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公开(公告)号：TW201530251A
公开(公告)日：2015-08-01
申请号：TW103139808
申请日：2014-11-17
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 詹森 馬騰 馬吉斯 馬利努斯 , JANSEN, MAARTEN MATHIJS MARINUS , 亞利亞司 埃斯皮諾札 朱安 狄亞哥 , ARIAS ESPINOZA, JUAN DIEGO , 戴 卡斯特 喬漢斯 皮德斯 漢利克斯 , DE KUSTER, JOHANNES PETERUS HENRICUS
IPC: G03F1/48 , H01L21/027 , B08B17/02
Abstract: 一種用於製造一表膜之裝置，該裝置包含：用於加應力於一薄膜之一加應力總成；及用於支撐一基板之一基板支撐件，該加應力總成及該基板支撐件能夠相對移動以便在該薄膜受應力時使該基板與該薄膜接觸。
Abstract in simplified Chinese: 一种用于制造一表膜之设备，该设备包含：用于加应力于一薄膜之一加应力总成；及用于支撑一基板之一基板支撑件，该加应力总成及该基板支撑件能够相对移动以便在该薄膜受应力时使该基板与该薄膜接触。
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公开(公告)号：TW201527901A
公开(公告)日：2015-07-16
申请号：TW103142907
申请日：2014-12-09
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 凡 多姆倫 尤瑞 喬漢那 勞瑞提斯 瑪利亞 , VAN DOMMELEN, YOURI JOHANNES LAURENTIUS MARI , 凱瑟絲 蓮博特絲 姬德絲 馬莉雅 , KESSELS, LAMBERTUS GERARDUS MARIA , 丹 包伊夫 亞歷 傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 希尼 保羅 克利絲丁安 , HINNEN, PAUL CHRISTIAAN , 英布隆 彼得 大衛 , ENGBLOM, PETER DAVID , 巴塔哈爾亞 卡司徒夫 , BHATTACHARYYA, KAUSTUVE , 彼得氏 瑪可 喬漢娜 安瑪莉 , PIETERS, MARCO JOHANNES ANNEMARIE
CPC classification number: G03F7/70641 , G03F7/70683
Abstract: 本發明揭示一種用於獲得與一微影程序相關之焦點資訊之方法及裝置。該方法包括：照明一目標，該目標具有交替之第一結構及第二結構，其中該等第二結構之形式係焦點相依的，而該等第一結構之形式不具有與該等第二結構之焦點相依性相同的焦點相依性；及偵測由該目標重導向之輻射以針對彼目標獲得表示該目標之一整體不對稱性的一不對稱性量測，其中該不對稱性量測指示形成該目標之光束之焦點。本發明揭示一種用於形成此目標之關聯光罩，及一種具有此目標之基板。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种用于获得与一微影进程相关之焦点信息之方法及设备。该方法包括：照明一目标，该目标具有交替之第一结构及第二结构，其中该等第二结构之形式系焦点相依的，而该等第一结构之形式不具有与该等第二结构之焦点相依性相同的焦点相依性；及侦测由该目标重导向之辐射以针对彼目标获得表示该目标之一整体不对称性的一不对称性量测，其中该不对称性量测指示形成该目标之光束之焦点。本发明揭示一种用于形成此目标之关联光罩，及一种具有此目标之基板。
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公开(公告)号：TWI490660B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW099115701
申请日：2010-05-17
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 戴莉茲 馬賽爾 麥西斯 希爾多爾 馬里亞 , DIERICHS, MARCEL MATHIJS THEODORE MARIE , 俄林斯 馬可斯 法蘭西斯 安東尼奧斯 , EURLINGS, MARKUS FRANCISCUS ANTONIUS , 凡 葛瑞柏克 亨得瑞克 羅伯特 馬連 , VAN GREEVENBROEK, HENDRIKUS ROBERTUS MARIE , 夫威傑 安東尼 亨佐克 , VERWEIJ, ANTONIE HENDRIK
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70941 , G03F7/70066 , G03F7/70075 , G03F7/70283
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公开(公告)号：TWI489155B
公开(公告)日：2015-06-21
申请号：TW100131687
申请日：2007-07-25
Applicant: 艾司摩爾荷蘭股份有限公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 伯威林 諾貝特R , BOWERING, NORBERT R. , 佛蒙柯維 伊格爾V , FOMENKOV, IGOR V.
CPC classification number: G03F7/7015 , G02B5/0891 , G02B7/182 , G21K1/062 , Y10T29/49982
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公开(公告)号：TW201524272A
公开(公告)日：2015-06-16
申请号：TW104107599
申请日：2010-04-07
Applicant: 艾司摩爾荷蘭股份有限公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 派特洛 威廉N , PARTLO, WILLIAM N. , 佛門哥 伊克爾V , FOMENKOV, IGOR V.
CPC classification number: H05G2/005 , G03F7/70033 , G21K5/00 , H05G2/003 , H05G2/006
Abstract: 一種用於極紫外線光腔室之系統與方法，該系統包含括一收集器鏡、一耦合至該收集器鏡背部之可操作以冷卻該收集器鏡之一反射表面的冷卻系統、以及一耦合至該極紫外線光腔室的緩衝氣源。
Abstract in simplified Chinese: 一种用于极紫外线光腔室之系统与方法，该系统包含括一收集器镜、一耦合至该收集器镜背部之可操作以冷却该收集器镜之一反射表面的冷却系统、以及一耦合至该极紫外线光腔室的缓冲气源。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：TWI488544B
公开(公告)日：2015-06-11
申请号：TW099109384
申请日：2010-03-29
Applicant: 艾司摩爾荷蘭股份有限公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 維斯晨庫 喬治O , VASCHENKO, GEORGIY O. , 拉瑪杜拉 克利斯那 , RAMADURAI, KRISHNA , 塔迪肯 理查 C , TADDIKEN, RICHARD C.
CPC classification number: G05D7/0635 , G03F7/70033 , G03F7/70483 , G03F7/70825 , G03F7/7085 , H05G2/003 , H05G2/005 , H05G2/006 , Y10T137/0379 , Y10T137/7727
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公开(公告)号：TWI488009B
公开(公告)日：2015-06-11
申请号：TW100108386
申请日：2011-03-11
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 添 凱特 尼可拉斯 , TEN KATE, NICOLAAS , 歐頓 喬斯特 捷恩 , OTTENS, JOOST JEROEN , 卡拿倫 巴斯丁 安卓亞 威廉 休伯特 , KNARREN, BASTIAAN ANDREAS WILHELMUS HUBERTUS , 夫哥德 羅伯特 真 , VOOGD, ROBBERT JAN , 尼諾 佐凡尼 法蘭西斯坷 , NINO, GIOVANNI FRANCISCO , 瑞米 瑪里努斯 珍 , REMIE, MARINUS JAN , 賈庫博 喬漢斯 亨利哈斯 威廉瑪斯 , JACOBS, JOHANNES HENRICUS WILHELMUS , 勞倫 帝寶 賽門 馬修 , LAURENT, THIBAULT SIMON MATHIEU , 庫尼 約翰 葛卓迪斯 寇尼里斯 , KUNNEN, JOHAN GERTRUDIS CORNELIS
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70875 , G03F7/7085
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148.发明专利
公开(公告)号：TWI486801B
公开(公告)日：2015-06-01
申请号：TW097120749
申请日：2008-06-04
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
IPC: G06F17/50 , H01L21/027
CPC classification number: G06F17/5009 , G03F1/36 , G03F7/70433 , G03F7/70441 , G03F7/70666
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公开(公告)号：TWI486724B
公开(公告)日：2015-06-01
申请号：TW101128493
申请日：2012-08-07
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 德 賈格 皮耶特 威廉 荷曼 , DE JAGER, PIETER WILLEM HERMAN , 白尼 凡丁 葉弗真葉米希 , BANINE, VADIM YEVGENYEVICH , 柏利克 阿諾 詹 , BLEEKER, ARNO JAN , 凡 德 蕭特 海曼 克萊斯 , VAN DER SCHOOT, HARMEN KLAAS , 史蒂文生 路卡斯 亨利克斯 喬漢斯 , STEVENS, LUCAS HENRICUS JOHANNES , 費爾莫默朗 約翰內斯 佩特魯斯 馬丁努斯 伯納德斯 , VERMEULEN, JOHANNES PETRUS MARTINUS BERNARDUS , 威斯特 山達 佛芮得瑞克 , WUISTER, SANDER FREDERIK
IPC: G03F7/20
CPC classification number: B41C1/1091 , C23C14/28 , G03F7/70375 , G03F7/70383
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公开(公告)号：TW201518870A
公开(公告)日：2015-05-16
申请号：TW103126488
申请日：2014-08-01
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/70275 , G03F7/70391 , G03F7/704
Abstract: 本發明揭示一種微影裝置及可程式化圖案化器件，其包括：一調變器，其經組態以將基板之一曝光區域曝光至根據一所要圖案而調變之複數個光束；及一投影系統，其經組態以將該等經調變光束投影至該基板上。該調變器包含複數個VECSEL或VCSEL。該投影系統可包含以一利薩如圖案而振盪之一波帶片陣列。該波帶片陣列可包含以一個二維陣列而配置之透鏡，其中該等透鏡係以一個三角形佈局而配置。一種微影系統可包含複數個該等微影裝置，至少一微影裝置配置於另一微影裝置上方。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种微影设备及可进程化图案化器件，其包括：一调制器，其经组态以将基板之一曝光区域曝光至根据一所要图案而调制之复数个光束；及一投影系统，其经组态以将该等经调制光束投影至该基板上。该调制器包含复数个VECSEL或VCSEL。该投影系统可包含以一利萨如图案而振荡之一波带片数组。该波带片数组可包含以一个二维数组而配置之透镜，其中该等透镜系以一个三角形布局而配置。一种微影系统可包含复数个该等微影设备，至少一微影设备配置于另一微影设备上方。
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