제거용