具有内部预色散的中阶梯光栅光谱仪装置

    公开(公告)号:CN102378904B

    公开(公告)日:2015-04-01

    申请号:CN201080015286.0

    申请日:2010-01-25

    Abstract: 具有内部级次分离的中阶梯光栅光谱仪装置(10)包含中阶梯光栅(34)和色散元件(38)、成像光学系统(18,22,28,46)、面检测器(16)以及预色散装置(20),所述色散元件(38)用于进行级次分离,使得可产生具有多个被分离的级次(56)的二维谱,所述预色散装置(20)用于朝色散元件(38)的横向色散的方向使辐射预色散。该装置的特征在于:预色散装置(20)包括预色散元件,该预色散元件沿着光学路径被布置在光谱仪装置内部的入射缝隙(12)之后;成像光学系统被构造为使得预色散辐射可以被成像到附加的在预色散方向上无限制的图像平面(24)中,该图像平面(24)沿着光学路径被布置在预色散元件(20)和中阶梯光栅(34)之间;以及光学装置(20,68)被设置在预色散光谱的位置上,用于影响在检测器(16)上的空间和/或光谱辐射密度分布。

    基于应变信号复现的激光衰荡腔精密装校方法和装校装置

    公开(公告)号:CN109374129A

    公开(公告)日:2019-02-22

    申请号:CN201811396662.X

    申请日:2018-11-22

    CPC classification number: G01J3/0213 G01J3/0237

    Abstract: 本发明提供了一种基于应变信号复现的激光衰荡腔精密装校方法和装校装置,解决现有人工装校精密度低缺少客观评估过程的技术问题。方法包括:通过应变组件采集精密调谐过程中同步腔镜姿态变化的应变信号;利用所述应变信号形成所述腔镜姿态变化的应变规律;在装校过程中根据所述应变规律调整腔镜姿态。通过应变组件记录了高精度调谐过程中腔镜姿态变化相应的应变信号变化,通过调谐衰荡信号过程中获得的应变信号可以量化形成腔镜基于微小姿态-应变程度的应变规律,利用应变规律结合现有的衰荡信号变化可以形成半自动精密调校工艺,提升人工装校工艺质量和装校效率,可以成为激光衰荡腔自动化装校的基础。

    颜色传感器装置和用于颜色传感器校准的方法

    公开(公告)号:CN105683728A

    公开(公告)日:2016-06-15

    申请号:CN201480054390.9

    申请日:2014-09-24

    Inventor: 格伦·李

    Abstract: 本发明涉及颜色传感器装置和颜色传感器校准的方法。颜色传感器装置包括颜色传感器(1),其被布置成生成至少第一通道信号(CH1),第一通道信号指示入射在颜色传感器(1)上光的颜色。处理单元(2)被连接至颜色传感器(1)且被布置成通过处理至少第一通道信号(CH1)来生成颜色信号的元组(R,G,B)。存储器(3)被连接至处理单元(2),而控制单元(4)被连接至处理单元(2)和存储器(3)。此外,控制单元(4)被布置成接收校准数据(M)且被布置成借助存储器(3)存储校准数据(M),其使颜色信号的元组(R,G,B)与经校准的颜色信号的元组(X,Y,Z)关联。接口(5)被连接至处理单元(2)且包括接口端子(51)。

    干涉仪装置用光量比调节滤光片、干涉仪装置及光干涉测定方法

    公开(公告)号:CN100447524C

    公开(公告)日:2008-12-31

    申请号:CN200510103631.7

    申请日:2005-09-06

    Inventor: 植木伸明

    CPC classification number: G01B9/02058 G01B9/02057 G01J3/0213 G01J2009/0292

    Abstract: 在干涉仪的基准面和被检测面之间配置光量比调节滤光片(112)。该光量比调节滤光片(112),是在由玻璃构成的透明基板的被测体(117)侧的面上,设置包括光反射吸收层(12a)和电介体防止反射层(12b)的光量比调节膜(12),而在基准面(116a)侧的面上设置防止光反射层(13),其作用是相对于从基准面对置面侧入射的入射光,反射其部分、吸收其部分之后将其余下部分向被测体(117)射出,另外,相对于从被测体(117)返回的返回光,吸收其部分、另方面抑制反射、将剩余作为被检测光向基准面(116a)方向射出。

    干涉仪装置用光量比调节滤光片、干涉仪装置及光干涉测定方法

    公开(公告)号:CN1752712A

    公开(公告)日:2006-03-29

    申请号:CN200510103631.7

    申请日:2005-09-06

    Inventor: 植木伸明

    CPC classification number: G01B9/02058 G01B9/02057 G01J3/0213 G01J2009/0292

    Abstract: 在干涉仪的基准面和被检测面之间配置光量比调节滤光片(112)。该光量比调节滤光片(112),是在由玻璃构成的透明基板的被测体(117)侧的面上,设置包括光反射吸收层(12a)和电介体防止反射层(12b)的光量比调节膜(12),而在基准面(116a)侧的面上设置防止光反射层(13),其作用是相对于从基准面对置面侧入射的入射光,反射其部分、吸收剩余部分之后将其余下部分向被测体(117)射出,另外,相对于从被测体(117)返回的返回光,吸收其部分、另方面抑制反射、将剩余作为被检测光向基准面(116a)方向射出。

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