公开(公告)号：WO2012091269A1

公开(公告)日：2012-07-05

申请号：PCT/KR2011/008143

申请日：2011-10-28

Applicant: 포항공과대학교 산학협력단 ,  제정호 ,  정지원

Inventor： 제정호 ,  정지원

IPC: G21K7/00 ,  C23C16/44 ,  C23C16/30

CPC classification number: G02B3/08 ,  B82Y10/00 ,  C23C16/45555 ,  G21K1/062 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/067

Abstract: 본 발명은 엑스선/감마선 집속 광학계의 제조 방법에 관한 것으로서, 모세관 기판을 제공하는 단계, 그리고 상기 모세관 기판의 내부 표면상에 각각 엑스선/감마선 불투명 물질과 엑스선/감마선 투명 물질로 이루어진 복수의 교대 층을 프레넬 형식에 따라 원자층 증착에 의해 순차적으로 퇴적하는 단계를 포함한다.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于制造X射线/γ射线聚焦光学系统的方法，包括以下步骤：制备毛细管基底并连续地堆积多个交替层，交替地由对X射线/ 以及通过原子层沉积以菲涅耳方式在毛细管基底的内表面上对X射线/λ射线透明的材料。

公开(公告)号：WO2011163352A1

公开(公告)日：2011-12-29

申请号：PCT/US2011/041440

申请日：2011-06-22

Applicant: RIGAKU INNOVATIVE TECHNOLOGIES, INC. ,  VERMAN, Boris

Inventor： VERMAN, Boris

IPC: G21K1/04 ,  G21K1/06

CPC classification number: G21K1/062 ,  B82Y10/00 ,  G21K1/04 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067

Abstract: An x-ray optical system includes a multiple corner optic assembly including an adjustable aperture assembly located in close proximity to the optic assembly. The adjustable aperture assembly enables a user to easily and effectively adjust the convergence of an incident beam of x-rays or the optic focal spot size. The adjustable aperture assembly may further enable a user to condition x-rays of one wavelength and block x-rays of another wavelength and thereby reduce the amount of background radiation exhibited from x-rays of more than one wavelength.

Abstract translation: X射线光学系统包括多角度光学组件，其包括位于光学组件附近的可调节光圈组件。 可调孔径组件使得用户能够容易且有效地调整入射光束的X射线或光焦点尺寸的会聚。 可调整孔径组件还可以使用户能够调节一个波长的x射线并阻挡另一个波长的X射线，从而减少从多于一个波长的X射线显示的背景辐射的量。

公开(公告)号：WO2011152291A1

公开(公告)日：2011-12-08

申请号：PCT/JP2011/062155

申请日：2011-05-20

Applicant: CANON KABUSHIKI KAISHA ,  OKAMOTO, Kohei ,  KOMOTO, Atsushi ,  KUBO, Wataru ,  MIYATA, Hirokatsu ,  NOMA, Takashi

Inventor： OKAMOTO, Kohei ,  KOMOTO, Atsushi ,  KUBO, Wataru ,  MIYATA, Hirokatsu ,  NOMA, Takashi

IPC: G21K1/06

CPC classification number: G21K1/06 ,  G21K2201/067 ,  H01J11/44 ,  H01J35/065

Abstract: An X-ray waveguide showing a small propagation loss and having a waveguide mode with its phase controlled is provided. The X-ray waveguide including: a core (404) for guiding an X-ray in a wavelength band that a real part of the refractive index of a material is 1 or less; and a cladding (402, 403) for confining the X-ray in the core, in which: the X-ray is confined in the core by total reflection at a interface between the core and the cladding; in the core multiple materials (405, 406) having different real parts of the refractive index are periodically arranged; and a waveguide mode of the X-ray waveguide is such that the number of antinodes or nodes of an electric field intensity distribution or a magnetic field intensity distribution of the X-ray coincides with the number of periods of the periodic structure in a direction perpendicular to a waveguiding direction of the X-ray in the core.

Abstract translation: 提供了具有小的传播损耗并且具有其相位控制的波导模式的X射线波导。 X射线波导包括：用于引导材料的折射率的实部的1个以下的波长带的X射线的芯部（404） 以及用于将X射线限制在芯中的包层（402,403），其中：通过在芯和包层之间的界面处的全反射将X射线限制在芯中; 在具有折射率不同的实部的核心多个材料（405,406）中周期性地布置; 并且X射线波导的波导模式使得X射线的电场强度分布或磁场强度分布的波腹或节点的数量与垂直方向上的周期性结构的周期数相一致 到核心中的X射线的波导方向。

公开(公告)号：WO2011118830A1

公开(公告)日：2011-09-29

申请号：PCT/JP2011/057516

申请日：2011-03-22

Applicant: GIGAPHOTON INC. ,  KAMEDA, Hidenobu ,  WAKABAYASHI, Osamu ,  MORIYA, Masato

Inventor： KAMEDA, Hidenobu ,  WAKABAYASHI, Osamu ,  MORIYA, Masato

IPC: G21K1/06 ,  G02B5/08

CPC classification number: G21K1/062 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/0891 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/70983 ,  G21K2201/067

Abstract: A mirror is provided which may include: a substrate (111); a thermal diffusion layer (112) provided on a principal surface of the substrate, the thermal diffusion layer having a higher thermal conductivity than the substrate; and a reflective layer (113) provided on the thermal diffusion layer, the reflective layer having a lower thermal conductivity than the thermal diffusion layer.

Abstract translation: 提供了一种可以包括：基板（111）的反射镜; 设置在所述基板的主表面上的热扩散层（112），所述热扩散层具有比所述基板更高的热导率; 以及设置在所述热扩散层上的反射层（113），所述反射层具有比所述热扩散层低的热导率。

公开(公告)号：WO2011061007A1

公开(公告)日：2011-05-26

申请号：PCT/EP2010/065155

申请日：2010-10-11

Applicant: ASML NETHERLANDS B.V. ,  KRIVTSUN, Vladimir ,  YAKUNIN, Andrei ,  MEDVEDEV, Viacheslav

Inventor： KRIVTSUN, Vladimir ,  YAKUNIN, Andrei ,  MEDVEDEV, Viacheslav

IPC: G03F7/20 ,  G02B5/08

CPC classification number: G03F7/70958 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/0891 ,  G03F7/70575 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/067

Abstract: A multilayer mirror (100) is configured to reflect extreme ultraviolet (EUV) radiation while absorbing a second radiation having a wavelength substantially- longer than that of the EUV radiation. The mirror includes a plurality of layer pairs (110, 112) stacked on a substrate (104). Each layer pair comprises a first layer (112) that includes a first material, and a second layer (110) that includes a second material. The first layer (112) is modified to reduce its contribution to reflection of the second radiation, compared with a simple layer of the same metal having the same thickness. Modifications can include doping with a third material in or around the metal layer to reduce its electric conductivity by chemical bonding or electron trapping, and/or splitting the metal layer into sub-layers with insulating layers. The number of layers in the stack is larger than known multilayer mirrors and may be tuned to achieve a minimum in IR reflection.

Abstract translation: 多层反射镜（100）被配置为反射极紫外（EUV）辐射，同时吸收具有比EUV辐射的波长更大的波长的第二辐射。 反射镜包括堆叠在基板（104）上的多个层对（110,112）。 每层对包括包括第一材料的第一层（112）和包括第二材料的第二层（110）。 与具有相同厚度的相同金属的简单层相比，第一层（112）被修改以减少其对第二辐射的反射的贡献。 修改可以包括在金属层中或其周围掺杂第三材料，以通过化学键合或电子俘获来降低其导电性，和/或将金属层分成具有绝缘层的子层。 堆叠中的层数大于已知的多层反射镜，并且可以调谐以在IR反射中达到最小。

公开(公告)号：WO2010135024A3

公开(公告)日：2011-02-24

申请号：PCT/US2010028575

申请日：2010-03-25

Applicant: GEN ELECTRIC ,  LEE SUSANNE MADELINE ,  EDIC PETER MICHAEL

Inventor： LEE SUSANNE MADELINE ,  EDIC PETER MICHAEL

IPC: G02B5/08 ,  G02B6/00 ,  G02B6/02 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06

CPC classification number: G21K1/062 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/0833 ,  G02B5/0883 ,  G02B5/0891 ,  G02B6/0283 ,  G02B6/03638 ,  G02B6/03661 ,  G02B6/03688 ,  G02B6/102 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067

Abstract: An optic device includes a multilayer zone forming a redirection section for redirecting and transmitting photons through total internal reflection, each multilayer zone including a high index material having a first real refractive index n1 and a first absorption coefficient ß1, a low index material having a second real refractive index n2 and a second absorption coefficient ß2, and a grading zone disposed between the high index material and the low index material and including a grading layer having a third real refractive index n3, and a third absorption coefficient ß3, wherein n 1 > n 3 > n2.

Abstract translation: 光学器件包括形成重定向部分的多层区域，用于通过全内反射来重定向和传输光子，每个多层区域包括具有第一实际折射率n1和第一吸收系数β1的高折射率材料，具有第二吸收系数的低折射率材料 实际折射率n2和第二吸收系数β2，以及设置在高折射率材料和低折射率材料之间的分级区，并且包括具有第三实际折射率n3和第三吸收系数β3的分级层，其中n 1> n 3> n2。

公开(公告)号：WO2011000622A1

公开(公告)日：2011-01-06

申请号：PCT/EP2010/056436

申请日：2010-05-11

Applicant: ASML Netherlands B.V. ,  YAKUNIN, Andrei ,  BANINE, Vadim ,  GLUSHKOV, Denis

Inventor： YAKUNIN, Andrei ,  BANINE, Vadim ,  GLUSHKOV, Denis

IPC: G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  H05G2/00

CPC classification number: G03F7/70925 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70983 ,  G21K1/06 ,  G21K1/10 ,  G21K2201/067

Abstract: A transmissive spectral purity filter configured to transmit extreme ultraviolet radiation includes a filter part having a plurality of apertures to transmit extreme ultraviolet radiation and to suppress transmission of a second type of radiation. The apertures may be manufactured in semiconductor material such as silicon by an anisotropic etching process. The semiconductor material is provided with a hydrogen-resistant layer, such as silicon nitride Si 3 N 4 , silicon dioxide SiO 2 , or silicon carbide SiC. Roughness features may be exaggerated in the sidewalls of the apertures. The filter part may be less than about 20 μm thick with apertures about 2 μm to about 4 μm in width.

Abstract translation: 配置为透射极紫外线辐射的透射光谱纯度滤光器包括具有多个孔以过滤极紫外辐射并抑制第二类辐射的透射的滤光器部分。 可以通过各向异性蚀刻工艺在诸如硅的半导体材料中制造孔。 半导体材料设置有耐氮层，例如氮化硅Si 3 N 4，二氧化硅SiO 2或碳化硅SiC。 粗糙度特征可能在孔的侧壁中被夸大。 过滤器部分可以小于约20μm厚，孔宽度大约2μm至大约4μm。

公开(公告)号：WO2010048237A2

公开(公告)日：2010-04-29

申请号：PCT/US2009/061391

申请日：2009-10-20

Applicant: APPLIED MATERIALS, INC. ,  YANG, Yao-Hung ,  NGUYEN, Tuan Anh ,  BALUJA, Sanjeev ,  KASZUBA, Andrzej ,  ROCHA, Juan Carlos ,  NOWAK, Thomas ,  HO, Dustin W.

Inventor： YANG, Yao-Hung ,  NGUYEN, Tuan Anh ,  BALUJA, Sanjeev ,  KASZUBA, Andrzej ,  ROCHA, Juan Carlos ,  NOWAK, Thomas ,  HO, Dustin W.

IPC: H01L21/324 ,  H01L21/205

CPC classification number: G21K1/062 ,  B82Y10/00 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/065 ,  G21K2201/067

Abstract: A reflector for an ultraviolet lamp can be used in a substrate processing apparatus. The reflector comprises a longitudinal strip extending the length of the ultraviolet lamp. The longitudinal strip has a curved reflective surface and comprises a plurality of through holes to direct a coolant gas toward the ultraviolet lamp. A chamber that uses an ultraviolet lamp module with the reflector, and a method of ultraviolet treatment are also described.

Abstract translation: 用于紫外线灯的反射器可用于基板处理设备中。 反射器包括延伸紫外线灯长度的纵向条。 纵向条具有弯曲的反射表面并且包括多个通孔以将冷却剂气体导向紫外线灯。 还描述了使用具有反射器的紫外线灯模块的室和紫外线处理方法。

公开(公告)号：WO2010031483A1

公开(公告)日：2010-03-25

申请号：PCT/EP2009/006112

申请日：2009-08-22

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  VON BLANCKENHAGEN, Gisela

Inventor： VON BLANCKENHAGEN, Gisela

IPC: G03F7/20 ,  G21K1/06

CPC classification number: G03F7/70958 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G02B5/0875 ,  G02B5/0891 ,  G03F1/24 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70783 ,  G03F7/70941 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/067

Abstract: In order to produce stress-reduced reflective optical elements (1) for an operating wave length in the soft X-ray and extreme ultraviolet wavelength range, in particular for use in EUV lithography, it is proposed to apply between substrate (2) and a multilayer system (4) optimized for high reflectivity at the operating wavelength a stress-reducing multilayer system (6) with the aid of layer-forming particles, having an energy of 40 eV or more preferably 90 eV or more. Resulting reflective optical elements (1) are distinguished by low surface roughnesses, a low number of periods in the stress-reducing multilayer system and also high Γ values of the.stress-reducing multilayer system.

Abstract translation: 为了在软X射线和极紫外波长范围内产生用于工作波长的应力减小反射光学元件（1），特别是用于EUV光刻中，建议在基片（2）和多层 系统（4）利用能量为40eV或更优选为90eV或更高的层形成颗粒，在工作波长处的高反射率优化应力降低多层系统（6）。 所得到的反射光学元件（1）的特征在于低表面粗糙度，应力降低多层系统中的低周期数以及降低压降的多层系统的高G值。

公开(公告)号：WO2010001015A1

公开(公告)日：2010-01-07

申请号：PCT/FR2009/051058

申请日：2009-06-04

Applicant: SAGEM DEFENSE SECURITE ,  MERCIER-YTHIER, Renaud ,  GEYL, Roland

Inventor： MERCIER-YTHIER, Renaud ,  GEYL, Roland

IPC: G02B17/06 ,  G21K1/06 ,  G02B19/00

CPC classification number: B82Y10/00 ,  G02B17/061 ,  G02B17/0694 ,  G02B19/0023 ,  G02B19/0047 ,  G02B19/0095 ,  G03F7/70166 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067

Abstract: Un collecteur de rayonnement (10) est adapté pour concentrer dans une tache (100) une partie d'un rayonnement produit par une source. Le collecteur comprend un miroir primaire concave (1) et un miroir secondaire convexe (2), chacun à symétrie de révolution autour d'un axe optique (X-X) du collecteur. Le miroir primaire est adapté pour réfléchir le rayonnement collecté avec un angle d'incidence (i) qui est sensiblement constant entre des points différents dudit miroir primaire. Un tel collecteur est particulièrement adapté pour être utilisé avec une source du type plasma produit par décharge.

Abstract translation: 本发明涉及一种设计用于将由源产生的辐射的一部分集中在点（100）上的辐射收集器（10）。 收集器包括一个初级凹面镜（1）和一个副凸面镜（2），它们都围绕收集器的光轴（X-X）旋转对称。 主镜被配置成以在所述主镜上的不同点之间基本上恒定的入射角（i）反射所收集的辐射。 这种集电器特别适用于放电产生的等离子体源。