公开(公告)号：EP2929319A1

公开(公告)日：2015-10-14

申请号：EP14796389.6

申请日：2014-03-14

Applicant: Halliburton Energy Services, Inc.

Inventor： PERKINS, David L. ,  FREESE, Robert Paul ,  JONES, Christopher Michael ,  GARDNER, Richard Neal

IPC: G01N21/00 ,  G01N21/17 ,  G01N21/84

CPC classification number: C23C14/547 ,  C23C14/10 ,  C23C14/24 ,  C23C14/50 ,  C23C14/505 ,  C23C14/54 ,  C23C14/542 ,  E21B47/00 ,  G01J3/00 ,  G01N21/25 ,  G01N21/31 ,  G01N2021/317 ,  G01V8/10 ,  G02B5/28 ,  G02B27/0012 ,  G05B19/418 ,  G05B2219/45031 ,  G06E3/001

Abstract: A system includes a computational system to receive a design of an integrated computational element (ICE) including specification of a substrate and a plurality of layers, their respective target thicknesses and complex indices, such that a notional ICE fabricated based on the ICE design is related to a characteristic of a sample. Additionally, the system includes a deposition chamber including a deposition source to provide a deposition plume having a plume spatial profile, and a support to support a plurality of instances of the substrate during fabrication of a plurality of instances of the ICE. The support is spaced apart from the deposition source and has a shape that corresponds to the plume spatial profile, such that when the supported instances of the substrate are distributed over the support, thicknesses of instances of each of the deposited layers are substantially uniform across the plurality of instances of the ICE.

公开(公告)号：EP2633368A1

公开(公告)日：2013-09-04

申请号：EP11836742.4

申请日：2011-10-25

Applicant: National University of Singapore

Inventor： HEUSSLER, Sascha Pierre ,  MOSER, Herbert O.

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G02B5/18 ,  G01J3/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0005 ,  G03F7/0017 ,  G03F7/0037 ,  G03F7/2014 ,  G03F7/203 ,  G03F7/213 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70416 ,  G03F7/70466

Abstract: A lithography method and apparatus is disclosed herein. In a described embodiment, the method comprises (i) providing a first mask 316 having an exposure pattern 332,334 for forming a three dimensional structure; (ii) exposing the first mask 316 to radiation to form the exposure pattern 332,334 on a radiation-sensitive resist 314; the exposure pattern 332,334 defined by irradiated areas 336 and non-irradiated areas 337 of the resist 314; (ii) providing a second mask 328; and (iii) during exposure, changing relative positions (arrows B and C) between the first mask 316 and the second mask 328 to shield selected portions of the irradiated areas 336 from radiation to enable varying depth profiles to be created in the three dimensional structure.

公开(公告)号：EP2466281A1

公开(公告)日：2012-06-20

申请号：EP11009686.4

申请日：2011-12-08

Applicant: Olympus Corporation

Inventor： Miyazono, Yuya

IPC: G01J3/02 ,  G01J3/28

CPC classification number: G01J3/00 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/28 ,  G01J3/2803

Abstract: A spectroscopic detector (110) includes a spectroscopic element (11) for dispersing light, a photodetector (12) for detecting the light dispersed by the spectroscopic element and a condensing optical system (13) for condensing the dispersed light to the photodetector and compensating for a deviation in a detected wavelength deriving from nonlinearity of the angle of emergence generated in the spectroscopic element through chromatic aberration of magnification.

Abstract translation: 分光检测器（110）包括用于分散光的分光元件（11），用于检测由分光元件分散的光的光电检测器（12）和用于将分散的光聚集到光电检测器的聚光光学系统（13） 通过色散像差从分光元件中产生的出现角度的非线性导出的检测波长的偏差。

公开(公告)号：EP0829224A2

公开(公告)日：1998-03-18

申请号：EP97114114.8

申请日：1997-08-14

Applicant: Columbus Schleif-und Zerspantechnik Hard-und Software GmbH

Inventor： Zürl, K. Dr.Ing. ,  Weiss, Armin ,  Zobel, F. ,  Boos, Karl-Siegfried Prof.

IPC: A61B5/00

CPC classification number: G01J3/00 ,  A61B5/441 ,  G01N21/1702 ,  G01N21/37

Abstract: Es wird ein differentieller Meßkopf für photoakustische Messungen zur Verfügung gestellt, der zwei oder mehrere Meßzellen enthält und wobei intensitätsmoduliertes Licht gleicher Wellenlängen in jeweils zwei benachbarten Meßzellen eingestrahlt wird. Die Vorteile der Erfindung liegen in einer höheren Empfindlichkeit für die zu messende Größe bei gleichzeitiger Immunität gegen Störungen von außen, in der Festellung und Kompensation von Inhomogenitäten in der Probenoberfläche z.B. in der Haut des Menschen und in einem vergrößerten Dynamikbereich.

Abstract translation: 用于光声学的测量头（1）具有由压力吸收器（4）连接的两个或更多个由具有相同波长的调制强度的光照射的测量单元（2）。

公开(公告)号：TW201224677A

公开(公告)日：2012-06-16

申请号：TW100139416

申请日：2011-10-28

Applicant: 新加坡國立大學

Inventor： 休斯勒沙夏皮爾 ,  摩瑟赫柏特O

IPC: G03F ,  G02B ,  G01J

CPC classification number: G02B5/18 ,  G01J3/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0005 ,  G03F7/0017 ,  G03F7/0037 ,  G03F7/2014 ,  G03F7/203 ,  G03F7/213 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70416 ,  G03F7/70466

Abstract: 本文揭示一種微影方法與設備。在所述實施例中,該方法包含以下步驟:(i)提供第一遮罩316,第一遮罩316具有暴露圖樣332、334用於形成三維結構;(ii)將第一遮罩316暴露於輻射以在輻射敏感性光阻劑314上形成暴露圖樣332、334;暴露圖樣332、334由光阻劑314之受照射區336及非受照射區337所界定;(iii)提供第二遮罩328;以及(iv)於暴露期間,改變第一遮罩316與第二遮罩328之間的相對位置(箭頭B及箭頭C),以屏蔽受照射區336之選定部分免於輻射,使能於三維結構中創造變化的深度輪廓。

Abstract in simplified Chinese: 本文揭示一种微影方法与设备。在所述实施例中,该方法包含以下步骤:(i)提供第一遮罩316,第一遮罩316具有暴露图样332、334用于形成三维结构;(ii)将第一遮罩316暴露于辐射以在辐射敏感性光阻剂314上形成暴露图样332、334;暴露图样332、334由光阻剂314之受照射区336及非受照射区337所界定;(iii)提供第二遮罩328;以及(iv)于暴露期间,改变第一遮罩316与第二遮罩328之间的相对位置(箭头B及箭头C),以屏蔽受照射区336之选定部分免于辐射,使能于三维结构中创造变化的深度轮廓。

公开(公告)号：JP2018040779A

公开(公告)日：2018-03-15

申请号：JP2016186207

申请日：2016-09-06

Applicant: 株式会社日立ハイテクサイエンス

Inventor： 堀込 純 ,  中村 孝一 ,  佐藤 洋一 ,  宝泉 雄介 ,  上妻 道成

IPC: G01N21/64

CPC classification number: G01N21/645 ,  G01J1/0219 ,  G01J3/00 ,  G01J3/0264 ,  G01J3/4406 ,  G01J2003/283 ,  G01N21/276 ,  G01N21/64 ,  G01N21/6486 ,  G01N2021/6417 ,  G01N2021/6419 ,  G01N2021/6421 ,  G01N2201/12

Abstract: 【課題】3次元蛍光スペクトルに現れる蛍光特性が由来している蛍光物質を特定し、未知試料を判別する方法を提供する。 【解決手段】既知試料判定のためのスタンダード工程(S21〜S26)において、蛍光特性から蛍光物質を判別し(S21〜S24)、判別した蛍光物質の蛍光特性を示すスペクトル範囲S25からモデル係数を算出しS26、未知試料判定のためのサンプル工程(S31〜S37)において、モデル係数を読込んだうえでS31未知試料測定を行いS35、未知試料の目的値を得るS37。 【選択図】図9

公开(公告)号：JP2018503843A

公开(公告)日：2018-02-08

申请号：JP2017558360

申请日：2016-01-26

Applicant: エイチ2オプティクス・インコーポレイテッド ,  H2Optx Inc.

Inventor： ルドルフ・ジェイ・ホフマイスター ,  ドナルド・エイ・アイス ,  スコット・ダブリュー・タンディ

IPC: G01N21/27 ,  G01N1/28 ,  G01N21/33 ,  G01N21/35 ,  G01N21/64 ,  G01N21/65

CPC classification number: G01J3/42 ,  B01D46/0002 ,  B01D46/42 ,  G01J3/00 ,  G01J3/0267 ,  G01J3/0291 ,  G01J3/06 ,  G01J3/10 ,  G01J3/44 ,  G01N1/06 ,  G01N21/01 ,  G01N21/25 ,  G01N21/253 ,  G01N21/33 ,  G01N21/3504 ,  G01N21/3577 ,  G01N21/65 ,  G01N23/00 ,  G01N33/15 ,  G01N35/10 ,  G01N2021/0106 ,  G01N2201/0231

Abstract: 試料に関する情報を得るように構成されたハイパースペクトル分析サブアセンブリの一実施形態である。ハイパースペクトル分析サブアセンブリは、試料に電磁気的に接続された電磁放射線を生成する1つまたは複数の送信器と、試料に電磁気的に接続された電磁放射線を検出する1つまたは複数のセンサと、電磁気的に透過する窓と、を備える。センサの少なくとも1つは、窓を介して試料からの電磁放射線を検出する。ハイパースペクトル分析サブアセンブリは、試料に対する1つまたは複数の移動方向において、ハイパースペクトル分析サブアセンブリの少なくとも一部を駆動する分析駆動サブアセンブリを備える。【選択図】図2A

公开(公告)号：JP2018017520A

公开(公告)日：2018-02-01

申请号：JP2016145515

申请日：2016-07-25

Applicant: 富士ゼロックス株式会社

Inventor： 山崎 尚人

IPC: G06T19/00 ,  G01J3/46

CPC classification number: H04N1/00408 ,  G01J3/00 ,  G01J3/0264 ,  G01J3/52 ,  G01J3/524 ,  G06T11/001 ,  G06T11/60 ,  H04N1/00015 ,  H04N1/00023 ,  H04N1/00034 ,  H04N1/00045 ,  H04N1/00087

Abstract: 【課題】測色対象画像の位置や測色器の操作方法を示す情報を含んだ表示をユーザに対して行わない場合に比べ、測色作業をより行いやすいものにする。 【解決手段】キャリブレーション処理では、(A)に示すチャート用紙Pが用いられる。このチャート用紙Pには、チャート画像10が形成されている。ユーザが、AR表示装置を通してチャート用紙Pを見ると、(A)の符号4Aで示す強調表示(四角い枠)のように、測色の対象となるチャート画像10の位置を示す情報が、AR表示装置のディスプレイに表示される。 【選択図】図4

公开(公告)号：JP6128897B2

公开(公告)日：2017-05-17

申请号：JP2013044283

申请日：2013-03-06

Applicant: キヤノン株式会社

Inventor： 光武 郁太郎 ,  林出 匡生 ,  伊藤 稔允

IPC: H04N1/028 ,  G03B27/54 ,  H04N1/04

CPC classification number: H04N1/02815 ,  F21V13/08 ,  F21V9/04 ,  F21V9/06 ,  G01J3/00

公开(公告)号：JP2016208508A

公开(公告)日：2016-12-08

申请号：JP2016080495

申请日：2016-04-13

Applicant: 富士通株式会社

Inventor： ジャオ・イン ,  ドウ・リアン ,  タオ・ジェヌニン

IPC: H04J11/00 ,  H04B10/079

CPC classification number: H04B10/07955 ,  G01J3/00 ,  H04B10/07957

Abstract: 【課題】本発明はパワー推定方法、周波数スペクトル特徴モニタリング方法、装置及びシステムを提供する。 【解決手段】かかるパワー推定方法は、受信信号を取得し;前記受信信号から周波数スペクトル情報を抽出し、前記受信信号の周波数スペクトルを取得し;前記周波数スペクトル中の中央チャネルの平坦領域のパワー値に基づいて中央チャネルのパワーを確定し;前記周波数スペクトル中の隣接チャネルの平坦領域のパワー値に基づいて前記隣接チャネルのパワーを確定することを含む。 【選択図】図2

Abstract translation: 阿本发明提供一种功率估计的方法，该频谱特性监控方法，装置和系统。 甲取功率估计方法获得所接收到的信号;从所接收信号的频谱信息，取得所接收的信号的频率谱;中心通道的平坦区域的频谱的功率值 确认基于中心信道的功率;包括：确定在所述频谱的相邻信道的平坦区域的功率值的基础上，在相邻信道的功率。 .The