公开(公告)号：CN103499900B

公开(公告)日：2015-11-11

申请号：CN201310392991.8

申请日：2013-09-02

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司

Inventor： 李明超

IPC: G02F1/1337

CPC classification number: G02F1/137 ,  B05D1/005 ,  C09K19/0225 ,  C09K19/0275 ,  C09K2019/548 ,  G02F1/0027 ,  G02F1/0045 ,  G02F1/1334 ,  G02F1/133711 ,  G02F1/134363 ,  G02F2001/13793

Abstract: 本发明公开了一种液晶面板及其制作方法、显示器，用以省去现有技术中阵列基板侧的摩擦取向工艺，并改善液晶面板暗态漏光的问题。所述液晶面板包括：阵列基板和与该阵列基板相对的对向基板，所述阵列基板上形成有作为取向层的聚合物分散蓝相液晶层；其中，所述阵列基板上包括至少两个电极。所述液晶面板的制作方法包括：在阵列基板上制作聚合物分散蓝相液晶层；所述阵列基板上包括至少两个电极，用以在该阵列基板表面形成电场；将制作有聚合物分散蓝相液晶层的阵列基板与对向基板进行对盒工艺，形成液晶盒。

公开(公告)号：CN102876179B

公开(公告)日：2015-03-11

申请号：CN201110196393.4

申请日：2011-07-13

Applicant: 中国科学院化学研究所

Inventor： 宋延林 ,  杨明 ,  周海华 ,  杨联明 ,  李刚

IPC: C09D161/28 ,  C09D161/06 ,  C09D163/00 ,  C09D175/04 ,  C09D167/00 ,  C09D161/24 ,  C09D129/14 ,  C09D105/00 ,  C09D7/12 ,  B05D5/02

CPC classification number: C09D161/06 ,  B05D1/005 ,  B05D1/28 ,  B05D3/0254 ,  B05D5/02 ,  C08K3/22 ,  C08K3/36 ,  C08K5/05 ,  C08K5/06 ,  C08K5/101 ,  C08K2003/2213 ,  C08K2003/2227 ,  C08K2003/2241 ,  C08K2003/2296 ,  C09D7/61 ,  C09D7/67 ,  C09D7/68 ,  C09D105/00 ,  C09D131/04 ,  C09D133/02 ,  C09D133/10 ,  C09D161/24 ,  C09D163/00 ,  C09D167/00 ,  C09D167/06 ,  C09D175/04 ,  C09D129/14

Abstract: 本发明属于印刷版材领域，涉及可用于喷墨打印直接制版用铝版基的涂料及其制备方法和应用。将占所述涂料5～40wt％的高分子聚合物、5～30wt％的纳米级和/或微米级氧化物颗粒及余量的有机溶剂混合，室温搅拌，得到所述的涂料。所述的涂料可避免对铝版进行阳极氧化处理后的废酸液、废碱液对环境造成较大的污染问题，使用本发明的涂料，直接采用旋涂法或辊涂法涂布在铝版的表面具有吸墨性及保水性，用喷墨打印直接制版后可直接上机印刷，节省了后处理过程。本发明的涂料与铝版粘结力较好，涂料中的纳米级和/或微米级氧化物颗粒的存在使铝版基具有高比表面能，满足了吸墨性和环保的要求，且铝版基的表面具有良好的耐磨性。

公开(公告)号：CN104254557A

公开(公告)日：2014-12-31

申请号：CN201380013688.0

申请日：2013-02-07

Applicant: 得克萨斯大学体系董事会

Inventor： C·J·艾里森 ,  C·G·威尔森 ,  J·卡申 ,  C·M·巴特斯

IPC: C08G63/695 ,  G03F7/00

CPC classification number: C09D167/00 ,  B05C21/005 ,  B05D1/005 ,  B05D3/00 ,  B05D5/00 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C08F8/02 ,  C08F112/14 ,  C08F2810/40 ,  C08G63/6952 ,  G03F7/0002 ,  Y10T428/24851 ,  Y10T428/31504

Abstract: 本发明包括以极低分子量自组装而形成极小特征的二嵌段共聚物体系。在一个实施方案中，在该嵌段共聚物内的一种聚合物含有硅，和另一聚合物是聚丙交酯。在一个实施方案中，通过阴离子和开环聚合反应的组合，合成该嵌段共聚物。在一个实施方案中，这一嵌段共聚物的目的是形成可在平版印刷构图中用作蚀刻掩模的纳米多孔材料。

公开(公告)号：CN102227659B

公开(公告)日：2014-12-24

申请号：CN200980148101.0

申请日：2009-09-25

Applicant: 加利福尼亚太平洋生物科学股份有限公司

Inventor： D·扎卡里 ,  P·伦奎斯特 ,  P·赵 ,  钟诚 ,  S·特纳 ,  黄雁樵 ,  P·莫纳德杰米 ,  R·萨克希纳 ,  A·格罗特 ,  A·鲁利森

IPC: G02B6/12 ,  G01N21/00

CPC classification number: G01N21/6452 ,  B05D1/005 ,  C23C16/50 ,  G01N21/253 ,  G02B6/12002 ,  G02B6/131 ,  G02B6/132 ,  G02B6/136 ,  G02B2006/12035 ,  G02B2006/12061 ,  G02B2006/12104 ,  G02B2006/12164 ,  G02B2006/12197

Abstract: 揭示了用于超高多路分析分立的反应的设备、系统和方法，同时降低了光学噪声并增加了系统灵活性。这种设备包括具有集成光学元件的基片，通过增加反应区域密度、改善光线到分立的反应区域的透射或改善来自分立的反应区域的光线的收集中的一种或多种来增加多路分析能力。集成光学元件包括反射光学元件，用于使照射光线和从分立的区域发出的光线转向从而更有效地收集所发出的光线。尤其优选的应用包括单分子反应分析，例如聚合酶介导的模板依赖性核酸合成和序列测定。

公开(公告)号：CN104209239A

公开(公告)日：2014-12-17

申请号：CN201410265714.5

申请日：2014-05-30

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 佐藤强 ,  贵志寿之

IPC: B05C11/10 ,  B05C11/08

CPC classification number: B05D1/005 ,  G03F7/162 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67253

Abstract: 本发明涉及成膜装置以及成膜方法。实施方式的成膜装置为，从移动的喷嘴向旋转的基板的表面供给处理液，在上述基板的表面上螺旋状地涂布上述处理液，通过上述基板的旋转由所涂布的上述处理液形成膜。该成膜装置具备保持上述基板的保持部、使上述保持部旋转的驱动部、向上述保持部所保持的上述基板的表面供给上述处理液的处理液供给部以及至少控制上述驱动部的控制部。而且，上述控制部使上述保持部以比涂布上述处理液时的第一转速慢的第二转速旋转，而由所涂布的上述处理液形成膜。

公开(公告)号：CN103941538A

公开(公告)日：2014-07-23

申请号：CN201410153572.3

申请日：2014-01-20

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： D·王 ,  P·特雷福纳斯三世 ,  J·J·张 ,  P-W·庄

IPC: G03F1/00

CPC classification number: H01L21/0271 ,  B05D1/005 ,  B05D1/02 ,  B05D1/18 ,  B05D1/26 ,  B05D1/28 ,  B05D1/30 ,  B05D3/02 ,  B05D7/16 ,  H01L21/0332 ,  H01L21/3105

Abstract: 硬掩模表面处理。提供了一种处理硬掩模层表面的方法，所述硬掩模层包括具有(-M-O-)n键的无机域，其中M为第3族至第14族的金属，且n＞1，所述方法包括：将硬掩模表面与表面处理组合物接触，以涂布硬掩模表面，其中所述表面处理组合物包括有机溶剂和含表面活性基团的表面处理剂。

公开(公告)号：CN101900944B

公开(公告)日：2014-02-26

申请号：CN201010163965.4

申请日：2010-02-08

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： J·F·卡梅隆 ,  J·W·宋 ,  J·P·阿马拉 ,  G·P·普罗科波维奇 ,  D·A·瓦莱里

IPC: G03F7/09 ,  G03F7/16 ,  C08L33/10 ,  C08L35/00 ,  C09D133/10 ,  C09D135/00 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/091 ,  B05D1/005 ,  B05D3/0254 ,  B05D3/06 ,  B05D5/061 ,  B05D7/54 ,  C08F220/36 ,  C09D5/006 ,  C09D133/12 ,  G03F7/11 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/322

Abstract: 提供一种有机涂层组合物，尤其是减反射涂层组合物，其包含二烯烃/二烯亲和物的反应产物。本发明的优选组合物有益于减少从基体背面到外涂的光致抗蚀剂层和/或作为平面化、保形或通孔填充层的曝光辐射的反射。

公开(公告)号：CN102858874A

公开(公告)日：2013-01-02

申请号：CN201180020759.0

申请日：2011-03-17

Applicant: 得克萨斯大学体系董事会

Inventor： C·G·威尔森 ,  C·贝茨 ,  J·斯特拉恩 ,  C·埃利森

IPC: C08L53/00

CPC classification number: C09D153/00 ,  B05D1/005 ,  B81C1/00031 ,  B81C2201/0149 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/265 ,  Y10T428/24355 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/31935 ,  Y10T428/31938

Abstract: 本发明涉及合成和使用无规交联的被取代的聚苯乙烯共聚物作为聚合交联的表面处理剂（PXST)来控制在第一共聚物上沉积的嵌段共聚物的物理特征的取向的方法。所述方法具有许多用途，包括制造用于纳米压印光刻法的模板的半导体工业中的多种应用。

公开(公告)号：CN102483969A

公开(公告)日：2012-05-30

申请号：CN201080033252.4

申请日：2010-06-22

Applicant: 孔达利恩股份有限公司

Inventor： E·斯瓦桑德 ,  M·布坎南 ,  M·克纳皮拉 ,  G·赫尔格森

IPC: H01B1/24 ,  H01L23/532 ,  H01L31/05 ,  H05K3/32 ,  B81B1/00 ,  B82B3/00

CPC classification number: H05K9/0079 ,  B05D1/005 ,  B05D1/40 ,  B05D3/14 ,  B05D2601/20 ,  H01B1/24 ,  H01G9/0003 ,  H01M4/628 ,  H05F3/025

Abstract: 本发明涉及粘合剂用于连接或替换太阳能电池集流条与太阳能电池主栅的用途，其中所述粘合剂包括基体和导电颗粒的分散体，并且该粘合剂在其被涂覆之后在定向步骤中使其导电。

公开(公告)号：CN101647089B

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN200880008386.3

申请日：2008-02-28

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 吉原孝介 ,  井关智弘 ,  高柳康治

IPC: G03F7/16 ,  H01L21/027 ,  B05D1/40

CPC classification number: H01L21/02104 ,  B05D1/005 ,  G03F7/162 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/6715

Abstract: 本发明提供涂敷处理方法、涂敷处理装置和计算机能够读取的存储介质。在涂敷工序中，使基板高速旋转，在此状态下从第一喷嘴向基板的中心部喷出抗蚀剂液，在基板上涂敷抗蚀剂液。接着，在平坦化工序中，使基板的旋转减速，使基板以低速旋转，使基板上的抗蚀剂液平坦化。此时，涂敷工序中的第一喷嘴进行的抗蚀剂液的喷出持续进行至平坦化工序的中途，在该平坦化工序中在使抗蚀剂液的喷出结束时，使第一喷嘴移动，使抗蚀剂液的喷出位置从基板的中心部移动。采用本发明，能够在基板面内均匀地涂敷抗蚀剂液。