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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：TW201224677A
公开(公告)日：2012-06-16
申请号：TW100139416
申请日：2011-10-28
Applicant: 新加坡國立大學
CPC classification number: G02B5/18 , G01J3/00 , G03F7/0002 , G03F7/0005 , G03F7/0017 , G03F7/0037 , G03F7/2014 , G03F7/203 , G03F7/213 , G03F7/70058 , G03F7/70416 , G03F7/70466
Abstract: 本文揭示一種微影方法與設備。在所述實施例中,該方法包含以下步驟:(i)提供第一遮罩316,第一遮罩316具有暴露圖樣332、334用於形成三維結構;(ii)將第一遮罩316暴露於輻射以在輻射敏感性光阻劑314上形成暴露圖樣332、334;暴露圖樣332、334由光阻劑314之受照射區336及非受照射區337所界定;(iii)提供第二遮罩328;以及(iv)於暴露期間,改變第一遮罩316與第二遮罩328之間的相對位置(箭頭B及箭頭C),以屏蔽受照射區336之選定部分免於輻射,使能於三維結構中創造變化的深度輪廓。
Abstract in simplified Chinese: 本文揭示一种微影方法与设备。在所述实施例中,该方法包含以下步骤:(i)提供第一遮罩316,第一遮罩316具有暴露图样332、334用于形成三维结构;(ii)将第一遮罩316暴露于辐射以在辐射敏感性光阻剂314上形成暴露图样332、334;暴露图样332、334由光阻剂314之受照射区336及非受照射区337所界定;(iii)提供第二遮罩328;以及(iv)于暴露期间,改变第一遮罩316与第二遮罩328之间的相对位置(箭头B及箭头C),以屏蔽受照射区336之选定部分免于辐射,使能于三维结构中创造变化的深度轮廓。
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公开(公告)号：TWI670483B
公开(公告)日：2019-09-01
申请号：TW104108168
申请日：2015-03-13
Applicant: 新加坡國立大學 , NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE
Inventor： 休斯勒沙夏皮爾 , HEUSSLER, SASCHA PIERRE , 摩瑟赫柏特奧斯卡 , MOSER, HERBERT OSKAR , 帕薩克艾羅克 , PATHAK, ALOK
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公开(公告)号：TWI548949B
公开(公告)日：2016-09-11
申请号：TW100139416
申请日：2011-10-28
Applicant: 新加坡國立大學 , NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE
Inventor： 休斯勒沙夏皮爾 , HEUSSLER, SASCHA PIERRE , 摩瑟赫柏特O , MOSER, HERBERT O.
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G02B5/18 , G01J3/00 , G03F7/0002 , G03F7/0005 , G03F7/0017 , G03F7/0037 , G03F7/2014 , G03F7/203 , G03F7/213 , G03F7/70058 , G03F7/70416 , G03F7/70466
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公开(公告)号：TW201543021A
公开(公告)日：2015-11-16
申请号：TW104114754
申请日：2015-05-08
Applicant: 新加坡國立大學 , NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE
Inventor： 史密特丹尼爾 , SCHMIDT, DANIEL , 休斯勒沙夏皮爾 , HEUSSLER, SASCHA PIERRE
IPC: G01N21/21
CPC classification number: G01J3/447 , G01J3/36 , G01J4/04 , G01N21/211 , G01N21/3581 , G01N2021/213 , G01N2021/3155
Abstract: 本案揭示一種用於分析樣品之裝置。該裝置包含：第一極化器，用於極化電磁輻射之第一射束；光學裝置，用於將電磁輻射之該極化射束導向至該樣品處，以允許電磁輻射之該極化射束與該樣品之間的相互作用，以引起電磁輻射之第二射束的產生；複數個第二極化器，用於將電磁輻射之該第二射束的波前分割為電磁輻射經不同極化狀態極化的複數個射束；以及至少一個分光計，用於分析電磁輻射之該複數個極化射束的相應電磁光譜，以允許該樣品得以表徵。本案還揭示一種相關方法。
Abstract in simplified Chinese: 本案揭示一种用于分析样品之设备。该设备包含：第一极化器，用于极化电磁辐射之第一射束；光学设备，用于将电磁辐射之该极化射束导向至该样品处，以允许电磁辐射之该极化射束与该样品之间的相互作用，以引起电磁辐射之第二射束的产生；复数个第二极化器，用于将电磁辐射之该第二射束的波前分割为电磁辐射经不同极化状态极化的复数个射束；以及至少一个分光计，用于分析电磁辐射之该复数个极化射束的相应电磁光谱，以允许该样品得以表征。本案还揭示一种相关方法。
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公开(公告)号：TW201538958A
公开(公告)日：2015-10-16
申请号：TW104108168
申请日：2015-03-13
Applicant: 新加坡國立大學 , NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE
Inventor： 休斯勒沙夏皮爾 , HEUSSLER, SASCHA PIERRE , 摩瑟赫柏特奧斯卡 , MOSER, HERBERT OSKAR , 帕薩克艾羅克 , PATHAK, ALOK
CPC classification number: G01J3/4531 , G01J3/0205 , G01J3/0208 , G01J3/0229 , G01J3/0272
Abstract: 一種光學干涉裝置100被揭露於此。在所述之一實施例中，光學干涉裝置100包含：用以接收準直光束的相移陣列108。相移陣列108具有一陣列的單元128，自準直光束的各射束產生光通道，其中至少部分之光通道具有不同之相位偏移。光學干涉裝置100更包含具有焦距之聚焦透鏡110，且聚焦透鏡110經配置以自光通道同時地產生在聚焦透鏡110的聚焦平面中之聚焦光束及在相移陣列108下游處供光學偵測器116所偵測之影像。光學干涉裝置100亦包含光學空間濾波器112，光學空間濾波器112配置於聚焦透鏡110之焦距上，並經配置以對聚焦光束進行濾波，以產生供光學偵測器116所偵測之零級的空間分佈干涉光圖樣。一種用以產生空間分佈干涉光圖樣的方法亦被揭露。
Abstract in simplified Chinese: 一种光学干涉设备100被揭露于此。在所述之一实施例中，光学干涉设备100包含：用以接收准直光束的相移数组108。相移数组108具有一数组的单元128，自准直光束的各射束产生光信道，其中至少部分之光信道具有不同之相位偏移。光学干涉设备100更包含具有焦距之聚焦透镜110，且聚焦透镜110经配置以自光信道同时地产生在聚焦透镜110的聚焦平面中之聚焦光束及在相移数组108下游处供光学侦测器116所侦测之影像。光学干涉设备100亦包含光学空间滤波器112，光学空间滤波器112配置于聚焦透镜110之焦距上，并经配置以对聚焦光束进行滤波，以产生供光学侦测器116所侦测之零级的空间分布干涉光图样。一种用以产生空间分布干涉光图样的方法亦被揭露。
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