METHOD FOR LIMITING CROSSTALK IN AN IMAGE SENSOR

    公开(公告)号:US20200326235A1

    公开(公告)日:2020-10-15

    申请号:US16305673

    申请日:2017-05-30

    Abstract: A method of limiting cross-talk in an imaging sensor, the sensor being in the form of a matrix of macropixels defining an image, each macropixel being formed by a matrix of individual pixels, each of which is dedicated to a distinct spectral band, all of the individual pixels dedicated to the same spectral band forming a sub-image, the image being topologically subdivided into at least one parcel, and the method including the following steps: measuring the spectral response of each individual pixel λ1, λ2, λ3, . . . , λ9; calculating the mean spectral response of each sub-image in a parcel; targeting to define the ideal response of each sub-image in the parcel; estimating a series of coefficients for minimizing cross-talk in the parcel; and applying the coefficients to the macropixels in order to correct the sub-images in the parcel. The method is remarkable in that the ideal response is a Gaussian function.

    DISPOSITIF DE SPECTROSCOPIE OPTIQUE COMPORTANT UNE PLURALITÉ DE SOURCES D'ÉMISSION
    13.
    发明申请
    DISPOSITIF DE SPECTROSCOPIE OPTIQUE COMPORTANT UNE PLURALITÉ DE SOURCES D'ÉMISSION 审中-公开
    具有大量排放源的光学光谱仪器

    公开(公告)号:WO2010066968A1

    公开(公告)日:2010-06-17

    申请号:PCT/FR2009/001407

    申请日:2009-12-10

    CPC classification number: G01J3/26 G01J3/02 G01J3/0256 G01J3/10 G01J3/45

    Abstract: L'invention concerne un dispositif de spectroscopie en longueur d'onde comportant, sur un substrat, une cellule de filtrage CF constituée de deux miroirs séparés par une membrane d'espacement, cette cellule de filtrage étant formée par une pluralité de filtres interférentiels. De plus, ce dispositif comporte une cellule d'émission CE comprenant une pluralité de sources d'émission, chacune de ces sources étant associée à l'un des filtres interférentiels.

    Abstract translation: 本发明涉及一种波长分析装置,其在基板上包括由隔离膜隔开的两个反射镜构成的滤波单元CF,该滤波单元由多个干涉滤波器构成。 此外,该装置包括具有多个发射源的发射单元CE,这些源中的每一个与干涉滤波器之一相关联。

    DISPOSITIF DE CALIBRATION SUR SUBSTRAT EN SILICIUM
    14.
    发明申请
    DISPOSITIF DE CALIBRATION SUR SUBSTRAT EN SILICIUM 审中-公开
    硅衬底上的校准设备

    公开(公告)号:WO2006010821A1

    公开(公告)日:2006-02-02

    申请号:PCT/FR2005/001582

    申请日:2005-06-23

    CPC classification number: H01L22/34

    Abstract: L'invention présente un dispositif de calibration sur un substrat SU en silicium formé, en sus d'un niveau de référence Nc, par au moins deux niveaux distincts Ng, Nd. Ces niveaux présentent des dopages distincts. L'invention vise également un procédé de réalisation de ce dispositif de calibration, procédé comprenant une étape de définition pour définir au moins deux sections distinctes Sg, Sd d'une section de référence Sc sur un substrat SU en silicium. Cette étape de définition consiste à doper à des taux différents les sections différentes de la section de référence.

    Abstract translation: 本发明涉及一种硅衬底SU上的校准装置,除了通过至少两个具有两个不同掺杂的不同等级的不同等级的Ng和Nd之外还形成参考电平Nc。 本发明还涉及一种用于制造本发明的校准装置的方法,该方法包括在硅衬底SU上限定参考部分Sc的至少两个不同部分Sg和Sd,并以不同程度掺杂参考部分的不同部分。

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