Abstract:
인쇄가능한 고내열성 발열 페이스트 조성물이 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 발열 페이스트 조성물은 탄소나노튜브 입자 및 그라파이트 입자를 포함하는 전도성 입자; 에폭시 아크릴레이트 또는 헥사메틸렌 디이소시아네이트,폴리비닐 아세탈 및 페놀계 수지가 혼합된 혼합 바인더; 유기 용매; 및 분산제를 포함한다.
Abstract:
산화아연 나노와이어 압전필름 및 그 제조방법이 개시된다. 본 발명의 일실시예에 따른 산화아연 나노와이어 압전필름 및 그 제조방법은 유연기판; 유연기판 상에 마련되는 하부전극; 하부전극 상에 수직 성장되는 산화아연 나노와이어; 및 산화아연 나노와이어를 캐핑(capping)시키는 캐핑 레이어를 포함하고, 캐핑 레이어는 폴리실라잔, 실세스퀴옥산 및 실란 화합물을 포함하는 코팅액으로 형성된다.
Abstract:
본 발명은 수직 성장하는 ZnO 나노 구조체를 액상으로 성장시키기 위해, 씨드(seed) 층을 형성할 때 사용하는 전구체 용액에 고분자 입자를 혼합함으로써, 생성되는 나노 구조체의 밀도를 제어하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르는 고분자 나노 입자를 이용한 나노 구조체의 밀도는, 아연 전구체 용액에 고분자 입자를 첨가하여 혼합하는 단계; 상기 고분자 입자가 혼합된 아연 전구체 용액을 기판상에 도포하고, 안정화하는 단계; 상기 기판을 열처리하여 고분자 입자를 제거하여 씨드 층을 형성하는 단계; 상기 씨드 층 상에 나노 와이어 구조체를 성장시키는 단계에 의해 제어되는 것을 구성적 특징으로 한다.
Abstract:
본 발명은 실리콘 기판 등의 다양한 기판 위에 수직 성장하는 산화아연 나노 구조체의 밀도 조절에 관한 것으로, 보다 상세하게는 액상 성장 방법으로 산화아연 나노 구조체를 성장시키며, 이를 위해 시드층을 형성할 때 사용하는 전구체 용액을 조절하여 성장된 구조체의 밀도 조절에 관한 것이다. 본 발명에 따른 산화아연 나노 구조체 밀도 제어 방법은, 산화아연 시드층(ZnO seed layer)을 형성하는 방법에 있어서, 산화아연 전구체 용액에 불순물 입자를 분산시키는 단계; 분산된 혼합물을 기판 위에 스핀코팅(spin coating)으로 도포하는 단계; 기판을 열처리(heat treatment)하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하며, 또한 나노 구조체를 성장시키는 방법에 있어서, 시드 용액 제조시, 산화아연 전구체 용액에 불순물 입자를 분산시키며, 불순물 입자의 크기와 농도를 조절하는 것을 특징으로 한다.
Abstract:
PURPOSE: A manufacturing method of a droplet delivery nozzle is provided to solve a current problem by using an insulating material. CONSTITUTION: A manufacturing method of a droplet delivery nozzle comprises a step of attaching a first DFR(Dry Film Resist) on the rear side of a substrate(107); a step of patterning the first DFR; a step of processing the rear side of the substrate; a step of attaching the second DFR to the front side of the substrate; a step of patterning the second DFR; a step of processing the front side of the substrate; a step of attaching the third DFR to the front side of the substrate; a step of patterning the third DFR; a step of forming the outer diameter of the nozzle by processing the front side of the substrate; and a step of removing the DFR patterns on the front side and the rear side of the substrate. [Reference numerals] (104) Connecting part; (106) Substrate fixing device; (107) Substrate; (AA) Connected with an ink container; (BB) Ink; (CC) Nozzle
Abstract:
PURPOSE: A capacitive droplet ejecting apparatus having two-dimensional array multi nozzle is provided to be equipped with a fine pitch by arranging a nozzle in two dimensional way and form a gate electrode in parallel with the nozzle for stable discharging. CONSTITUTION: A capacitive droplet ejecting apparatus having two-dimensional array multi nozzle comprises a main body storing ink and a nozzle(120) which is equipped in the main body to discharge the ink droplet on a plate. Several nozzles are prepared and arranged against the plate. Each nozzle is separated to be arranged on the main body in a two dimensional way. The nozzle comprises a nozzle main body(121) and a nozzle guiding part(122). The nozzle main body is equipped in the main body which has the ink moving. The nozzle guiding part sticks out of the main nozzle body and guides the ink to the plate. A gate electrode part is equipped in the nozzle.
Abstract:
본 발명은 ZnO 나노와이어 대면적 전지소자 성장 시스템에 관한 것이다. 이러한 본 발명은 기판이 장착을 위한 기판 홀더가 내부에 배치되며, 성장 용액이 주입되는 ZnO 성장 배스 및 상기 ZnO 성장 배스를 감싸며 상기 ZnO 성장 배스 전체에 고르게 일정한 열을 제공하는 순환 더블 자켓형 배스를 포함하는 ZnO 나노와이어 대면적 전지소자 성장 시스템의 구성을 개시한다. 본 발명에 따르면, 균일한 밀도와 길이 및 직경을 가지는 대면적의 ZnO 나노와이어 전지소자를 성장시킬 수 있다.
Abstract:
PURPOSE: A method for forming an organic thin film is provided to improve efficiency of an organic solar cell by uniformly forming the organic thin film on the surface of a zinc oxide nanostructure body. CONSTITUTION: An oxide nanostructure is formed on a substrate(S100). The substrate in which the oxide nanostructure is formed is arranged within a cell for supercritical formation(S200). An organic solution consisting of an organic compound and a solvent is provided to the inner side of the cell for the supercritical formation(S300). Temperature and pressure within the cell for the supercritical formation are controlled(S400). A carbon dioxide is provided within the cell for the supercritical formation(S500). A supercritical state is maintained in order to coat the organic compound with the oxide nanostructure(S600). A supercritical carbon dioxide and an organic compound solvent are eliminated(S700).