公开(公告)号：WO2010003600A1

公开(公告)日：2010-01-14

申请号：PCT/EP2009/004846

申请日：2009-07-03

Applicant: THE PROVOST, FELLOWS AND SCHOLARS OF THE COLLEGE OF THE HOLY AND UNDIVIDED TRINITY OF QUEEN ELIZABETH NEAR DUBLIN ,  CROSS, Graham L. W. ,  McKENZIE, Warren ,  PETHICA, John B.

Inventor： CROSS, Graham L. W. ,  McKENZIE, Warren ,  PETHICA, John B.

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/00 ,  B81C1/00 ,  H01L21/033

CPC classification number: G03F7/11 ,  B81C1/00634 ,  B81C2201/0143 ,  B81C2201/0159 ,  B81C2201/036 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  H01L21/0337

Abstract: The invention provides a system and process of patterning structures on a carbon based surface comprising exposing part of the surface to an ion flux, such that material properties of the exposed surface are modified to provide a hard mask effect on the surface. A further step of etching unexposed parts of the surface forms the structures on the surface. The inventors have discovered that by controlling the ion exposure, alteration of the surface structure at the top surface provides a mask pattern, without substantially removing any material from the exposed surface. The mask allows for subsequent ion etching of unexposed areas of the surface leaving the exposed areas raised relative to the unexposed areas thus manufacturing patterns onto the surface. For example, a Ga+ focussed ion beam exposes a pattern onto a diamond surface which produces such a pattern after its exposure to a plasma etch. The invention is particularly suitable for patterning of clear well-defined structures down to nano-scale dimensions.

Abstract translation: 本发明提供了一种在碳基表面上构图结构的系统和工艺，包括将表面的一部分暴露于离子通量，使得暴露表面的材料性质被修饰以在表面上提供硬掩模效应。 蚀刻表面的未曝光部分的另一步骤形成表面上的结构。 发明人已经发现，通过控制离子暴露，顶表面上的表面结构的改变提供掩模图案，而基本上不从暴露表面移除任何材料。 该掩模允许对表面的未曝光区域的后续离子蚀刻，离开暴露区域相对于未曝光区域升高，从而将图案制造到表面上。 例如，Ga +聚焦离子束将图案暴露在金刚石表面上，其在暴露于等离子体蚀刻之后产生这种图案。 本发明特别适用于直到纳米级尺寸的清晰明确定义的结构的图案化。

公开(公告)号：WO2007115028A3

公开(公告)日：2007-12-13

申请号：PCT/US2007065330

申请日：2007-03-28

Applicant: 3M INNOVATIVE PROPERTIES CO

Inventor： FLEMING PATRICK R ,  HUMPAL PAUL E ,  CORRIGAN THOMAS R J ,  WILLIAMS TODD R ,  NIGATU TADESSE G

IPC: B81B7/00 ,  B81C1/00

CPC classification number: B23K26/18 ,  B23K26/0084 ,  B23K26/0661 ,  B29C33/424 ,  B29C43/021 ,  B29C2043/025 ,  B81C99/009 ,  B81C2201/036 ,  Y10T428/12556 ,  Y10T428/12944 ,  Y10T428/31678

Abstract: Disclosed herein is a microstructured tool having a microstructured layer having a polymer and a microstructured surface; a nickel layer disposed adjacent the microstructured layer opposite the microstructured surface; and a base layer disposed adjacent the nickel layer opposite the microstructured layer. The microstructured surface may have at least one feature having a maximum depth of up to about 1000 um. Also disclosed herein is a method of making the microstructured tool using laser ablation. The microstructured tool may be used to make articles suitable for use in optical applications.

Abstract translation: 本文公开了具有微结构化层的微结构化工具，所述微结构化层具有聚合物和微结构化表面; 邻近与微结构化表面相对的微结构化层设置的镍层; 以及邻近与微结构化层相对的镍层设置的基层。 微结构化表面可以具有至少一个最大深度达到约1000μm的特征。 本文还公开了使用激光烧蚀来制造微结构化工具的方法。 微结构化工具可用于制造适用于光学应用的物品。

公开(公告)号：WO2004076339A3

公开(公告)日：2005-01-13

申请号：PCT/US2004005382

申请日：2004-02-24

Applicant: PROCTER & GAMBLE ,  GARTSTEIN VLADIMIR ,  SHERMAN FAIZ FEISAL

Inventor： GARTSTEIN VLADIMIR ,  SHERMAN FAIZ FEISAL

IPC: B81C99/00 ,  A61M37/00 ,  B26F1/24 ,  B26F1/26 ,  B81B1/00 ,  B81C1/00

CPC classification number: B81C1/00111 ,  A61M37/0015 ,  A61M2037/003 ,  A61M2037/0053 ,  B26F1/24 ,  B26F1/26 ,  B81B2201/055 ,  B81C2201/034 ,  B81C2201/036

Abstract: A method is provided for manufacturing microstructures of the type which contain a substrate and an array of protruding microelements with through-holes, which are used in penetrating layers of skin. The microelements are embossed or pressed into an initial substrate structure, which in some embodiments is formed from extruded polymeric material, and in some cases from two layers of polymer that are co-extruded. The through-holes are formed from filled through-cylinders of a second material that is removed after the embossing or pressing step; in other instances, the through-holes are left hollow during the embossing or pressing step.

Abstract translation: 提供了一种用于制造包含基底的微结构的方法和具有通孔的突出微元件阵列，其用于穿透皮肤层。 微元件被压花或压制成初始的基底结构，其在一些实施方案中由挤出的聚合物材料形成，并且在一些情况下由共挤出的两层聚合物形成。 通孔由在压花或压制步骤之后被去除的第二材料的填充的通孔形成; 在其他情况下，在压花或压制步骤期间，通孔留空。

公开(公告)号：WO2004114017A1

公开(公告)日：2004-12-29

申请号：PCT/IB2004/002120

申请日：2004-06-22

Applicant: INFM ISTITUTO NAZIONALE PER LA FISICA DELLA MATERIA ,  TORMEN, Massimo

Inventor： TORMEN, Massimo

IPC: G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0002 ,  B29C33/02 ,  B81C99/0085 ,  B81C2201/0153 ,  B81C2201/036 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

Abstract: A lithographic process for forming a pattern in relief (20) on a mass (10) of polymeric material comprises the steps of: preparing the mass (10) of polymeric material and a die (12) having a surface region (14) facing towards the mass (10) of polymeric material and which reproduces in negative the pattern in relief (20); heating the die (12) and putting the mass (10) of polymeric material into contact with the die (12) in any temporal sequence, in such a way that the part of the mass (10) of polymeric material in contact with the surface zone (14) is subject to softening; and separating the die (12) from the mass (10) of polymeric material on the surface of which the pattern in relief (20) has been formed. The heating of at least one part of the die (12) is obtained by generation of thermal energy upon dissipation of another form of energy in at leats one region (16) of the die (12).

Abstract translation: 用于在聚合物材料（10）上形成浮雕（20）中的图案的平版印刷工艺包括以下步骤：制备聚合物材料块（10）和具有面向（...） 聚合物材料的质量（10）并且以凹凸（20）的形式呈现为负值; 加热模具（12）并将聚合材料的质量块（10）以任何时间顺序与模具（12）接触，使得聚合材料质量（10）的与表面接触的部分 区域（14）容易软化; 以及将模具（12）与形成有凹凸图案（20）的表面上的聚合材料的质量（10）分离。 模具（12）的至少一部分的加热通过在模具（12）的一个区域（16）中的另一形式的能量的散发时产生热能而获得。

公开(公告)号：WO0191846A3

公开(公告)日：2002-03-28

申请号：PCT/US0117188

申请日：2001-05-24

Applicant: PROCTER & GAMBLE

Inventor： YUZHAKOV VADIM VLADIMIROVICH ,  GARTSTEIN VLADIMIR ,  OWENS GROVER DAVID

IPC: A45D34/04 ,  A61M37/00 ,  A61N1/30 ,  B29C51/00 ,  B81C1/00

CPC classification number: B29C51/00 ,  A45D34/04 ,  A45D2200/1018 ,  A61M37/0015 ,  A61M37/0076 ,  A61M2037/003 ,  A61M2037/0053 ,  A61N1/30 ,  B81B2201/055 ,  B81C1/00111 ,  B81C2201/036

Abstract: An array of microneedles is provided to apply semi-permanent or permanent markings to skin, or to apply semi-permanent subcutaneous makeup or other cosmetic compounds to skin. The microneedles can apply identifications or other tattoo-like graphics, and will not enter into the dermal layer of the skin so that the application procedure is painless. The markings can be made permanent or semi-permanent, and can be applied with monochrome or multi-color inks, or even inks that are not visible at human eye wavelengths. The preferred inks contain particles of a certain minimum size that will not diffuse too far through the skin, thereby maintaining a high resolution, and if placed into the epidermis, the marking will disappear from the skin after a time period. The microneedle array is also useful for delivering specific compounds or actives into the skin, such as cosmetic compounds or nutrients, or various skin structure modifiers that can be delivered subcutaneously without having to visit a cosmetic surgery clinic. In addition, color cosmetics could also be delivered subcutaneously to provide long-term benefits for the skin, and even makeup or lipstick-type coloring compounds can be delivered by use of the microneedle patches described hereinabove. The color cosmetics are delivered into the epidermis, where they remain in place for at least one or two months. Since the epidermis is renewable, the color makeup or color cosmetics that are delivered would eventually wear out, since the epidermis is renewable; the delivered color pigment or dye, or skin structure support actives (such as polymers) will remain in the epidermis for only a finite time (e.g., 1-3 months), and then will be expunged from the body. This allows a person to change their "look" according to changes in fashion and style, which typically change every season.

Abstract translation: 提供一系列微针，以将半永久性或永久性标记施用于皮肤，或将半永久性皮下化妆或其他化妆品化合物施用于皮肤。 微针可以应用标识或其他纹身图形，并且不会进入皮肤的真皮层，使得应用程序是无痛的。 标记可以制成永久性或半永久性，并且可以应用于单色或多色油墨，或甚至在人眼波长处不可见的油墨。 优选的油墨含有一定的最小尺寸的颗粒，其不会通过皮肤扩散太远，从而保持高分辨率，并且如果放置在表皮中，则标记将在一段时间后从皮肤消失。 微针阵列还可用于将特定的化合物或活性物质递送到皮肤中，例如化妆品化合物或营养物，或可以皮下递送而不必访问整容手术诊所的各种皮肤结构修饰剂。 此外，彩色化妆品也可以皮下递送以为​​皮肤提供长期的益处，甚至可以通过使用上述微针补片递送化妆或口红型着色化合物。 彩色化妆品被运送到表皮中，在那里保持至少一到两个月。 由于表皮是可再生的，由于表皮是可再生的，所以交付的颜色化妆品或彩色化妆品最终会磨损， 递送的彩色颜料或染料或皮肤结构支持活性物质（例如聚合物）将仅在有限时间（例如1-3个月）内保留在表皮中，然后将从身体中清除。 这允许一个人根据时尚和风格的变化来改变他们的“外观”，这通常每个季节都会改变。

公开(公告)号：WO01089787A2

公开(公告)日：2001-11-29

申请号：PCT/US2001/016973

申请日：2001-05-25

IPC: G01N37/00 ,  B01F13/00 ,  B01L3/00 ,  B01L3/02 ,  B29C31/04 ,  B29C33/40 ,  B29C33/42 ,  B29C39/02 ,  B29C39/24 ,  B29C65/00 ,  B81B1/00 ,  B81C1/00 ,  B82B3/00 ,  C12M1/34 ,  B29C

CPC classification number: B01L3/0258 ,  B01F13/0059 ,  B01L3/0262 ,  B01L3/502707 ,  B01L2200/12 ,  B01L2300/0816 ,  B01L2300/0861 ,  B01L2300/0874 ,  B01L2300/0887 ,  B29C31/04 ,  B29C33/405 ,  B29C33/424 ,  B29C39/02 ,  B29C39/24 ,  B29C66/7373 ,  B33Y80/00 ,  B81B2201/058 ,  B81C1/00119 ,  B81C2201/034 ,  B81C2201/036 ,  B82Y30/00 ,  Y10T137/2191 ,  Y10T137/2224 ,  Y10T436/2575

Abstract: The present invention provides, in certain embodiments, improved microfluidic systems and methods for fabricating improved microfluidic systems, which contain one or more levels of microfluidic channels. The inventive methods can provide a convenient route to topologically complex and improved microfluidic systems. The microfluidic systems provided according to the invention can include three-dimensionally arrayed networks of fluid flow paths therein including channels that cross over or under other channels of the network without physical intersection at the points of cross over. The microfluidic networks of the invention can be fabricated via replica molding processes, also provided by the invention, utilizing mold masters including surfaces having topological features formed by photolithography. The microfluidic networks of the invention are, in some cases, comprised of a single replica molded layer, and, in other cases, are comprised of two, three, or more replica molded layers that have been assembled to form the overall microfluidic network structure. The present invention also describes various novel applications for using the microfluidic network structures provided by the invention.

Abstract translation: 在某些实施方案中，本发明提供了改进的微流体系统和用于制备包含一个或多个微流体通道水平的改进​​的微流体系统的方法。 本发明的方法可以提供拓扑复杂和改进的微流体系统的方便的途径。 根据本发明提供的微流体系统可以包括其中流体流动路径的三维排列的网络，其中包括跨过网络的其它通道的通道，而在交叉点处没有物理交叉点。 本发明的微流体网络可以通过本发明提供的复制模制工艺，利用模具主体，其包括具有通过光刻形成的拓扑特征的表面。 在一些情况下，本发明的微流体网络由单个复制模制层组成，并且在其它情况下由两个，三个或更多个复制模制层组成，以形成整个微流体网络结构。 本发明还描述了使用本发明提供的微流体网络结构的各种新颖应用。

公开(公告)号：WO00074764A1

公开(公告)日：2000-12-14

申请号：PCT/US2000/015612

申请日：2000-06-07

IPC: A61B5/00 ,  A45D34/04 ,  A61B5/15 ,  A61M35/00 ,  A61M37/00 ,  B26F1/24 ,  B29C33/00 ,  B29C33/42 ,  B29C37/00 ,  B29C45/26 ,  B29C51/00 ,  B29C51/08 ,  B81C1/00

CPC classification number: B29C51/082 ,  A61M37/00 ,  A61M37/0015 ,  A61M2037/0023 ,  A61M2037/003 ,  A61M2037/0053 ,  B26F1/24 ,  B29C33/0033 ,  B29C33/42 ,  B29C37/0053 ,  B29C45/2628 ,  B29C51/00 ,  B29C2059/023 ,  B29L2031/7544 ,  B29L2031/756 ,  B81B2201/055 ,  B81C1/00111 ,  B81C2201/036

Abstract: A microneedle array is manufactured using a mold preparation procedure that begins by placing an optical mask over a layer of PMMA material, exposing the PMMA material to x-rays, then developing using a photoresist process. The remaining PMMA material is then electroplated with metal. Once the metal has reached an appropriate thickness, it is detached to become a metal mold that is used in a microembossing procedure, in which the metal mold is pressed against a heated layer of plastic material. Once the mold is pressed down to its proper distance, the plastic material is cooled until solidified, and the mold is then detached, thereby leaving behind an array of microneedles. If the microneedles are hollow, then an additional procedure is used to create through-holes all the way through the underlying substrate material using laser optical means.

Abstract translation: 使用模具制备程序制造微针阵列，其通过在PMMA材料层上放置光学掩模开始，将PMMA材料暴露于x射线，然后使用光致抗蚀剂工艺显影。 然后将剩余的PMMA材料用金属电镀。 一旦金属达到适当的厚度，就将其分离成为用于微压制程序的金属模具，其中金属模具被压在加热的塑料材料层上。 一旦将模具按压到适当的距离，塑料材料被冷却直到固化，然后将模具分离，从而留下一组微针。 如果微针是中空的，则使用附加的程序来使用激光光学装置一直穿过下面的衬底材料。

公开(公告)号：TWI227371B

公开(公告)日：2005-02-01

申请号：TW092113494

申请日：2003-05-19

Applicant: 日立製作所股份有限公司 HITACHI, LTD.

Inventor： 長谷川滿 ,  宮內昭浩

IPC: G03F

CPC classification number: B82Y10/00 ,  B29C33/424 ,  B29C43/36 ,  B81C99/009 ,  B81C2201/036 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0017 ,  H01L21/76817

Abstract: 本發明是關於一種壓模及其製造方法，及圖案複印方法，特別是關於一種以低成本進行微細圖案複印所需的壓模或方法。
一種壓模，其特徵為：具有基板，及形成於該基板的其中一方表面的高度不相同的複數凸部；該凸部中高度較高的凸部是將至少兩種類以上材料至少層積至少兩種以上的層積構造。
依照本發明，可總括複印複數圖案之故，因而與習知的微影成像技術或刻印技術相比較得到可減低製造成本的效果。

Abstract in simplified Chinese: 本发明是关于一种压模及其制造方法，及图案复印方法，特别是关于一种以低成本进行微细图案复印所需的压模或方法。 一种压模，其特征为：具有基板，及形成于该基板的其中一方表面的高度不相同的复数凸部；该凸部中高度较高的凸部是将至少两种类以上材料至少层积至少两种以上的层积构造。 依照本发明，可总括复印复数图案之故，因而与习知的微影成像技术或刻印技术相比较得到可减低制造成本的效果。

公开(公告)号：JP5684985B2

公开(公告)日：2015-03-18

申请号：JP2009520008

申请日：2007-07-16

Applicant: サントル ナショナル ドゥ ラ ルシェルシュ シアンティフィク ,  サントル ナショナル ドゥ ラ ルシェルシュ シアンティフィク ,  ユニベルシテ ピエール エ マリーキュリー(パリ 6)Universite Pierre Et Marie Curie(Paris 6) ,  ユニベルシテ ピエール エ マリー キュリー(パリ 6)Universite Pierre Et Marie Curie(Paris 6)

Inventor： ステュダー，ヴィンセント ,  バルトロ，デニス ,  デグレ，ジュラーム

IPC: B81C3/00 ,  B81C99/00 ,  B01J19/00 ,  G01N37/00

CPC classification number: B81C1/00119 ,  B81B2201/058 ,  B81B2203/0323 ,  B81C2201/036 ,  B81C2203/032 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  Y10T137/0491 ,  Y10T137/2224 ,  Y10T137/598 ,  Y10T428/31504 ,  Y10T428/31663

公开(公告)号：JP2011513162A

公开(公告)日：2011-04-28

申请号：JP2009551711

申请日：2008-02-27

Applicant: コーニング インコーポレイテッド

Inventor： ダブリュ タナー，キャメロン ,  エル ダヌー，ティエリ ,  ペー マルケス，ガスパル ,  エム モレナ，ロバート

IPC: C03B11/00 ,  B01J19/00 ,  B81C99/00 ,  C03C8/14

CPC classification number: C03B11/084 ,  B81B2201/051 ,  B81C99/0085 ,  B81C2201/019 ,  B81C2201/036 ,  C03B2215/07

Abstract: 第１の面を有する第１の構造を提供する工程、パターン付であり、多孔質である、第２の面を有する第２の構造を提供する工程、第１の面と第２の面の間にガラス含有組成物塊を配する工程、次いで、重力または別途に印加される力の下で第１の構造と第２の構造が互いに近づき、よってガラス含有組成物塊に第２の面のパターンが成形されるように、ガラス含有組成物塊を軟化させるに十分に第１の構造と第２の構造及びガラス含有組成物塊をともに加熱する工程、次いで、ガラス含有組成物塊を安定させるに十分にガラス含有組成物塊を冷却する工程を含む、ガラス及びガラス組成物を成型する方法。 第２の構造は開放多孔度が少なくとも５％の多孔質カーボンを含み、ガラス含有組成物塊はガラス含有組成物塊に損傷を与えずに、または、第２の面が再使用のための状態にあるように、第２の面に損傷を与えずに、第２の面から取り外すことができる。