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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101346190A
公开(公告)日：2009-01-14
申请号：CN200680048831.X
申请日：2006-12-15
Applicant: 德山株式会社
CPC classification number: G02B5/23 , B05D1/002 , B29D11/00884 , B29D11/00903
Abstract: 本发明的目的在于当以较高速度吐出高粘度涂布液并在基材表面上旋转涂布时减少、防止气泡混入所形成的涂膜中。本发明涉及的旋转涂布法是从喷嘴顶端吐出涂布液并将涂布液滴加于旋转中的基材表面而在基材表面形成均一涂膜的旋转涂布法，其特征在于，涂布液吐出时喷嘴顶端与基材表面的距离为2.5mm以下。
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公开(公告)号：CN101346190B
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：CN200680048831.X
申请日：2006-12-15
Applicant: 德山株式会社
CPC classification number: G02B5/23 , B05D1/002 , B29D11/00884 , B29D11/00903
Abstract: 本发明的目的在于当以较高速度吐出高粘度涂布液并在基材表面上旋转涂布时减少、防止气泡混入所形成的涂膜中。本发明涉及的旋转涂布法是从喷嘴顶端吐出涂布液并将涂布液滴加于旋转中的基材表面而在基材表面形成均一涂膜的旋转涂布法，其特征在于，涂布液吐出时喷嘴顶端与基材表面的距离为2.5mm以下。
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公开(公告)号：CN1161326A
公开(公告)日：1997-10-08
申请号：CN96123400.8
申请日：1996-11-13
Applicant: 德山株式会社
IPC: C07C233/02 , C07C231/00
CPC classification number: C07C231/02 , C07B43/06 , C07C231/10
Abstract: 一种制备乙烯基酰胺化合物的方法，包括在减压条件下，在用蒸馏除去卤化氢副产物的同时，含有与构成亚氨基的碳原子相邻的碳原子和在该碳原子上至少含有一个氢原子的席夫碱化合物和酰基卤反应制备在分子中具有酰胺键和在相对于酰胺键氮原子为α-位和β-位的碳原子之间有双键的乙烯酰胺化合物。
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公开(公告)号：CN101394938A
公开(公告)日：2009-03-25
申请号：CN200780007251.0
申请日：2007-02-27
Applicant: 德山株式会社
CPC classification number: B29D11/0073 , B05C11/08 , B05D1/005 , B29C41/045 , B29D11/00884 , G02B1/10 , G02B5/23
Abstract: 本发明的目的在于提供在眼镜透镜等基材上用含有湿固型聚氨酯树脂的涂布组合物形成聚氨酯底涂层时防止因底涂液飞散及其再附着而引起的底涂层品质下降的方法。本发明涉及的层压体制造方法的特征在于，将含有湿固型聚氨酯树脂的涂布组合物在基材表面旋转涂布而制造具有聚氨酯层的层压体时，从旋转涂布装置的侧壁和/或底部强制排气的同时进行旋转涂布，进而优选旋转涂布装置具有上罩、下部容器以及安装于下部容器的可旋转的基材支撑装置，在上罩和下部容器底部具有排气口，该基材支撑装置内置于下端开口径大于上端开口径的圆筒部件中。
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公开(公告)号：CN1073551C
公开(公告)日：2001-10-24
申请号：CN96123400.8
申请日：1996-11-13
Applicant: 德山株式会社
IPC: C07C233/02 , C07C231/00
CPC classification number: C07C231/02 , C07B43/06 , C07C231/10
Abstract: 一种制备乙烯基酰胺化合物的方法，包括在减压条件下，在用蒸馏除去卤化氢副产物的同时，含有与构成亚氨基的碳原子相邻的碳原子和在该碳原子上至少含有一个氢原子的席夫碱化合物和酰基卤反应制备在分子中具有酰胺键和在相对于酰胺键氮原子为α-位和β-位的碳原子之间有双键的乙烯酰胺化合物。
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