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公开(公告)号：CN108431691B
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN201680072484.8
申请日：2016-09-22
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明揭示一种有机膜组合物及使用所述有机膜组合物形成图案的方法，有机膜组合物包含有包含由化学式1表示的结构单元的聚合物、由化学式2表示的添加剂以及溶剂。化学式1及化学式2与实施方式中所定义相同。本发明的有机膜组合物能够改良间隙填充特征及平面化特征以及抗蚀刻性。
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公开(公告)号：CN106336372B
公开(公告)日：2019-09-24
申请号：CN201610457786.9
申请日：2016-06-22
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: C07D209/12 , C07D209/60 , C07D209/86 , C07D311/82 , C07D333/56 , G03F1/46 , G03F1/56
Abstract: 本发明提供一种单体、包含所述单体的有机层组合物、使用所述有机层组合物制造的有机层以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。本发明的单体由化学式1表示，化学式1与具体实施方式中所定义的相同。本发明的单体具有良好的溶解度特征以及优良的耐蚀刻性和耐热性，使用所述单体制造的有机层具有优良的机械特征和膜表面平整度。[化学式1]
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公开(公告)号：CN106188504A
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201510409508.1
申请日：2015-07-13
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种聚合物、包含所述聚合物的有机层组合物、由所述有机层组合物制成的有机层以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。所述聚合物包含用化学式1表示的部分，所述化学式1的定义与具体实施方式中所定义的相同。所述聚合物同时确保抗蚀刻性和平面化特征。
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公开(公告)号：CN105885018A
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201510795893.8
申请日：2015-11-18
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: C08G61/12 , C08L65/00 , H01L21/027 , G03F1/56
CPC classification number: C08G12/00 , C08G12/26 , C08G61/124 , C08G73/0672 , C08G2261/1424 , C08G2261/148 , C08G2261/314 , C08G2261/3241 , C08G2261/3424 , G03F7/0752 , G03F7/094 , H01L21/0271 , C08L65/00 , G03F1/56 , H01L21/0276
Abstract: 本发明提供一种包含由化学式1表示的部分的聚合物、一种包含所述聚合物的有机层组成物、一种由所述有机层组成物制成的有机层以及一种使用所述有机层组成物形成图案的方法。本发明的聚合物具有良好的膜密度、抗蚀刻性以及可溶性。
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公开(公告)号：CN108291013B
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN201680070703.9
申请日：2016-10-19
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明揭示一种聚合物，其包含由化学式1表示的结构单元及由化学式2表示的结构单元；包含所述聚合物的有机层组成物；及使用所述有机层组成物形成图案的方法。在化学式1及化学式2中，A1及A2独立地为二价基团，其包含经取代或未经取代的苯环中的至少一者，A3为包含四级碳的二价基团，且*为连接点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106084159B
公开(公告)日：2019-10-01
申请号：CN201610183382.5
申请日：2016-03-28
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明是关于一种聚合物、有机层组合物以及形成图案的方法。所述聚合物包含由化学式1表示的第一部分和包含经取代或未经取代的C6至C60环基、经取代或未经取代的C6至C60杂环基或其组合的第二部分。本发明的聚合物具有良好的溶解度特征以及极好的耐蚀刻性。[化学式1]
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公开(公告)号：CN109478015A
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201680087729.4
申请日：2016-10-18
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: G03F7/004 , H01L21/033 , H01L21/027 , H01L21/324 , H01L21/02 , C08L65/00
Abstract: 本发明揭示一种有机层组成物及使用有机层组成物的图案形成方法，有机层组成物包含：聚合物，包含由化学式1表示的结构单元；添加剂，在作为含芳族环化合物的结构中包含经取代或未经取代的胺基、经取代或未经取代的乙烯基、经取代或未经取代的乙炔基、叠氮基或腈基中的至少一者；以及溶剂。化学式1与在说明书中所定义的相同。
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公开(公告)号：CN105646850B
公开(公告)日：2018-12-28
申请号：CN201510794412.1
申请日：2015-11-18
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: C08G61/12 , C08L65/00 , H01L21/027 , G03F1/56
Abstract: 本发明公开一种聚合物、有机层组合物、有机层以及形成图案的方法，具体公开由化学式1表示的部分的聚合物、包含所述聚合物的有机层组合物、由所述有机层组合物形成的有机层以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。化学式1表示如下，其中，在化学式1中，A1和A2各自独立地是衍生自含氮原子的芳环基团的二价基团，A3和A4各自独立地是由化学式2表示的二价基团，n是0或1，以及‘*’指示化合物或化合物的部分的连接点。可以提供具有改善的溶解性、耐蚀刻性以及储存稳定性的有机层材料。
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公开(公告)号：CN106046696A
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201510919487.8
申请日：2015-12-11
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: C08G73/0672 , G03F7/0041 , G03F7/0752 , G03F7/091 , G03F7/094 , H01L51/0018
Abstract: 一种有机层组合物包含：包含由化学式1表示的部分的聚合物、由化学式2表示的单体以及溶剂，还提供一种由所述有机层组合物制造的有机层，和一种使用所述有机层组合物形成图案的方法。所述有机层组合物可以提供同时确保耐蚀刻性、耐热性以及平坦化特征的有机层。化学式1和化学式2的定义与具体实施方式中相同。[化学式1][化学式2]。
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公开(公告)号：CN106046696B
公开(公告)日：2019-04-09
申请号：CN201510919487.8
申请日：2015-12-11
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 一种有机层组合物包含：包含由化学式1表示的部分的聚合物、由化学式2表示的单体以及溶剂，还提供一种由所述有机层组合物制造的有机层，和一种使用所述有机层组合物形成图案的方法。所述有机层组合物可以提供同时确保耐蚀刻性、耐热性以及平坦化特征的有机层。化学式1和化学式2的定义与具体实施方式中相同。[化学式1][化学式2]
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