公开(公告)号：CN101583437A

公开(公告)日：2009-11-18

申请号：CN200880002541.0

申请日：2008-01-25

Applicant: 株式会社德山

Inventor： 高桥直人 ,  森力宏 ,  深田典行

IPC: B05D1/28 ,  B05D7/00 ,  B05D7/24 ,  G02B5/23

CPC classification number: B05D1/005 ,  B05D3/067 ,  B05D5/061

Abstract: 本发明提供一种具有涂层的透镜的制造方法。是在透镜的涂敷液涂敷作业中涂敷液不会蔓延至透镜的侧面以及透镜的背面的透镜的涂敷方法。在向透镜(15)旋涂涂敷液的作业中，将特定的粘度的涂敷液用作涂敷液，并且在供给于透镜表面的涂敷液到达透镜周缘部之前，将刮板(119)的侧缘部(121)抵接于透镜(15)的侧面(15a)的上缘部。刮板(119)的侧缘部(121)使刮板的上端侧以垂线为基准朝透镜(15)的中心侧倾斜5～35度的角度配置。旋转透镜(15)而涂敷涂敷液时，涂敷液附着于刮板(119)上，不会附着于透镜(15)的侧面。

公开(公告)号：CN101394938A

公开(公告)日：2009-03-25

申请号：CN200780007251.0

申请日：2007-02-27

Applicant: 德山株式会社

Inventor： 森力宏 ,  深田典行 ,  高桥直人

IPC: B05D1/40 ,  B05D7/24 ,  G02C7/10 ,  G02C13/00 ,  G02B5/23

CPC classification number: B29D11/0073 ,  B05C11/08 ,  B05D1/005 ,  B29C41/045 ,  B29D11/00884 ,  G02B1/10 ,  G02B5/23

Abstract: 本发明的目的在于提供在眼镜透镜等基材上用含有湿固型聚氨酯树脂的涂布组合物形成聚氨酯底涂层时防止因底涂液飞散及其再附着而引起的底涂层品质下降的方法。本发明涉及的层压体制造方法的特征在于，将含有湿固型聚氨酯树脂的涂布组合物在基材表面旋转涂布而制造具有聚氨酯层的层压体时，从旋转涂布装置的侧壁和/或底部强制排气的同时进行旋转涂布，进而优选旋转涂布装置具有上罩、下部容器以及安装于下部容器的可旋转的基材支撑装置，在上罩和下部容器底部具有排气口，该基材支撑装置内置于下端开口径大于上端开口径的圆筒部件中。

公开(公告)号：CN101331588A

公开(公告)日：2008-12-24

申请号：CN200680046966.2

申请日：2006-12-15

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 泽田郁夫 ,  松崎和爱 ,  田中崇 ,  岩下光秋 ,  宗像瑞惠

IPC: H01L21/027 ,  B05C11/08 ,  B05C15/00

CPC classification number: B05D1/005 ,  B05C11/06 ,  B05C11/08 ,  B05D3/0406 ,  B05D3/0486 ,  B05D2203/30 ,  B05D2203/35 ,  G03F7/162 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67023 ,  H01L21/6715

Abstract: 本发明是一种涂覆设备，其包括：水平地固定衬底的衬底固定部件；将化学物质供应至被衬底固定部件水平固定的衬底的中心部分的化学物质喷嘴；使衬底固定部件旋转以便通过离心力使化学物质在衬底表面散开从而使化学物质涂敷在整个表面上的旋转机构；在被衬底固定部件水平固定的衬底表面上形成常压气体(atmospheric gas)的下降气流的气流形成单元；绕衬底排放大气的气体排放单元；以及将层流形成气体供应至衬底表面的气体喷嘴，该层流形成气体的运动粘度系数大于该常压气体；其中该常压气体或层流形成气体被供应至衬底的中心部分。

公开(公告)号：CN101042535A

公开(公告)日：2007-09-26

申请号：CN200610143825.4

申请日：2006-10-20

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李晋成 ,  金兑圭 ,  具儁谟 ,  郑彰薰

IPC: G03F7/16 ,  B05C5/02

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05D1/005 ,  B05D1/02 ,  G03F7/162

Abstract: 本发明提供一种用于在晶片上喷射液体的液体涂布装置和方法。液体涂布装置可以包括：在晶片上喷射液体并且相对于晶片移动的喷嘴单元，和在喷嘴单元周围形成强制气流的层流形成单元。尽管由于喷嘴单元的移动，在喷嘴单元周围可能形成尾迹，但层流形成单元可以减小尾迹的影响和/或使该影响最小化。

公开(公告)号：CN1552091A

公开(公告)日：2004-12-01

申请号：CN02817255.8

申请日：2002-07-01

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小林真二 ,  北野高广 ,  森川祐晃 ,  石坂信和 ,  古闲法久 ,  南朋秀 ,  杉本伸一 ,  大仓淳 ,  栗岛启聪

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01L21/67253 ,  B05C5/0216 ,  B05C5/0291 ,  B05D1/005 ,  G03F7/162 ,  H01L21/6715

Abstract: 预先对与制品用基板相同的基板以喷嘴边进行扫描边供给涂布液以形成涂布液的线，对其例如以CCD摄像头进行摄像以求取涂布液的接触角，依据该接触角利用几何模型求取进行实际涂布时的扫描速度下的涂布液喷嘴的喷吐流量与间距容许范围二者的关系数据。并且，预先针对每种目标膜厚制作出涂布液喷嘴的喷吐流量与间距二者的关系数据，依据两者的关系数据确定间距。

公开(公告)号：CN109148270A

公开(公告)日：2019-01-04

申请号：CN201810628226.4

申请日：2018-06-19

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 吉原健太郎 ,  吉田勇一 ,  柴田直树 ,  吉原孝介

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/67 ,  G03F7/16

CPC classification number: B05D3/107 ,  B05C5/002 ,  B05D1/005 ,  B05D3/065 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/31058 ,  H01L51/00 ,  H01L51/0018 ,  H01L21/0271 ,  G03F7/16 ,  H01L21/6715

Abstract: 本发明提供一种在通过规定图案使表面形成有凹凸的基板上形成涂敷膜的成膜方法和成膜系统，该成膜方法是在通过规定图案使表面形成有凹凸的晶片(W)上涂敷抗蚀液，形成抗蚀膜的方法，其包括：在晶片的表面上涂敷涂敷液，形成表面上的抗蚀膜的凹凸的深度(H2)为规定值以下的比抗蚀膜(R)的目标膜厚厚的抗蚀膜(R)即厚膜(R′)的步骤；和除去厚膜(R′)的表面，形成目标膜厚的抗蚀膜(R)的步骤。由此，能够形成膜厚的面内均匀性高的涂敷膜。

公开(公告)号：CN105873686B

公开(公告)日：2018-08-24

申请号：CN201480071815.7

申请日：2014-10-16

Applicant: 阿德文尼拉企业有限公司

Inventor： E·赖亚博瓦 ,  V·里亚博夫

IPC: B05C3/09 ,  B05D1/18

CPC classification number: B05D1/005 ,  B05D1/002 ,  B05D1/02 ,  B05D1/18 ,  B05D3/067 ,  B05D3/12 ,  B05D7/52

Abstract: 本发明提供使用同时振动与旋转分配涂覆材料的方法及系统。在振动期间产生的惯性力及在旋转期间产生的离心力再分配先前沉积于表面上的所述涂覆材料，从而产生均匀及/或保形层。所述经涂覆表面可具有各种形状及粗糙度且可称为复杂表面。可使用浸渍、喷涂、旋涂或其它相似技术将所述涂覆材料的初始层沉积于部件的复杂表面上。通过使用特别选择的工艺条件使所述部件同时旋转及振动来再分配所述涂覆材料，所述特别选择的工艺条件是例如振动及旋转轴相对于所述部件的定向、旋转速度以及振动频率及振幅。可使用不同工艺条件重复所述再分配操作一或多次以确保所述复杂表面的不同部分上的均匀分配。

公开(公告)号：CN108409582A

公开(公告)日：2018-08-17

申请号：CN201810226251.X

申请日：2018-03-19

Applicant: 西北大学

Inventor： 赵武 ,  张敏 ,  吴朝新 ,  张稳稳 ,  焦博 ,  袁方 ,  吴民财 ,  李一鸣

IPC: C07C211/04 ,  C07C209/68 ,  C09K11/06 ,  C09K11/66 ,  B05D1/00

CPC classification number: C07C211/04 ,  B05D1/005 ,  C07C209/68 ,  C09K11/06 ,  C09K11/664

Abstract: 本发明属于光电材料领域，具体公开了一种钙钛矿薄膜的制备方法，包括：步骤1，取甲胺溴和溴化铅混合，得混合溶质；将混合溶质置于手套箱中，并向其中加入溶剂，得混合溶液，搅拌待混合溶质溶解后，过滤，得钙钛矿前驱液；步骤2，取钙钛矿前驱液，加入苯乙胺，搅拌得混合钙钛矿溶液；步骤3，取混合钙钛矿溶液旋涂在基片上，并旋转基片，使混合钙钛矿溶液结晶，再加热挥发溶剂，即得钙钛矿薄膜。该制备方法在旋涂过程中不需要任何反溶剂，工艺简单，原料易得，成膜速度快，成膜产率高，且成本低廉，适合批量生产。其制备得到的钙钛矿薄膜具有很高的覆盖率，且晶粒尺寸小，表面缺陷态低；具有优异的光电性能，可广泛应用于发光二极管技术领域。

公开(公告)号：CN105273221B

公开(公告)日：2018-08-10

申请号：CN201510409904.4

申请日：2015-04-30

Applicant: 帕尔公司

Inventor： 卡莱德·阿卜戴尔-哈吉姆·阿穆尔 ,  S·石

IPC: C08J9/28 ,  C08J7/04 ,  C09D153/00 ,  C03C17/32 ,  C04B41/48

CPC classification number: C08J9/00 ,  B01D67/0016 ,  B01D71/52 ,  B01D71/62 ,  B01D71/72 ,  B01D71/80 ,  B05D1/005 ,  C08J2205/042 ,  C08J2345/00 ,  Y10T428/249953

Abstract: 公开了由自组装嵌段共聚物形成的膜，例如式(I)的二嵌段共聚物：其中，R1‑R4、n和m如本发明所述，其用于制备纳米多孔膜。膜的实施方式含有自组装成圆柱形形态的嵌段共聚物。还公开了制备这类膜的方法，涉及旋涂含有嵌段共聚物的聚合物溶液，获得薄膜，随后在溶剂蒸气中退火薄膜和/或浸泡在溶剂或溶剂混合物中，形成纳米多孔膜。

公开(公告)号：CN105273212B

公开(公告)日：2018-08-03

申请号：CN201510489054.3

申请日：2015-05-29

Applicant: 帕尔公司

Inventor： K·A-H·H·阿穆尔 ,  S·石

IPC: C08J5/18 ,  C08J9/00 ,  C08G61/12 ,  C08L65/00

CPC classification number: C08J9/00 ,  B01D71/62 ,  B01D71/80 ,  B05D1/005 ,  C08G61/12 ,  C08G2261/126 ,  C08G2261/1412 ,  C08G2261/1424 ,  C08G2261/3342 ,  C08G2261/418 ,  C08G2261/614 ,  C08J2205/042 ,  C08J2353/00 ,  C09D153/00 ,  Y10T428/249953

Abstract: 公开了由式(I)的自组装二嵌段共聚物形成的自组装结构：其中，R1‑R4、n和m如本文所述，其用于制备多孔膜。在一个实施方式中，二嵌段共聚物以圆柱体形态存在于自组装结构中。还公开了一种制备自组装结构的方法，包括旋涂含有所述二嵌段共聚物的聚合物溶液，以获得薄膜，随后使所述薄膜溶剂退火。