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171.发明专利Process for fabricating monolayer or multilayer metal structure in liga technology, and structure obtained by the process 有权在LIGA技术中制造单层或多层金属结构的方法以及该方法获得的结构
公开(公告)号：JP2014159645A
公开(公告)日：2014-09-04
申请号：JP2014109958
申请日：2014-05-28
Applicant: Rolex Sa , ロレックス・ソシエテ・アノニムRolex Sa
Inventor： SAUCY CLEMENT
CPC classification number: C25D1/003 , B81B2201/035 , B81C99/0085 , B81C2201/032 , C25D1/20 , G03F7/00
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a process for fabricating a monolayer or multilayer metal structure in LIGA technology.SOLUTION: In the process, a photoresist layer is deposited on a flat metal substrate; a photoresist mold is created by irradiation or electron bombardment or ion bombardment; a metal or alloy is electroplated in this mold; the electroformed metal structure is detached from the substrate; and the photoresist is separated from this metal structure. In the process, the metal substrate is used as an agent involved in the forming of at least one surface of the metal structure other than a surface formed by the plane surface of the substrate.
Abstract translation: 要解决的问题：提供在LIGA技术中制造单层或多层金属结构的方法。解决方案：在该过程中，光致抗蚀剂层沉积在平坦的金属基底上; 通过照射或电子轰击或离子轰击产生光致抗蚀剂模具; 在该模具中电镀金属或合金; 电铸金属结构与基板分离; 并且光致抗蚀剂与该金属结构分离。 在该过程中，金属基材用作除了由基材的平面表面形成的表面以外的金属结构的至少一个表面的形成中使用的试剂。
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172.发明专利Method for producing single piece micro-machine constitution parts having at least two different functions in height direction 有权用于生产具有高度方向上的两个不同功能的单一微型机器构成部件的方法
公开(公告)号：JP2014152400A
公开(公告)日：2014-08-25
申请号：JP2014025135
申请日：2014-02-13
Applicant: Nivarox-Far Sa , ニヴァロックス−ファー ソシエテ アノニム
Inventor： FUSSINGER ALEXANDRE , MARC STRANCZL
IPC: C25D1/00
CPC classification number: H03H3/0072 , B81B2201/035 , B81C99/008 , G03F7/00 , G03F7/0002 , G04B15/14 , Y10T29/49002
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing micro-machine constitution parts with parts having at least two different functions in a height direction mountable at a lower cost as a single piece.SOLUTION: Provided is a method (1) for producing micro-machine constitution parts (31, 41, 61, 91) of a single piece having at least two functions in a height direction. The method (1) includes a combination of the LIGA process in a single height and direct machining of a deposit on a base material (2) by the LIGA process.
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于制造具有在具有至少两个不同功能的部件的微机构造部件的方法，所述部件在高度方向上以较低的成本安装为单件。解决方案：提供一种用于制造微型 - 在高度方向上具有至少两个功能的单件的机械构造部件（31,41,61,91）。 方法（1）包括LIGA工艺在单一高度上的组合，并且通过LIGA工艺直接加工基材（2）上的沉积物。
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公开(公告)号：JP5508606B2
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：JP2013552144
申请日：2012-01-05
Applicant: ニヴァロックス−ファー ソシエテ アノニム
Inventor： キュザン，ピエール , リシャール，ダヴィド , ドゥボワ，フィリップ
CPC classification number: B81B1/006 , B81B2201/035 , B81C1/00634 , B81C99/0085 , Y10T74/19949
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174.发明专利
公开(公告)号：JP2010216014A
公开(公告)日：2010-09-30
申请号：JP2010057503
申请日：2010-03-15
Applicant: Nivarox-Far Sa , ニヴァロックス−ファー ソシエテ アノニム
Inventor： CUSIN PIERRE , GOLFIER CLARE , THIEBAUD JEAN-PHILIPPE
CPC classification number: C25D1/10 , B81B2201/035 , B81C99/009 , C25D17/00
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mold for galvanoplasty and a method for fabricating the mold for galvanoplasty. SOLUTION: There is disclosed a method of fabricating a mold 39' that includes the following steps of: (a) providing a substrate having a top layer 21' and a bottom layer 23' made of a electrically conductive micromechanical material, and secured to each other by an electrically insulating intermediate layer 22'; (b) etching at least one pattern in the top layer 21' as far as the intermediate layer 22' to form at least one cavity in the mold; (c) coating the top part of the substrate with an electrically insulating coating material; and (d) directionally etching the coating material and the intermediate layer to limit the presence of the coating material and the intermediate layer exclusively at each vertical wall 31' formed in the top layer. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
Abstract translation: 要解决的问题：提供用于电流整形术的模具和用于制造用于电流成形术的模具的方法。 解决方案：公开了一种制造模具39'的方法，其包括以下步骤：（a）提供具有由导电微机械材料制成的顶层21'和底层23'的基板，以及 通过电绝缘中间层22'彼此固定; （b）蚀刻顶层21'中的至少一个图案，直到中间层22'，以在模具中形成至少一个空腔; （c）用电绝缘涂层材料涂覆基材的顶部; 和（d）定向地蚀刻涂层材料和中间层，以限制涂层材料和中间层的存在，仅限于形成在顶层中的每个垂直壁31'。 版权所有（C）2010，JPO＆INPIT
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公开(公告)号：KR1020100007751A
公开(公告)日：2010-01-22
申请号：KR1020090062085
申请日：2009-07-08
Applicant: 더 스와치 그룹 리서치 앤 디벨롭먼트 엘티디
IPC: C23F1/00 , H01L21/027 , G03F7/00
CPC classification number: G04D3/0069 , B81B2201/035 , B81C3/008 , B81C99/008 , G04B13/02 , Y10T29/49579 , Y10T29/49581 , B81C2201/112 , G03F7/0002 , G04B13/026
Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing micromechanical components is provided to manufacture a protective mask using photosensitive resin. CONSTITUTION: A method for manufacturing micromechanical components comprises the following steps. A substrate(53) is prepared. The substrate is made of micro-machining material. A pattern is etched by using photolithography. A clip(91) is assembled on the components. The components are separated from the substrate in order to mount components inside an apparatus. The substrate is mounted on a support(81) press-fitted with a fork(87).
Abstract translation: 目的：提供用于制造微机械部件的方法来制造使用感光树脂的保护罩。 构成：微机械部件的制造方法包括以下步骤。 制备基板（53）。 基板由微加工材料制成。 通过使用光刻法刻蚀图案。 夹子（91）组装在组件上。 部件与基板分离，以便将部件安装在设备内。 基板安装在压配合叉（87）的支撑（81）上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100893574B1
公开(公告)日：2009-04-17
申请号：KR1020070016056
申请日：2007-02-15
Applicant: 부산대학교 산학협력단
CPC classification number: B81C99/0095 , B81B2201/035
Abstract: 본 발명은 극미세 금속 부품 성형 기술의 보다 광범위한 적용을 위해 재료의 종류에 제한을 받지 않고 대량생산이 가능하며 정형가공이 가능한 통상의 금속 성형 기술 중 압출 성형 기술을 극미세 부품 제조에 적용시키고자 한 것으로서, MEMS 공정에 의해 제작된 마이크로 스케일의 압출용 다이를 소형 압출장치에 장착하여 열간 전방 압출을 통해 극미세 부품 중의 하나인 마이크로 기어 샤프트 등의 부품을 손쉽게 제작할 수 있도록 하는데 그 목적이 있다.
이를 위해, 본 발명은 압출용 소재가 수용되는 컨테이너와; 상기 컨테이너에 수용된 압출용 소재에 대해 압출하중을 가하게 되는 액튜에이터와; 상기 액튜에이터의 압출하중 작용시 상기 컨테이너로부터 배출되는 압출용 소재를 목적하는 형상으로 성형하는 마이크로 스케일의 다이;를 포함하여서 됨을 특징으로 하는 마이크로 부품 제조용 압출장치가 제공된다.
마이크로, 부품, 제조, 압출, 압전, 액튜에이터-
公开(公告)号：KR100724102B1
公开(公告)日：2007-06-04
申请号：KR1020050011968
申请日：2005-02-14
Applicant: 한국표준과학연구원
CPC classification number: B81C99/0095 , B81B2201/035 , B81C2201/0143 , Y10S977/883 , Y10S977/888
Abstract: 본 발명은 나노부품 및 그에 따른 나노부품, 및 나노기계 등의 제작방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 포토리소그라피 또는 전자빔 리소그라피를 이용하여 기판 위에 그리드를 인쇄하고, 그리드 부위에 나노판 수용액을 분사하여 나노판을 위치시키며, 기판 및 그 기판 위에 위치한 나노판의 상부에 일정 두께의 보호막을 증착하고, 집속 이온빔 또는 전자빔 리소그라피를 이용하여 보호막이 증착된 나노판을 식각한 후, 보호막 제거제를 사용하여 잔여 보호막을 제거함으로써 나노부품을 제조하는 방법 및 나아가 이러한 나노부품을 나노탐침에 의해 이동 및 조립함으로써 나노기계 또는 나노구조체 등을 제작하는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 우수한 재질의 나노부품을 저렴한 비용으로 비교적 간단하게 제조하는 방법 및 이러한 나노부품이나 생체분자 등을 결합하여 나노기계 등을 구현하는 방법을 제공한다.
나노판, 나노부품, 나노기계, 나노시스템, 이온식각, 나노기어, 나노활자, 나노탐침-
公开(公告)号：KR1020060091115A
公开(公告)日：2006-08-18
申请号：KR1020050011968
申请日：2005-02-14
Applicant: 한국표준과학연구원
CPC classification number: B81C99/0095 , B81B2201/035 , B81C2201/0143 , Y10S977/883 , Y10S977/888
Abstract: 본 발명은 나노부품 및 그에 따른 나노부품, 및 나노기계 등의 제작방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 포토리소그라피 또는 전자빔 리소그라피를 이용하여 기판 위에 그리드를 인쇄하고, 그리드 부위에 나노판 수용액을 분사하여 나노판을 위치시키며, 기판 및 그 기판 위에 위치한 나노판의 상부에 일정 두께의 보호막을 증착하고, 집속 이온빔 또는 전자빔 리소그라피를 이용하여 보호막이 증착된 나노판을 식각한 후, 보호막 제거제를 사용하여 잔여 보호막을 제거함으로써 나노부품을 제조하는 방법 및 나아가 이러한 나노부품을 나노탐침에 의해 이동 및 조립함으로써 나노기계 또는 나노구조체 등을 제작하는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 우수한 재질의 나노부품을 저렴한 비용으로 비교적 간단하게 제조하는 방법 및 이러한 나노부품이나 생체분자 등을 결합하여 나노기계 등을 구현하는 방법을 제공한다.
나노판, 나노부품, 나노기계, 나노시스템, 이온식각, 나노기어, 나노활자, 나노탐침-
公开(公告)号：KR1019970008324B1
公开(公告)日：1997-05-23
申请号：KR1019930016296
申请日：1993-08-21
Applicant: 인터내셔널 비지네스 머신즈 코포레이션
IPC: H01L21/00
CPC classification number: G03F7/11 , B81B2201/035 , B81B2201/037 , B81C99/0085 , G03F7/00 , H02N1/008
Abstract: In the fabrication of a free-standing miniaturized structure in a range of about 10 to 20 mu m thick, a method based on a sacrificial system includes the steps of selecting a substrate material, depositing on the substrate material a sacrificial layer 58 of material and patterning the sacrificial layer to define a shape. A photoresist layer 62 of material is deposited on the sacrificial layer and patterned by contrast-enhanced photolithography to form a photoresist mould. Upon the mould there is plated a metallic layer 68 of material. The electroplated structure conforms to the resist profile and can have a thickness many times that of conventional polysilicon microstructures. The photoresist mould and the sacrificial layer are thereafter dissolved using etchants to form a free standing metallic structure in a range of about 10 to 20 mu m thick, with vertical to lateral aspect ratios of 9:1 to 10:1 or more.
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公开(公告)号：KR1020170030062A
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：KR1020160115284
申请日：2016-09-07
Applicant: 니바록스-파 에스.에이.
Inventor： 뒤부아필리쁘
CPC classification number: G04B31/08 , B81B3/007 , B81B3/0075 , B81B2201/035 , C23C14/22 , C23C16/45525 , G04B15/14 , G04B19/12
Abstract: 마이크로기계시계부품을제조하기위한방법및 상기마이크로기계시계부품발명은실리콘기재기판 (1) 으로부터시작하는마이크로기계시계부품을제조하기위한방법에관련되며, 방법은, a) 실리콘기재기판 (1) 을제공하는단계, 및 b) 상기실리콘기재기판 (1) 의표면의적어도일부표면상에적어도 10 μm 깊이, 바람직하게적어도 50 μm 깊이, 더욱바람직하게적어도 100 μm 깊이의기공들을형성하는단계를순서대로포함하고, 상기기공들은상기마이크로기계시계부품의외부표면에서열려있다. 발명은또한, 실리콘기재기판 (1) 을포함하는마이크로기계시계부품에관련되며, 실리콘기재기판 (1) 의표면의적어도일부표면상에, 적어도 10 μm 깊이, 바람직하게적어도 50 μm 깊이, 더욱바람직하게적어도 100 μm 깊이의기공들 (2) 을갖고, 상기기공들은상기마이크로기계시계부품의외부표면에서열려있도록설계된다.
Abstract translation: 一种用于制造微机械时钟部件的方法和一种用于从硅基衬底（1）开始制造微机械时钟部件的方法，所述方法包括以下步骤：a） B）在硅基衬底1的表面的至少一些表面上形成至少10μm深，优选至少50μm深，更优选至少100μm深的孔， 毛孔在微机械表部件的外表面是开放的。 发明还微涉及一种机器时钟部分，至少在所述硅基板1，至少10微米深的表面的表面的一部分，优选地为至少50μm深，更优选地包括硅基础衬底（1） 这些孔设计成在微机械手表部件的外表面开口。
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