公开(公告)号：WO2012024131A3

公开(公告)日：2012-02-23

申请号：PCT/US2011/047299

申请日：2011-08-10

Applicant: RASIRC, INC. ,  ASML NETHERLANDS B. V. ,  SPIEGELMAN, Jeffrey, J. ,  HOLMES, Russell, J. ,  ALVAREZ, Daniel ,  SCACCABAROZZI, Luigi ,  DONDERS, Sjoerd, Nicolaas Lambertus ,  CASTELIJNS, Henricus, Jozef

Inventor： SPIEGELMAN, Jeffrey, J. ,  HOLMES, Russell, J. ,  ALVAREZ, Daniel ,  SCACCABAROZZI, Luigi ,  DONDERS, Sjoerd, Nicolaas Lambertus ,  CASTELIJNS, Henricus, Jozef

IPC: B08B3/04

Abstract: A method (500) for cleaning an article such as a EUV (extreme ultraviolet) lithography reticle is provided. The method includes evacuating a cleaning chamber and loading the article to be cleaned into the cleaning chamber (510); preparing the environment of the chamber (520) by connecting the cleaning chamber to a vapor source while controlling pressure in the cleaning chamber to a predetermined pressure; controlling a temperature of the article relative to a temperature of the vapor source so as to form a liquid film (530) over the article and over particles present on the article; isolating the cleaning chamber from the vapor source; evaporating the liquid film (540) by exposing the cleaning chamber to one or more condensing surfaces whose temperature is lower than that of the article, the evaporating liquid transporting at least a portion of the particles away from the article, which is then unloaded from the chamber (560). The cleaning steps (520 to 540) can be repeated (550) as desired.

公开(公告)号：WO2009129960A1

公开(公告)日：2009-10-29

申请号：PCT/EP2009/002782

申请日：2009-04-16

Applicant: ASML NETHERLANDS B. V., ,  SCACCABAROZZI, Luigi ,  IVANOV, Vladimir, Vitalevitch ,  KOSHELEV, Konstantin, Nikolaevich ,  MOORS, Johannes, Hubertus, Josephina ,  STEVENS, Lucas, Henricus, Johannes ,  ANTSIFEROV, Pavel, Stanislavovich ,  KRIVTSUN, Vladimir, Mihailovitch ,  DOROKHIN, Leonid, Alexandrovich ,  VAN KAMPEN, Maarten

Inventor： SCACCABAROZZI, Luigi ,  IVANOV, Vladimir, Vitalevitch ,  KOSHELEV, Konstantin, Nikolaevich ,  MOORS, Johannes, Hubertus, Josephina ,  STEVENS, Lucas, Henricus, Johannes ,  ANTSIFEROV, Pavel, Stanislavovich ,  KRIVTSUN, Vladimir, Mihailovitch ,  DOROKHIN, Leonid, Alexandrovich ,  VAN KAMPEN, Maarten

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70925

Abstract: A lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a beam of radiation, and a support structure configured to support a patterning device. The patterning device is configured to impart a pattern to the beam of radiation. The apparatus includes a patterning device cleaning system configured to provide an electrostatic force to contaminant particles that are on the patterning device and that are electrically charged by the beam of radiation, in order to remove the contaminant particles from the patterning device.

Abstract translation: 光刻设备包括被配置为调节辐射束的照明系统和被配置为支撑图案形成装置的支撑结构。 图案形成装置被配置为向辐射束施加图案。 该装置包括图案形成装置清洁系统，该图案形成装置清洁系统被配置为向图案形成装置上的污染物颗粒提供静电力，并且由辐射束对其进行带电，以便从图案形成装置移除污染物颗粒。

公开(公告)号：WO2005081069A1

公开(公告)日：2005-09-01

申请号：PCT/NL2005/000129

申请日：2005-02-22

Applicant: ASML Netherlands B. V. ,  VAN DER LAAN, Hans ,  CARPAIJ, Rene, Hubert, Jacobus ,  CRAMER, Hugo, Augustinus, Joseph ,  KIERS, Antoine, Gaston, Marie

Inventor： VAN DER LAAN, Hans ,  CARPAIJ, Rene, Hubert, Jacobus ,  CRAMER, Hugo, Augustinus, Joseph ,  KIERS, Antoine, Gaston, Marie

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/66

CPC classification number: G03F7/70683 ,  G01N21/274 ,  G01N21/278 ,  G01N21/47 ,  G01N21/4785 ,  G01N21/4788 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/95607 ,  G01N2021/95615 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70508 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70641

Abstract: A method according to an embodiment includes obtaining calibration measurement data, with an optical detection apparatus, from a plurality of marker structure sets provided on a calibration substrate. Each marker structure set includes at least one calibration marker structure created using different known values of the process parameter. The method includes obtaining measurement data, with the optical detection apparatus, from at least on marker structure provided on a substrate and exposed using an unknown value of the process parameter; and determining the unknown value of the process parameter from the obtained measurement data by employing regression coefficients in a model based on the known values of the process parameter and the calibration measurement data.

Abstract translation: 根据实施例的方法包括从设置在校准基板上的多个标记结构集合，利用光学检测装置获得校准测量数据。 每个标记结构集包括使用过程参数的不同已知值创建的至少一个校准标记结构。 该方法包括使用光学检测装置从至少在基板上提供的标记结构上获得测量数据，并使用未知的工艺参数值进行曝光; 以及基于所述过程参数和所述校准测量数据的已知值，通过使用模型中的回归系数，从所获得的测量数据中确定所述过程参数的未知值。

公开(公告)号：TWI692993B

公开(公告)日：2020-05-01

申请号：TW104100987

申请日：2015-01-12

Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 俄林斯 馬可斯 法蘭西斯 安東尼奧斯 ,  EURLINGS, MARKUS FRANCISCUS ANTONIUS ,  克理門司 尼可 安東尼司 傑科伯司 瑪麗亞 ,  KLEEMANS, NIEK ANTONIUS JACOBUS MARIA ,  凡 迪及西爾當克 安東尼爾斯 喬漢尼司 喬瑟夫司 ,  VAN DIJSSELDONK, ANTONIUS JOHANNES JOSEPHUS ,  霍夫札 羅門 馬克 ,  HOFSTRA, RAMON MARK ,  諾德曼 奧斯卡 法蘭西斯 喬瑟夫 ,  NOORDMAN, OSCAR FRANCISCUS JOZEPHUS ,  法姆 田 南 ,  PHAM, TIEN NANG ,  凡 沙特 珍 伯納德 波萊奇莫斯 ,  VAN SCHOOT, JAN BERNARD PLECHELMUS ,  王俊程 ,  WANG, JIUN CHENG ,  張 衛民 ,  ZHANG, KEVIN WEIMIN

IPC: H05G2/00 ,  G03F7/20

公开(公告)号：TWI681692B

公开(公告)日：2020-01-01

申请号：TW104139984

申请日：2015-11-30

Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 張 衛民 ,  ZHANG, KEVIN WEIMIN ,  普維斯 麥可 安東尼 ,  PURVIS, MICHAEL ANTHONY ,  拉法斯 羅伯特 傑 ,  RAFAC, ROBERT JAY ,  夏夫甘納斯 亞歷山德 安東尼 ,  SHAFGANS, ALEXANDER ANTHONY

IPC: H05G2/00

公开(公告)号：TWI679492B

公开(公告)日：2019-12-11

申请号：TW104137750

申请日：2015-11-16

Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 凡 丹 慕蘭 佛利茲 ,  VAN DER MEULEN, FRITS ,  詹森 馬騰 馬吉斯 馬利努斯 ,  JANSEN, MAARTEN MATHIJS MARINUS ,  阿瑟瑞多 喬治 瑪紐爾 ,  AZEREDO LIMA, JORGE MANUEL ,  布朗司 德克 瑟華提思 傑卓達 ,  BROUNS, DERK SERVATIUS GERTRUDA ,  布魯吉 馬克 ,  BRUIJN, MARC ,  戴克斯 傑洛恩 ,  DEKKERS, JEROEN ,  簡森 保羅 ,  JANSSEN, PAUL ,  卡默 羅納 哈莫 剛瑟 ,  KRAMER, RONALD HARM GUNTHER ,  可魯依寧嘉 馬提亞斯 ,  KRUIZINGA, MATTHIAS ,  蘭博根 羅博特 嘉博爾 瑪利亞 ,  里恩德斯 馬汀斯 漢德利克斯 安東尼斯 ,  LEENDERS, MARTINUS HENDRIKUS ANTONIUS ,  洛卜史塔 艾瑞克 羅勒夫 ,  LOOPSTRA, ERIK ROELOF ,  凡 登 波許 吉瑞特 ,  VAN DEN BOSCH, GERRIT ,  凡 路 吉羅美 法蘭西歐斯 斯洛凡 凡吉兒 ,  凡布魯吉 畢兒翠斯 路意斯 瑪莉 喬瑟夫 凱翠恩 ,  VERBRUGGE, BEATRIJS LOUISE MARIE-JOSEPH KATRIEN ,  提 克拉克 安居落 賽薩 彼得 ,  DE KLERK, ANGELO CESAR PETER ,  迪恩斯 賈寇巴斯 瑪麗亞 ,  DINGS, JACOBUS MARIA ,  詹森 摩理斯 理奧納多斯 裘漢那斯 ,  JANSSEN, MAURICE LEONARDUS JOHANNES ,  克利斯坦 羅蘭德 賈寇巴斯 裘漢那斯 ,  KERSTENS, ROLAND JACOBUS JOHANNES ,  克斯特 馬汀那斯 裘瑟夫 瑪麗亞 ,  KESTERS, MARTINUS JOZEF MARIA ,  路斯 米契兒 ,  LOOS, MICHEL ,  米德兒 吉爾特 ,  MIDDEL, GEERT ,  瑞吉德爾斯 斯洛維斯特 瑪修斯 ,  REIJNDERS, SILVESTER MATHEUS ,  索爾席特 法蘭克 裘漢那斯 克利斯坦 ,  THEUERZEIT, FRANK JOHANNES CHRISTIAAN ,  凡 理玟努根 安妮 裘漢那斯 威爾赫瑪斯 ,  VAN LIEVENOOGEN, ANNE JOHANNES WILHELMUS

IPC: G03F1/62

公开(公告)号：TWI679491B

公开(公告)日：2019-12-11

申请号：TW104137749

申请日：2015-11-16

Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V. ,  荷蘭商ASML控股公司 ,  ASML HOLDING N. V.

Inventor： 可魯依寧嘉 馬提亞斯 ,  KRUIZINGA, MATTHIAS ,  詹森 馬騰 馬吉斯 馬利努斯 ,  JANSEN, MAARTEN MATHIJS MARINUS ,  阿瑟瑞多 喬治 瑪紐爾 ,  AZEREDO LIMA, JORGE MANUEL ,  寶賈特 艾瑞克 威廉 ,  BOGAART, ERIK WILLEM ,  布朗司 德克 瑟華提思 傑卓達 ,  BROUNS, DERK SERVATIUS GERTRUDA ,  布魯吉 馬克 ,  BRUIJN, MARC ,  布魯斯 理查 喬瑟夫 ,  BRULS, RICHARD JOSEPH ,  戴克斯 傑洛恩 ,  DEKKERS, JEROEN ,  簡森 保羅 ,  JANSSEN, PAUL ,  卡馬利 莫哈瑪德 瑞莎 ,  KAMALI, MOHAMMAD REZA ,  卡默 羅納 哈莫 剛瑟 ,  KRAMER, RONALD HARM GUNTHER ,  蘭博根 羅博特 嘉博爾 瑪利亞 ,  里恩德斯 馬汀斯 漢德利克斯 安東尼斯 ,  LEENDERS, MARTINUS HENDRIKUS ANTONIUS ,  里普森 馬修 ,  LIPSON, MATTHEW ,  洛卜史塔 艾瑞克 羅勒夫 ,  LOOPSTRA, ERIK ROELOF ,  黎昂斯 喬瑟夫H ,  LYONS, JOSEPH H ,  露克司 史蒂芬 ,  ROUX, STEPHEN ,  凡 登 波許 吉瑞特 ,  VAN DEN BOSCH, GERRIT ,  凡 登 海吉坎特 山德 ,  VAN DEN HEIJKANT, SANDER ,  凡 得 葛絡夫 珊卓拉 ,  VAN DER GRAAF, SANDRA ,  凡 丹 慕蘭 佛利茲 ,  VAN DER MEULEN, FRITS ,  凡 路 吉羅美 法蘭西歐斯 斯洛凡 凡吉兒 ,  凡布魯吉 畢兒翠斯 路意斯 瑪莉 喬瑟夫 凱翠恩 ,  VERBRUGGE, BEATRIJS LOUISE MARIE-JOSEPH K

IPC: G03F1/62

公开(公告)号：TWI666654B

公开(公告)日：2019-07-21

申请号：TW104124119

申请日：2015-07-24

Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 塞奈凱里米恩 法漢 ,  SENEKERIMYAN, VAHAN ,  普維斯 麥可A ,  PURVIS, MICHAEL A. ,  丁 捷 ,  DING, JIE

IPC: G21K5/00

公开(公告)号：TWI663481B

公开(公告)日：2019-06-21

申请号：TW104113094

申请日：2015-04-23

Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 貝瑞登森 克里斯提耶納斯 威爾漢瑪斯 裘漢斯 ,  BERENDSEN, CHRISTIANUS WILHELMUS JOHANNES ,  麥卡爾斯 麥塞爾 ,  BECKERS, MARCEL ,  卡泰恩司 亨利克斯 裘塞夫 ,  CASTELIJNS, HENRICUS JOZEF ,  葛雷茲 荷伯特斯 安東尼斯 ,  GERAETS, HUBERTUS ANTONIUS ,  克佛耶茲 安卓尼斯 亨瑞克 ,  KOEVOETS, ADRIANUS HENDRIK ,  李維榭 李昂 馬汀 ,  LEVASIER, LEON MARTIN ,  史洽普 彼得 ,  SCHAAP, PETER ,  史崔弗科 包伯 ,  STREEFKERK, BOB ,  特洛普 塞弗烈德 亞歷山德 ,  TROMP, SIEGFRIED ALEXANDER

IPC: G03F7/20

公开(公告)号：TWI650045B

公开(公告)日：2019-02-01

申请号：TW103129530

申请日：2014-08-27

Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 艾瑟夫 亞歷山大I ,  ERSHOV, ALEXANDER I. ,  伯克 傑瑞米 ,  BURKE, JEREMY

IPC: H05G2/00