Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Modulation, insbesondere Amplitudenmodulation, von Licht mittels wenigstens eines Bragg-Modulators auf der Basis von domäneninvertierbarem Material, insbesondere für die Aufzeichnung eines zu druckenden Produktes, vorzugsweise zur Herstellung von Druckformen. Das erfindungsgemäße Verfahren zeichnet sich aus durch die Modulation von unpolarisiertem Licht unter Verwendung eines ersten Bragg-Modulators zur Festlegung einer Polarisationsebene in dem unpolarisierten Licht und zur Modulation des dieser Polarisationsebene zuzuordnenden Lichtanteils und durch die Verwendung eines zweiten Bragg-Modulators zur Modulation des Lichtanteils des unpolarisierten Lichtes, welcher der zur Polarisationsebene des ersten Bragg-Modulators orthogonalen Polarisationsebene zuzuordnen ist.
Abstract:
The present invention provides a visual display including a high resolution miniature display compatible with VLSI technology and an optical system such as an optical magnifier used to enlarge the images displayed on the miniature display to be visible to the naked eye. The miniature display includes a VLSI backplane having an array of display elements monolithically formed with its driving circuit on a single crystalline semiconductor. Signal processing circuit or a microprocessor used to process image signals for the display may also be formed monolithically with the array and its driving circuit. The array may be designed using a software silicon compiler program to have randomly displaced elements or superpixels for reducing image aliasing. The array may also be designed to have display elements positioned and scaled to compensate for the optical distortion introduced by the magnifier.
Abstract:
A diffraction grating for a waveguide or for externally incident light. The grating includes a substrate and an electrooptic structure extending over it. The electrooptic structure may include a waveguide having a propagation axis. A first and a second electrode structure are provided on either side of the electrooptic structure so that an electric field is generated in the electrooptic structure when a potential is applied to the electrodes. The first electrode structure has an interdigitated configuration defining a plurality of fingers. In use, respective potentials V0 and V0 +ΔV are applied to adjacent fingers. The diffraction grating induced in the electrooptic structure by the periodic electric field advantageously has a refractive index adjustable by varying V0 and ΔV and a spatial periodicity adjustable by varying ΔV.
Abstract:
This invention discloses an electro-optically controlled optical element (300) including a diffraction grating (130); and a planar waveguide (122) associated with the diffraction grating (130), the diffraction grating (130) and the planar waveguide (122) being configured to undergo resonance of at least one of transmitted or reflected light at a wavelength which is selectable by means of an electrical input.
Abstract:
Cette structure comprend une couche semiconductrice intermédiaire (4) entre deux autres couches semiconductrices (6, 8), de dopages opposé, et, d'un côté de la couche intermédiaire, un agencement périodique (12, 14) apte à moduler spatialement la répartition des porteurs de charge ou le champ électrique dans cette couche intermédiaire lorsqu'un courant électrique est injecté dans la jonction P-N formée par les deux autres couches ou que cette jonction est polarisée en inverse. L'agencement périodique se trouve dans l'une des première et deuxième couches semiconductrices et comprend une suite de premières zones semiconductrices ayant un dopage inférieur à 10¹⁹ cm⁻³ et de type opposé à celui de la couche semiconductrice dans laquelle se trouve l'agencement périodique, alternant avec des deuxièmes zones semiconductrices ayant le même type de dopage que celui de la couche semiconductrice dans laquelle se trouve l'agencement périodique. Application aux diodes-lasers à contre-réaction distribuée ou à réflecteurs de Bragg distribués.