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公开(公告)号：CN105622364A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201510725055.3
申请日：2015-10-29
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: C07C43/23 , C07C2603/50 , C07C2603/52 , C08G61/02 , C08G2261/1422 , C08G2261/1424 , C08G2261/312 , C08G2261/314 , C08G2261/3424 , C08G2261/362 , C08G2261/45 , C08G2261/72 , C09D165/00 , C07C49/84 , C08G61/04 , C08G61/122 , G03F7/0035
Abstract: 本发明提供一种同时确保耐蚀刻性和平坦化特征的单体、聚合物、有机层组成物、有机层及形成图案的方法，其中，本发明公开由化学式1表示的单体、由化学式2表示的聚合物、包含用于有机层的化合物(即单体、聚合物或其组合)的有机层组成物、由有机层组成物制造的有机层以及通过固化有机层组成物获得的有机层。化学式1和化学式2与具体实施方式中所定义的相同。
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公开(公告)号：CN105280481A
公开(公告)日：2016-01-27
申请号：CN201510379390.2
申请日：2015-07-01
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: H01L21/033 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/11 , C08G61/02 , C08G2261/1424 , C08G2261/146 , C08G2261/148 , C08G2261/3424 , C08G2261/45 , C08G2261/72 , C08G2261/90 , C09D165/00 , C09D165/02 , G03F7/094 , G03F7/40 , H01L21/0212 , H01L21/02126 , H01L21/02304 , H01L21/0276 , H01L21/31116 , H01L21/31144 , H01L21/0332 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种包含聚合物和溶剂的硬掩膜组成物以及形成图案的方法，其中所述硬掩膜组成物包括聚合物，所述聚合物包含由以下化学式1表示的部分。本发明一个实施例的硬掩膜组成物同时确保耐蚀刻性和平坦化特征。[化学式1]在所述化学式1中，A、B、R1和R2与具体实施方式中所定义的相同。
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公开(公告)号：CN106610567B
公开(公告)日：2020-08-04
申请号：CN201610860457.9
申请日：2016-09-28
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种产生层结构以及形成图案的方法。所述产生层结构的方法包含在具有多个图案的衬底上涂布第一组合物且将其固化以形成第一有机层(S1)；施用液体材料到第一有机层以去除第一有机层的一部分(S2)；以及在部分去除的第一有机层上涂布第二组合物且将其固化以形成第二有机层(S3)，其中第一组合物和第二组合物独立地为包含由化学式1表示的结构单元和溶剂的聚合物。本发明不使用特定回蚀或化学机械抛光工艺却可显示极好的平坦化特征，且通过使用预定聚合物作为层材料，显示改进的耐蚀刻性的产生层结构。在化学式1中，A1、B1以及*与具体实施方式中所定义相同。
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公开(公告)号：CN105093834B
公开(公告)日：2020-03-13
申请号：CN201510136947.X
申请日：2015-03-26
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种硬掩模组成物和使用所述硬掩模组成物形成图案的方法。所述硬掩模组成物包含聚合物和溶剂，所述聚合物包含由以下化学式1表示的部分。[化学式1]＊‑A‑B‑＊在所述化学式1中，A和B与具体实施方式中所定义的相同。本发明提供的硬掩模组成物能确保溶剂的可溶性、间隙填充特性和平坦化特性并满足耐热性和耐蚀刻性。
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公开(公告)号：CN106226997B
公开(公告)日：2019-12-17
申请号：CN201610182871.9
申请日：2016-03-28
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种有机层组成物以及形成图案的方法，该有机层组合物包含热收缩率为10％到70％的第一化合物、热收缩率小于所述第一化合物的第二化合物以及溶剂；以及一种通过使所述有机层组成物固化获得的有机层以及一种使用所述有机层组成物形成图案的方法。可以提供同时确保耐蚀刻性和平面化特征的有机层。
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公开(公告)号：CN106336372B
公开(公告)日：2019-09-24
申请号：CN201610457786.9
申请日：2016-06-22
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: C07D209/12 , C07D209/60 , C07D209/86 , C07D311/82 , C07D333/56 , G03F1/46 , G03F1/56
Abstract: 本发明提供一种单体、包含所述单体的有机层组合物、使用所述有机层组合物制造的有机层以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。本发明的单体由化学式1表示，化学式1与具体实施方式中所定义的相同。本发明的单体具有良好的溶解度特征以及优良的耐蚀刻性和耐热性，使用所述单体制造的有机层具有优良的机械特征和膜表面平整度。[化学式1]
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公开(公告)号：CN105575775B
公开(公告)日：2019-08-13
申请号：CN201510426921.9
申请日：2015-07-20
Applicant: 三星SDI株式会社
Inventor： 金旼秀 , 宋炫知 , 姜善惠 , 金成旻 , 金瑆焕 , 金永珉 , 金润俊 , 金惠廷 , 南沇希 , 白载烈 , 尹星莉 , 尹龙云 , 李忠宪 , 郑瑟基 , 赵妍熹 , 洪承希 , 黄善民 , 黄元宗 , 李松世 , 金命九 , 刘奈莉
IPC: H01L21/027 , H01L21/308 , G03F1/46 , G03F1/76 , G03F7/00
Abstract: 本发明提供一种层结构及制造其的方法、形成图案的方法以及半导体装置，其中，制造层结构的方法包含通过将包含第一有机化合物的第一组合物涂覆到具有多个图案的衬底上形成第一有机层(S1)；将溶剂涂覆到第一有机层上以去除第一有机层的一部分(S2)；以及将包含第二有机化合物的第二组合物涂覆到其中的一部分被去除的第一有机层上并且经由固化过程形成第二有机层(S3)；从而可制造具有卓越平坦化特征的层结构，且无需单独的回蚀刻制程或化学机械抛光制程。
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公开(公告)号：CN106226997A
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：CN201610182871.9
申请日：2016-03-28
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种有机层组成物以及形成图案的方法，该有机层组合物包含热收缩率为10％到70％的第一化合物、热收缩率小于所述第一化合物的第二化合物以及溶剂；以及一种通过使所述有机层组成物固化获得的有机层以及一种使用所述有机层组成物形成图案的方法。可以提供同时确保耐蚀刻性和平面化特征的有机层。
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公开(公告)号：CN106188504A
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201510409508.1
申请日：2015-07-13
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种聚合物、包含所述聚合物的有机层组合物、由所述有机层组合物制成的有机层以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。所述聚合物包含用化学式1表示的部分，所述化学式1的定义与具体实施方式中所定义的相同。所述聚合物同时确保抗蚀刻性和平面化特征。
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