公开(公告)号：JPWO2015098662A1

公开(公告)日：2017-03-23

申请号：JP2015524955

申请日：2014-12-17

Applicant: Dic株式会社 ,  Dic株式会社

Inventor： 武史 伊部 ,  武史 伊部 ,  真 矢田 ,  真 矢田

IPC: H01L21/027 ,  B29C59/02 ,  C08L25/02 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20

CPC classification number: C08F12/36 ,  B29C59/026 ,  B81C2201/0153 ,  C08F12/32 ,  C08F12/34 ,  C08F257/00 ,  C08K5/00 ,  C08L101/02 ,  C09D125/16 ,  G03F7/0002 ,  H01L21/31144

Abstract: ビニル基が連結された芳香族基を含む特定の構造を側鎖に有する重合体(A)を含有するドライエッチングレジスト用硬化性樹脂組成物であって、該重合体(A)中の特定の構造が重合体(A)中で80〜100重量%であることを特徴とする、ドライエッチングレジスト用硬化性樹脂組成物を提供するものである。また、該ドライエッチングレジスト用硬化性組成物を硬化してなることを特徴とする、ドライエッチング用レジストマスク、及び、ナノインプリント法によるパターンを有するものであるドライエッチング用レジストマスクを提供するものである。

公开(公告)号：JP2014533211A

公开(公告)日：2014-12-11

申请号：JP2014532052

申请日：2012-09-22

Applicant: 1366 テクノロジーズ インク. ,  1366 テクノロジーズ インク.

Inventor： サチス，エマヌエル，エム．

IPC: B29C59/02 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L31/18 ,  B29C33/40 ,  B29C33/42 ,  B29C33/424 ,  B29C43/021 ,  B29C2033/426 ,  B29C2043/025 ,  B29C2059/023 ,  B81C99/0085 ,  B81C2201/0153 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

Abstract: 基板上の流動性レジスト材料にパターンを形成する方法は、スタンプくさび割工程中、レジストが基板とくさび形突起間のスタンプ底面との間の空間を完全に充填せず、間のすべての場所に間隙を残すようにレジスト層を極薄く設けることを含む。間隙はレジストとスタンプ拡張面との間に残る。蒸着されるレジスト層が目標量よりもやや厚い場合、単にレジストとツールとの間の間隙が小さくなる。連続的間隙の存在により、圧力がスタンプ下に蓄積されないように確保される。よって、突起への力がスタンプ上方の圧力によってのみ決定されて良好に制御され、適切に制御されたサイズの穴が形成される。間隙は、レジストがどの領域からも完全に押し出されてしまうのを防ぐので、該領域がレジストによって未被覆となるのを防ぐ。スタンプは基板と接触して脈動させて、凹ませる突起を繰り返し変形させることができる。通常の期間の通常のエッチングが基板材料を一掃する程度と比較するエッチングテストで判定されるとおり、何回かの脈動で1回の脈動よりもスカム層が一掃される。基板上の流動性レジスト材料にパターンを形成する方法は、スタンプくさび割工程中、レジストが基板とくさび形突起間のスタンプ底面との間の空間を完全に充填せず、間のすべての場所に間隙を残すようにレジスト層を極薄く設けることを含む。間隙はレジストとスタンプ拡張面間に残る。【選択図】図7

Abstract translation: 成形冲压楔分割步骤期间在可流动的图案的抗蚀剂在衬底上的材料的方法，所述抗蚀剂不完全填充所述基板和所述楔形突起之间的印模底之间的空间中，处处之间 它包括提供非常薄的抗蚀剂层，以便留下的间隙。 间隙保持在抗蚀剂和印模延长表面之间。 当抗蚀剂层比目标量，只是之间的抗蚀剂和工具被减小的间隙沉积稍微更厚。 的连续的间隙的存在，压力确保以免压模下被积累。 因此，投影的力仅由印模的上很好地控制，形成一个适当地控制尺寸的孔中的压力确定。 间隙，因此防止抗蚀剂将从任何区域被完全压出，从而防止区域由抗蚀剂涂覆。 印模可通过脉动在与基板接触，反复变形突起凹进。 照常蚀刻正常期间通过蚀刻试验确定比较的程度，消灭了衬底材料，浮渣层扫掠多于一个脉动数次脉动。 成形冲压楔分割步骤期间在可流动的图案的抗蚀剂在衬底上的材料的方法，所述抗蚀剂不完全填充所述基板和所述楔形突起之间的印模底之间的空间中，处处之间 它包括提供非常薄的抗蚀剂层，以便留下的间隙。 间隙保持在抗蚀剂和印模延长表面之间。 点域7

公开(公告)号：JP5084728B2

公开(公告)日：2012-11-28

申请号：JP2008522785

申请日：2006-06-05

Applicant: モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド

Inventor： シュ，フランク・ワイ

IPC: H01L21/027 ,  C09D5/00 ,  C09J5/02

CPC classification number: B32B37/14 ,  B32B38/06 ,  B81C1/0046 ,  B81C2201/0153 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C08L59/00 ,  C09J5/00 ,  C09J2205/31 ,  C09J2451/00 ,  G03F7/0002 ,  Y10T156/10

Abstract: The present invention provides a method adhering a layer to a substrate that features defining first and second interfaces by having a composition present between the layer and the substrate that forms covalent bonds to the layer and adheres to the substrate employing one or more of covalent bonds, ionic bonds and Van der Waals forces. In this manner, the strength of the adhering force of the layer to the composition is assured to be stronger than the adhering force of the layer to the composition formed from a predetermined adhering mechanism, i.e., an adhering mechanism that does not include covalent bonding.

公开(公告)号：JP2012142065A

公开(公告)日：2012-07-26

申请号：JP2011252733

申请日：2011-11-18

Applicant: Seagate Technology Llc ,  シーゲイト テクノロジー エルエルシー

Inventor： XIAO SHUAIGANG ,  RENE JOHANNES MARINUS VAN DE VEERDONK ,  LEE KIM YANG ,  DAVID KUO ,  YANG XIAOMING ,  HU WEI

IPC: G11B5/84 ,  B29C59/02 ,  H01L21/027

CPC classification number: B81C1/00031 ,  B81C2201/0149 ,  B81C2201/0153 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G11B5/855

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for nano-patterning by incorporating one or more block copolymers and one or more nano-imprinting steps in a fabrication process.SOLUTION: The block copolymers may be comprised of organic or inorganic components, and may be lamellar, spherical or cylindrical. As a result, a patterned medium may be formed having one- or two-dimensional patterns with a feature pitch of 5-100 nm and/or a bit density of at least 1 Tdpsi.

Abstract translation: 要解决的问题：通过在制造过程中引入一种或多种嵌段共聚物和一种或多种纳米压印步骤来提供纳米图案化的方法。 解决方案：嵌段共聚物可以由有机或无机组分组成，并且可以是层状的，球形的或圆柱形的。 结果，可以形成具有特征间距为5-100nm和/或至少1Tdpsi的位密度的一维或二维图案的图案化介质。 版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2009263668A

公开(公告)日：2009-11-12

申请号：JP2009101189

申请日：2009-04-17

Applicant: Commissariat A L'energie Atomique ,  コミッサリア タ レネルジー アトミーク

Inventor： LANDIS STEFAN

IPC: C08J5/18 ,  B29C59/02 ,  B82B3/00

CPC classification number: B81C1/00111 ,  B81C2201/0149 ,  B81C2201/0153 ,  B82Y30/00

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing the features of nanoscale to a film and imparting a microstructure to all or part of the thickness of the film according to one specific system.
SOLUTION: The method includes the steps of: selecting at least one block copolymer which can be microstructured at a predetermined temperature according to a specific system and at least one predetermined thickness, wherein the predetermined thickness is a thickness corresponding to the thickness of a film to be microstructured in all or part thereof according to the specific system; (a) selecting at least one mold capable of imparting the predetermined thickness and the features of nanoscale by pressing on a film comprising the block copolymer; (b) pressing a film comprising the block copolymer, while heating the mold to the predetermined temperature; and (c) obtaining the film prescribed as an article.
COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于制造膜的特征的方法，并且根据一个具体系统赋予薄膜的全部或部分厚度的微结构。 解决方案：该方法包括以下步骤：根据特定系统和至少一个预定厚度，选择可在预定温度下微结构化的至少一种嵌段共聚物，其中预定厚度为对应于 根据具体系统，全部或部分微结构化的薄膜; （a）通过压制包含该嵌段共聚物的薄膜来选择能够赋予预定厚度和纳米尺度特征的至少一个模具; （b）在将模具加热到预定温度的同时压制包含嵌段共聚物的膜; 和（c）获得作为物品规定的电影。 版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2009523635A

公开(公告)日：2009-06-25

申请号：JP2008551599

申请日：2007-01-24

Applicant: マイクロラボ ピーティーワイ エルティーディーMycrolab Pty Ltd

Inventor： アトキン，ミカ，ジェームス

IPC: B29C59/02 ,  B81C99/00 ,  H05K3/00 ,  H05K3/04

CPC classification number: B01L3/502707 ,  B01L2200/12 ,  B01L2300/0816 ,  B01L2300/0887 ,  B29C59/022 ,  B32B38/00 ,  B32B38/0008 ,  B32B38/162 ,  B32B39/00 ,  B32B2038/1891 ,  B32B2310/0831 ,  B32B2310/14 ,  B32B2425/00 ,  B32B2457/08 ,  B81C1/0046 ,  B81C2201/0153

Abstract: 【解決手段】基板（Ｓ）上にスタンプ形状部（Ｐ）を形成する方法は、基板の少なくとも一方の表面に複数のスタンピングツールセグメント（３２，４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，５０，６０，７０，８０，９２）を押し当てる段階を含む。 基板（Ｓ）上にスタンプ形状部（Ｐ）を形成する構成（３０，９０）は、個々に、一以上からなるグループで協調的に、又はそれらの組み合わせで動作可能な複数のスタンピングツールセグメント（３２，４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，５０，６０，７０，８０，９２）を含む。
【選択図】図４Ａ、図４Ｂ、図４Ｃ

Abstract translation: 在衬底（S）上形成冲压特征（P）的方法包括：将多个冲压工具段（32,50a，40b，40c，50,60,70,80,92）施加到至少一个表面 底物。 用于在衬底（S）上形成冲压特征（P）的装置（30,90）包括多个单独致动的冲压工具段（32,50a，40b，40c，50,60,70,80,92） ，多于一个的组合，或其组合。

公开(公告)号：JP2008292196A

公开(公告)日：2008-12-04

申请号：JP2007135633

申请日：2007-05-22

Applicant: Dainippon Printing Co Ltd ,  大日本印刷株式会社

Inventor： ARITSUKA YUKI ,  HOGEN MORIHISA

IPC: G01B21/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: G01B21/20 ,  B81C99/0065 ,  B81C2201/0153 ,  B81C2201/0198 ,  G03F1/84

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a measurement system, a measurement method and a program capable of performing shape measurement with high accuracy with sufficient reliability. SOLUTION: The measurement system includes: an external storage portion 26 for storing tolerances for a first and a second shape factor determining a design shape of a measuring object 10; a measuring instrument 14 for acquiring measurement data of the first shape factor of the measuring object 10; a comparator 32 for comparing the measurement data of the first shape factor with the tolerance for the first shape factor read out from the storage section 26; a verification section 34 for forming a presumed shape from the measurement data and verifying whether the shape is materializable as a figure; a calculation section 36 for calculating presumption data of the second shape factor from the presumed shape formed by the verification section 34; and a determination section 38 for comparing the presumption data calculated by the calculation section 36 with the tolerance for the second shape factor read from the storage section 26 and determining the measured shape. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供能够以足够的可靠性以高精度进行形状测量的测量系统，测量方法和程序。 解决方案：测量系统包括：外部存储部分26，用于存储确定测量对象10的设计形状的第一和第二形状因子的公差; 用于获取测量对象10的第一形状系数的测量数据的测量仪器14; 用于将第一形状因子的测量数据与从存储部分26读出的第一形状因子的公差进行比较的比较器32; 验证部分34，用于根据测量数据形成推定的形状，并验证形状是否可实现为图形; 计算部分36，用于从由验证部分34形成的推测形状计算第二形状因子的推测数据; 以及确定部分38，用于将由计算部分36计算的推定数据与从存储部分26读取的第二形状因子的公差进行比较并确定测量的形状。 版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2007219033A

公开(公告)日：2007-08-30

申请号：JP2006037362

申请日：2006-02-15

Applicant: Hitachi Ltd ,  株式会社日立製作所

Inventor： MURAO KENJI ,  KUWABARA KOSUKE ,  OGINO MASAHIKO

IPC: G02B1/02 ,  G02B1/04

CPC classification number: B81C1/0046 ,  B29C43/021 ,  B29C2043/025 ,  B81B2201/0214 ,  B81B2203/0361 ,  B81C2201/0153 ,  B82Y10/00 ,  B82Y15/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method capable of selectively facilitating physical and chemical modification on specific sites only of recessed parts or protruded parts among structures having ruggedness manufactured by a nano-imprint technology. SOLUTION: An original board having a ruggedness is pressed against a polymer substrate composed of two layers having at least chemical compositions different from each other and, thereby, a second layer from the surface which is hidden by the uppermost surface layer heretofore is visualized as a cross-section of a pillar part. The site-specific chemical modification of a pillar can be performed by forming the second layer with a chemically desirable composition or by chemically modifying a cross-section of the second layer after formation of the pillar. COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够选择性地促进仅在通过纳米压印技术制造的具有坚固性的结构中的凹部或突出部分的特定部位进行物理和化学改性的方法。 解决方案：具有坚固性的原板被压在由至少具有彼此不同的化学组成的两层组成的聚合物基材上，从而从迄今为止被最上表面层隐藏的表面的第二层是 可视化为柱部分的横截面。 可以通过用化学上希望的组合物形成第二层或通过在柱形成之后化学改变第二层的横截面来进行柱的位点特异性化学修饰。 版权所有（C）2007，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2004363584A

公开(公告)日：2004-12-24

申请号：JP2004153541

申请日：2004-05-24

Applicant: Hewlett-Packard Development Co Lp ,  ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー.

Inventor： KORNILOVICH PAVEL ,  CHEN YONG ,  STEWART DUNCAN ,  WILLIAMS R STANLEY ,  KUEKES PHILIP J ,  YANIK MEHMET FATIH

IPC: B82B3/00 ,  B81C1/00 ,  G03F7/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/3205 ,  H01L21/768

CPC classification number: H01L21/76838 ,  B81C99/009 ,  B81C2201/0153 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for connecting a specific micro wire to a specific nano wire in an electronic circuit of nanometer size. SOLUTION: A controlled connection between nano wires and elements on an electronic circuit other than micro wires and a lithography making up the electronic circuit is provided. An imprint stamp is configured so as to form an array of substantially parallel nano wires. The nano wire has a dimension of micro scale in a (1) X direction, a dimension of nano scale and an interval of nano scale in a (2) Y direction, and three or more kinds of height different from each another in a Z direction. It becomes possible to connect a specific nano wire to a wire of micro scale or an area of a pad of a specific micro scale. A protruding pattern of a mold forms a groove in a thin polymer film and the polymer film obtains a reversed mold pattern. After the mold is removed, the polymer pattern is imprinted onto a metal/semiconductor pattern on a substrate. COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

公开(公告)号：TWI360519B

公开(公告)日：2012-03-21

申请号：TW097107044

申请日：2008-02-29

Applicant: 仁荷大學校產學協力團

Inventor： 朴世根 ,  金澖亨

IPC: B81C ,  H01L

CPC classification number: H01L21/0273 ,  B81C1/00031 ,  B81C2201/0153 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

Abstract: 本發明係一種利用壓印(imprint)和光刻(photo lithography)工程製造三維構造物的方法，該方法包括：(a)在基材(substrate)上部旋轉塗鍍光阻劑(photoresist)的步驟；(b)利用紀錄一定圖案的模型(mold)在上述(a)步驟中沉積的光阻劑(photoresist)上以一定溫度及一定壓力進行壓印(imprint)的步驟；(c)在上述(b)步驟製造的構造物上設置光罩(photomask)，然後藉由曝光(expose)和顯影(develop)的過程使其形成具有特定圖案的三維構造物。本發明藉由控制製程時間來控制既有壓印步驟中會產生的殘留層高度，所以僅需利用壓印和光刻步驟即可完成，故可省卻既有製程中所需進行的殘留層消除步驟。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系一种利用压印(imprint)和光刻(photo lithography)工程制造三维构造物的方法，该方法包括：(a)在基材(substrate)上部旋转涂镀光阻剂(photoresist)的步骤；(b)利用纪录一定图案的模型(mold)在上述(a)步骤中沉积的光阻剂(photoresist)上以一定温度及一定压力进行压印(imprint)的步骤；(c)在上述(b)步骤制造的构造物上设置光罩(photomask)，然后借由曝光(expose)和显影(develop)的过程使其形成具有特定图案的三维构造物。本发明借由控制制程时间来控制既有压印步骤中会产生的残留层高度，所以仅需利用压印和光刻步骤即可完成，故可省却既有制程中所需进行的残留层消除步骤。