公开(公告)号：WO2016135279A1

公开(公告)日：2016-09-01

申请号：PCT/EP2016/054058

申请日：2016-02-26

Applicant: FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.

Inventor： BRAUN, Stefan ,  KUBEC, Adam ,  LESON, Andreas ,  MENZEL, Maik

IPC: G21K1/06

CPC classification number: G21K1/06 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/067

Abstract: Die Erfindung betrifft einen Schichtaufbau für mehrschichtige Laue‐Linsen oder zirkulare Multischicht‐Zonenplatten für Röntgenstrahlung mit abwechselnd auf einem Substrat angeordneten Schichten aus je einem Werkstoff mit einem höherem Brechungsindex und einem Werkstoff mit einem niedrigeren Brechungsindex. Dieser Schichtaufbau ist aus alternierend angeordneten Schichten innerhalb von Perioden, bestehend aus einer hochbrechenden Schicht, einer niedrigbrechenden Schicht und mindestens einem dritten Werkstoff für Zwischenschichten gebildet. Dabei weisen niedrigerbrechende Schichten Druckeigenspannung und höherbrechende Schichten Zugeigenspannung auf und das Produkt aus Schichtdicke und Eigenspannung ist in seiner Größe gleich, zumindest annähernd gleich. Zwischen höher‐ und niedrigerbrechenden Schichten ist jeweils eine Zwischenschicht angeordnet.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于多层劳厄透镜或用于与一种材料具有较高的折射率和具有较低折射率的材料在衬底上交替地排列的层的X射线辐射的圆形多层带片的层叠结构。 该层结构由交替的布置周期内的层的高折射率层，低折射率层和至少一个第三材料为中间层由......组成形成。 在这种情况下，具有低折射率层的残余压缩应力和残余拉伸应力较高折射率层和层的厚度和残留应力的乘积的数值相等，至少大致相等。 较高和较低折射率的层之间在每种情况下设置的中间层。

公开(公告)号：WO2015171451A1

公开(公告)日：2015-11-12

申请号：PCT/US2015/028758

申请日：2015-05-01

Applicant: THE JOHNS HOPKINS UNIVERSITY

Inventor： STUTMAN, Dan

IPC: A61B6/00 ,  A61B6/08

CPC classification number: G01N23/04 ,  A61B6/032 ,  A61B6/4035 ,  A61B6/4291 ,  A61B6/484 ,  A61B6/502 ,  A61B6/5205 ,  A61B6/5235 ,  G01N23/046 ,  G01N23/20075 ,  G01N2223/33 ,  G02B5/1871 ,  G21K2201/067

Abstract: A differential phase contrast X-ray Imaging system includes an X-ray illumination system, a beam splitter arranged in a radiation path of the X-ray illumination system, and a detection system arranged in a radiation path to detect X- rays after passing through the beam splitter.

Abstract translation: 差分相位对比X射线成像系统包括X射线照射系统，布置在X射线照射系统的辐射路径中的分束器，以及布置在辐射路径中的检测系统，以在穿过X射线照射系统之后检测X射线 分束器。

公开(公告)号：WO2014152435A1

公开(公告)日：2014-09-25

申请号：PCT/US2014/027338

申请日：2014-03-14

Applicant: THE BOARD OF TRUSTEES OF THE LELAND STANFORD JUNIOR UNIVERSITY

Inventor： SAKDINAWAT, Anne, Eugenie ,  CHANG, Chieh

IPC: C23F1/00 ,  C23F1/44

CPC classification number: C23F1/02 ,  B81B2201/047 ,  B81C1/00619 ,  B81C2201/0133 ,  G02B5/1838 ,  G02B5/1857 ,  G03F7/0005 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/067

Abstract: A method of ultra-high aspect ratio high resolution vertical directionality controlled metal- assisted chemical etching, V-MACE, is provided that includes forming a pattern on a substrate surface, using a lithographic or non-lithographic process, forming hole concentration balancing structures on the substrate, using a lithographic process or non- lithographic process, where the concentration balancing structures are proximal to the pattern, forming mechanical anchors internal or external to the patterned structures, forming pathways for etchant and byproducts to diffuse, and etching vertical features from the substrate surface into the substrate, using metal-assisted chemical etching, MACE, where the vertical features are confined to a vertical direction by the concentration balancing structures.

Abstract translation: 提供了一种超高纵横比高分辨率垂直方向性控制的金属辅助化学蚀刻V-MACE的方法，其包括使用光刻或非平版印刷工艺在基板表面上形成图案，形成孔浓度平衡结构 基板，其使用光刻工艺或非平版印刷工艺，其中浓度平衡结构靠近图案，在图案化结构的内部或外部形成机械锚，形成用于蚀刻剂和副产物扩散的途径，并从垂直特征 衬底表面进入衬底，使用金属辅助化学蚀刻MACE，其中垂直特征通过浓度平衡结构限制在垂直方向。

公开(公告)号：WO2014070996A1

公开(公告)日：2014-05-08

申请号：PCT/US2013/067721

申请日：2013-10-31

Applicant: CARL ZEISS X-RAY MICROSCOPY, INC.

Inventor： FESER, Michael ,  LYON, Alan Francis

IPC: G21K7/00 ,  G21K1/06

CPC classification number: G21K1/00 ,  G21K1/06 ,  G21K7/00 ,  G21K2201/06 ,  G21K2201/067

Abstract: A compound x-ray lens and method of fabricating these lenses are disclosed. These compound lenses use multiple zone plate stacking to achieve a pitch frequency increase for the resulting combined zone plate. The compound equivalent zone plate includes a first zone plate (412a) having an initial pitch frequency stacked onto a second zone plate (412b) to form an equivalent compound zone plate. The equivalent zone plate has a pitch frequency that is at least twice the initial pitch frequency. Also, in one example, the equivalent zone plate has a mark-to-space ratio of 1:1.

Abstract translation: 公开了一种复合X射线透镜及其制造方法。 这些复合透镜使用多个区域板堆叠来实现所得到的组合区域板的俯仰频率增加。 化合物等效区域板包括具有堆叠在第二区域板（412b）上的初始间距频率以形成等效复合区域板的第一区域板（412a）。 等效区域板具有至少是初始俯仰频率的两倍的俯仰频率。 而且，在一个示例中，等效的带状板具有1：1的标记空间比。

公开(公告)号：WO2014042126A1

公开(公告)日：2014-03-20

申请号：PCT/JP2013/074269

申请日：2013-09-09

Applicant: 浜松ホトニクス株式会社

Inventor： 酒井　拓也 ,  鈴木　勇太郎

IPC: G21K1/06

CPC classification number: G21K1/067 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/067 ,  H01J35/04

Abstract: 　ポリキャピラリレンズ１０Ａは、一端面から他端面へ延びており一端面から入射した放射線又は粒子線を他端面へ導波する複数のキャピラリ１８ａ，１８ｂを有しており、放射線又は粒子線の導波方向と交差する面内において、複数の同心円状の領域Ａ１，Ａ２を有する。そして、領域Ａ１に含まれるキャピラリ１８ａの内径Ｌａと、領域Ａ２に含まれるキャピラリ１８ｂの内径Ｌｂとは互いに異なっている。これにより、用途に適した特性を実現することができるポリキャピラリレンズが実現される。

Abstract translation: 多毛细管透镜（10A）具有从一端延伸到另一端的多个毛细管（18a，18b），用于引导从一端进入另一端的辐射或粒子束，并具有多个同心区域 A1，A2）在与引导方向的辐射或粒子束相交的面中。 此外，包含在区域（A1）中的毛细管（18a）的内径（La）和包含在区域（A2）中的毛细管（18b）的内径（Lb）彼此不同。 因此，实现了可以获得适合于应用的特性的多毛细管透镜。

公开(公告)号：WO2013057046A1

公开(公告)日：2013-04-25

申请号：PCT/EP2012/070251

申请日：2012-10-12

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

Inventor： THIELE, Christian

IPC: G02B5/08 ,  C04B35/472 ,  C04B35/499 ,  C30B29/32 ,  G21K1/06 ,  H01L41/187 ,  G03F7/00

CPC classification number: G02B5/0816 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/0891 ,  G03F7/70266 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/7095 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/067 ,  H01L41/0986

Abstract: The invention relates to a mirror (13), comprising a substrate (20) and a reflective coating (21), wherein the substrate (20) comprises a piezoelectric material selected from the group comprising PMN-PT and PZN-PT. The invention also relates to an optical arrangement comprising at least one such mirror (13) and a device (25) for generating an electric field (26) in the piezoelectric material of the substrate (20) in order to influence a thickness (d) of the reflective coating (21), the device (25) being designed to set the thickness (d) of the reflective coating (21) such that the reflectivity of the reflective coating (21 ) is maximal at an operating wavelength (λ Β ) of the optical arrangement (1). The invention also relates to an associated method for setting the maximum wavelength of the mirror (13).

Abstract translation: 本发明涉及一种包括基板（20）和反射涂层（21）的反射镜（13），其中所述基板（20）包括选自PMN-PT和PZN-PT的压电材料。 本发明还涉及一种光学装置，其包括至少一个这种反射镜（13）和用于在基板（20）的压电材料中产生电场（26）以便影响厚度（d）的装置（25） 的反射涂层（21）的反射率在反射涂层（21）的工作波长（λBeta）为最大时被设计为设置反射涂层（21）的厚度（d） 光学装置（1）。 本发明还涉及一种用于设置反射镜（13）的最大波长的相关方法。

公开(公告)号：WO2013024562A1

公开(公告)日：2013-02-21

申请号：PCT/JP2012/004476

申请日：2012-07-11

Applicant: CANON KABUSHIKI KAISHA ,  TESHIMA, Takayuki ,  SETOMOTO, Yutaka

Inventor： TESHIMA, Takayuki ,  SETOMOTO, Yutaka

IPC: G21K1/06

CPC classification number: G01T1/16 ,  C23C28/32 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/067

Abstract: The present invention relates to a method for manufacturing a structure, including the steps of forming a recessed section in a first surface of a substrate (1); filling the recessed section with metal (3) to form a metal structure; exposing the metal structure from the substrate; and applying resin (20) onto the exposed metal structure and solidifying the resin to form a resin layer.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于制造结构的方法，包括在衬底（1）的第一表面中形成凹陷部分的步骤; 用金属（3）填充凹部以形成金属结构; 使金属结构从衬底露出; 并将树脂（20）施加到暴露的金属结构上并固化树脂以形成树脂层。

公开(公告)号：WO2012126867A1

公开(公告)日：2012-09-27

申请号：PCT/EP2012/054752

申请日：2012-03-19

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  ENKISCH, Hartmut ,  MUELLENDER, Stephan ,  ENDRES, Martin

Inventor： ENKISCH, Hartmut ,  MUELLENDER, Stephan ,  ENDRES, Martin

IPC: G02B17/06 ,  G21K1/06

CPC classification number: G03F7/702 ,  B82Y10/00 ,  G02B17/06 ,  G02B17/0663 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70316 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/067

Abstract: The invention relates to a deflection mirror for a microlithography projection exposure apparatus for illuminating an object field in an object plane of the projection exposure apparatus using the deflection mirror with grazing incidence. Said deflection mirror consists of a substrate and at least one layer system, and during operation light impinges on said mirror at a multiplicity of angles of incidence, wherein the layer system is designed such that, for light having a wavelength of less than 30 nm, for an angle of incidence of between 55° and 70°, the variation of the reflectivity is less than 20%, in particular less than 12%.

Abstract translation: 本发明涉及一种微光刻投影曝光装置的偏转镜，用于使用具有掠入射的偏转镜照射投影曝光装置的物平面中的物场。 所述偏转镜由衬底和至少一个层系统组成，并且在操作期间，光以多个入射角撞击在所述镜上，其中所述层系统被设计成使得对于波长小于30nm的光， 对于55°和70°之间的入射角，反射率的变化小于20％，特别是小于12％。

公开(公告)号：WO2012109572A1

公开(公告)日：2012-08-16

申请号：PCT/US2012/024704

申请日：2012-02-10

Applicant: BROOKHAVEN SCIENCE ASSOCIATES, LLC ,  BOUET, Nathalie, Christine, Dominique ,  CONLEY, Raymond, P. ,  DIVAN, Ralu ,  MACRANDER, Albert, T.

Inventor： BOUET, Nathalie, Christine, Dominique ,  CONLEY, Raymond, P. ,  DIVAN, Ralu ,  MACRANDER, Albert, T.

IPC: B44C1/22

CPC classification number: H01L21/3065 ,  B82Y10/00 ,  C23F4/00 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/067 ,  H01L21/32137

Abstract: AA process is disclosed for sectioning by etching of monolayers and multilayers using an RIE technique with fluorine-based chemistry. In one embodiment, a process is provided for sectioning of WSi2/Si multilayers using RIE in combination with ICP using a combination of fluorine-based and chlorine-based chemistries and using RF power and ICP power. According to this embodiment, a high level of vertical anisotropy is achieved by a ratio of three gases; namely, CHF3, Cl2, and O2 with RF and ICP. Additionally, in conjunction with this embodiment, a passivation layer can be formed on the surface of the multilayer which aids in anisotropic profile generation.

Abstract translation: 公开了通过使用具有氟基化学的RIE技术通过蚀刻单层和多层进行切片的AA方法。 在一个实施方案中，提供了一种使用RIE与ICP结合使用氟基和氯基化学物质并使用RF功率和ICP功率的WSI2 / Si多层的切片的方法。 根据本实施例，通过三种气体的比例实现高水平的垂直各向异性; 即CHF3，Cl2和O2与RF和ICP。 另外，结合本实施例，可以在有助于各向异性轮廓生成的多层的表面上形成钝化层。

公开(公告)号：WO2012107862A1

公开(公告)日：2012-08-16

申请号：PCT/IB2012/050484

申请日：2012-02-02

Applicant: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V. ,  PHILIPS INTELLECTUAL PROPERTY & STANDARDS GMBH ,  KOEHLER, Thomas ,  RÖSSL, Ewald

Inventor： KOEHLER, Thomas ,  RÖSSL, Ewald

IPC: G21K1/06

CPC classification number: G21K1/067 ,  A61B6/0407 ,  A61B6/4035 ,  A61B6/4078 ,  A61B6/4291 ,  A61B6/4441 ,  A61B6/484 ,  A61B6/508 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/067 ,  G21K2207/005

Abstract: The present invention relates to X-ray differential phase-contrast imaging. In order to enhance the information acquired by phase-contrast imaging, an analyzer grating (34) for X-ray differential phase-contrast imaging is provided with an absorption structure (48). The latter comprises a first plurality (50) of first areas (52) with a first X-ray attenuation, and a second plurality (54) of second areas (56) with a second X-ray attenuation. The second X-ray attenuation is smaller than the first X-ray attenuation, and the first and second areas are arranged periodically in an alternating manner. A third plurality (58) of third areas (60) is provided with a third X-ray attenuation, which lies in a range from the second X-ray attenuation to the first X-ray attenuation, wherein every second of the first or second areas is replaced by one of the third areas.

Abstract translation: 本发明涉及X射线差分相位成像。 为了增强通过相位对比成像获取的信息，用于X射线差分相位对比成像的分析器光栅（34）具有吸收结构（48）。 后者包括具有第一X射线衰减的第一多个（50）第一区域（52）和具有第二X射线衰减的第二多个（54）第二区域（56）。 第二X射线衰减小于第一X射线衰减，并且第一和第二区域以交替方式周期性地布置。 第三多个（58）的第三区域（60）设置有第三X射线衰减，其位于从第二X射线衰减到第一X射线衰减的范围内，其中第一或第二 地区被第三个地区之一所取代。