Verfahren und Vorrichtung zur Modulation von unpolarisiertem Licht
    121.
    发明公开
    Verfahren und Vorrichtung zur Modulation von unpolarisiertem Licht 有权
    用于非偏振光的调制方法和装置

    公开(公告)号:EP1211553A2

    公开(公告)日:2002-06-05

    申请号:EP01125612.0

    申请日:2001-10-26

    Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Modulation, insbesondere Amplitudenmodulation, von Licht mittels wenigstens eines Bragg-Modulators auf der Basis von domäneninvertierbarem Material, insbesondere für die Aufzeichnung eines zu druckenden Produktes, vorzugsweise zur Herstellung von Druckformen. Das erfindungsgemäße Verfahren zeichnet sich aus durch die Modulation von unpolarisiertem Licht unter Verwendung eines ersten Bragg-Modulators zur Festlegung einer Polarisationsebene in dem unpolarisierten Licht und zur Modulation des dieser Polarisationsebene zuzuordnenden Lichtanteils und durch die Verwendung eines zweiten Bragg-Modulators zur Modulation des Lichtanteils des unpolarisierten Lichtes, welcher der zur Polarisationsebene des ersten Bragg-Modulators orthogonalen Polarisationsebene zuzuordnen ist.

    Abstract translation: 本发明通过domäneninvertierbarem材料的基础上,至少一个布拉格调制器的装置涉及一种方法和用于调制的装置,在光的特定幅度调制,特别是用于记录产品要被打印,优选用于制造印刷形式。 本发明的方法的特征在于,非偏振光的使用第一布拉格调制器,用于在非偏振光限定偏振平面和用于调制偏振可归因光成分的这个平面,并通过使用第二布拉格调制器,用于调制所述非偏振的光部分中的调制 被分配给所述垂直于所述第一布拉格调制器偏振面的偏振面的光。

    VLSI visual display
    122.
    发明公开
    VLSI visual display 失效
    VLSI显示

    公开(公告)号:EP1072934A3

    公开(公告)日:2002-05-29

    申请号:EP00203844.6

    申请日:1996-08-26

    Abstract: The present invention provides a visual display including a high resolution miniature display compatible with VLSI technology and an optical system such as an optical magnifier used to enlarge the images displayed on the miniature display to be visible to the naked eye. The miniature display includes a VLSI backplane having an array of display elements monolithically formed with its driving circuit on a single crystalline semiconductor. Signal processing circuit or a microprocessor used to process image signals for the display may also be formed monolithically with the array and its driving circuit. The array may be designed using a software silicon compiler program to have randomly displaced elements or superpixels for reducing image aliasing. The array may also be designed to have display elements positioned and scaled to compensate for the optical distortion introduced by the magnifier.

    ELECTRICALLY ADJUSTABLE DIFFRACTION GRATING
    123.
    发明公开
    ELECTRICALLY ADJUSTABLE DIFFRACTION GRATING 有权
    电动可调衍射

    公开(公告)号:EP1155355A1

    公开(公告)日:2001-11-21

    申请号:EP00904763.0

    申请日:2000-02-16

    Inventor: KULISHOV, Mykola

    Abstract: A diffraction grating for a waveguide or for externally incident light. The grating includes a substrate and an electrooptic structure extending over it. The electrooptic structure may include a waveguide having a propagation axis. A first and a second electrode structure are provided on either side of the electrooptic structure so that an electric field is generated in the electrooptic structure when a potential is applied to the electrodes. The first electrode structure has an interdigitated configuration defining a plurality of fingers. In use, respective potentials V0 and V0 +ΔV are applied to adjacent fingers. The diffraction grating induced in the electrooptic structure by the periodic electric field advantageously has a refractive index adjustable by varying V0 and ΔV and a spatial periodicity adjustable by varying ΔV.

    Structure semiconductrice à réseau de diffraction virtuel
    126.
    发明公开
    Structure semiconductrice à réseau de diffraction virtuel 失效
    Halbleiterstruktur mit virtuellem Beugungsgitter。

    公开(公告)号:EP0664588A1

    公开(公告)日:1995-07-26

    申请号:EP95400096.4

    申请日:1995-01-18

    Applicant: FRANCE TELECOM

    Abstract: Cette structure comprend une couche semiconductrice intermédiaire (4) entre deux autres couches semiconductrices (6, 8), de dopages opposé, et, d'un côté de la couche intermédiaire, un agencement périodique (12, 14) apte à moduler spatialement la répartition des porteurs de charge ou le champ électrique dans cette couche intermédiaire lorsqu'un courant électrique est injecté dans la jonction P-N formée par les deux autres couches ou que cette jonction est polarisée en inverse. L'agencement périodique se trouve dans l'une des première et deuxième couches semiconductrices et comprend une suite de premières zones semiconductrices ayant un dopage inférieur à 10¹⁹ cm⁻³ et de type opposé à celui de la couche semiconductrice dans laquelle se trouve l'agencement périodique, alternant avec des deuxièmes zones semiconductrices ayant le même type de dopage que celui de la couche semiconductrice dans laquelle se trouve l'agencement périodique. Application aux diodes-lasers à contre-réaction distribuée ou à réflecteurs de Bragg distribués.

    Abstract translation: 半导体结构具有夹在形成PN结的两个外部相对掺杂的半导体层(6,8)之间的中间层(4)。 外层带隙比中间层带隙宽。 上层与中间层一起周期性地掺杂(12),空隙(14)未被掺杂。 周期性掺杂层调制当前的载流子分离,同时将电流注入到P-N结中,或当该结被反向偏置时。

    半導体レーザ装置
    128.
    发明专利
    半導体レーザ装置 审中-公开
    半导体激光器件

    公开(公告)号:JPWO2015008627A1

    公开(公告)日:2017-03-02

    申请号:JP2015527251

    申请日:2014-07-02

    Abstract: この半導体レーザ装置は、半導体レーザチップ及びこの半導体レーザチップに光学的に結合した空間光変調器SLMを備えている。半導体レーザチップLDCは、活性層4と、活性層4を挟む一対のクラッド層2,7と、活性層4に光学的に結合した回折格子層6とを備えている。空間光変調器SLMは、共通電極25と、複数の画素電極21と、共通電極25と画素電極21との間に配置された液晶層LCとを備えている。回折格子層6の厚み方向に沿って出力されたレーザ光は、空間光変調器SLMにより変調され、これによって反射され、外部に出力される。

    Abstract translation: 此半导体激光装置包括:半导体激光器芯片和空间光调制器SLM光学地耦合到半导体激光器芯片。 半导体激光芯片LDC包括活性层4,一对包覆层2,7的夹着活性层4,和一个衍射光栅层6光学耦合到所述有源层4。 空间光调制器SLM,设置有共用电极25,多个像素电极21,以及设置在公共电极25和像素电极21之间的液晶层LC。 沿衍射光栅层6的厚度方向上的激光束的输出由空间光调制器SLM,这是由反射,并输出到外部调制。

    光変調器および露光ヘッド
    130.
    发明专利
    光変調器および露光ヘッド 有权
    光学调制器和曝光头

    公开(公告)号:JP2015052701A

    公开(公告)日:2015-03-19

    申请号:JP2013185223

    申请日:2013-09-06

    Abstract: 【課題】電気光学結晶基板を用いた光変調の消光比を確保可能とする技術を提供する。【解決手段】電気光学結晶基板として、第1電気光学結晶基板および第2電気光学結晶基板が設けられている。第1電気光学結晶基板は、電界を受けて発生する分極の向きが互いに反対である第1分極対を第1周期で進行方向に対して直交または傾斜する第1配列方向に配列した第1周期分極反転構造を有し、光が第1周期分極反転構造を介して通過する。第2電気光学結晶基板は、電界を受けて発生する分極の向きが互いに反対である第2分極対を第2周期で進行方向に対して直交または傾斜する第2配列方向に配列した第2周期分極反転構造を有し、第1電気光学結晶基板を通過した光が第2周期分極反転構造を介して通過する。第1周期と第2周期が互いに異なるという第1条件と、第1配列方向と第2配列方向が互いに異なるという第2条件とのうち少なくとも一方を満足する。【選択図】図4

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种使用电光学晶体基板实现光调制消光比的技术。解决方案:在光调制器中,提供第一电光晶体基板和第二电光晶体基板作为电光晶体基板。 第一电光晶体基板具有第一周期性极化反转结构,其中通过接收电场产生的极化方向彼此相反的第一极化对以第一周期在垂直或倾斜的第一布置方向上布置 并且光通过第一周期性偏振反转结构。 第二电光晶体基板具有第二周期性极化反转结构,其中通过接收电场产生的极化方向彼此相反的第二极化对在第二布置方向垂直地布置有第二周期 或者倾斜于前进方向,通过第一电光晶体基板后的光通过第二周期性偏振反转结构。 光调制器满足以下至少一个:第一周期和第二周期彼此不同的第一条件; 以及第一布置方向和第二布置方向彼此不同的第二条件。

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