公开(公告)号：CN112731766A

公开(公告)日：2021-04-30

申请号：CN202011089400.6

申请日：2020-10-13

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金昇炫 ,  郑铉日 ,  金尙美 ,  金铃根 ,  朴相喆

IPC: G03F7/09 ,  C08G8/04

Abstract: 本发明提供一种硬掩模组合物、硬掩模层以及形成图案的方法，所述硬掩模组合物包含聚合物和溶剂，所述聚合物包含由化学式1表示的结构单元。在化学式1中，A、B以及R1到R5的定义如本说明书中所描述。所述硬掩模组合物能够改进耐蚀刻性和膜密度。[化学式1]

公开(公告)号：CN106188504A

公开(公告)日：2016-12-07

申请号：CN201510409508.1

申请日：2015-07-13

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 南沇希 ,  金昇炫 ,  权孝英 ,  金瑆焕 ,  南宫烂 ,  文秀贤 ,  豆米尼阿·拉特维 ,  宋炫知 ,  郑铉日 ,  许柳美

IPC: C08G61/12 ,  C08G65/00 ,  G03F7/09 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供一种聚合物、包含所述聚合物的有机层组合物、由所述有机层组合物制成的有机层以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。所述聚合物包含用化学式1表示的部分，所述化学式1的定义与具体实施方式中所定义的相同。所述聚合物同时确保抗蚀刻性和平面化特征。

公开(公告)号：CN105885018A

公开(公告)日：2016-08-24

申请号：CN201510795893.8

申请日：2015-11-18

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 南宫烂 ,  权孝英 ,  金昇炫 ,  豆米尼阿·拉特维 ,  文秀贤 ,  郑铉日 ,  许柳美

IPC: C08G61/12 ,  C08L65/00 ,  H01L21/027 ,  G03F1/56

CPC classification number: C08G12/00 ,  C08G12/26 ,  C08G61/124 ,  C08G73/0672 ,  C08G2261/1424 ,  C08G2261/148 ,  C08G2261/314 ,  C08G2261/3241 ,  C08G2261/3424 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/094 ,  H01L21/0271 ,  C08L65/00 ,  G03F1/56 ,  H01L21/0276

Abstract: 本发明提供一种包含由化学式1表示的部分的聚合物、一种包含所述聚合物的有机层组成物、一种由所述有机层组成物制成的有机层以及一种使用所述有机层组成物形成图案的方法。本发明的聚合物具有良好的膜密度、抗蚀刻性以及可溶性。

公开(公告)号：CN110845649B

公开(公告)日：2023-06-06

申请号：CN201910768316.8

申请日：2019-08-20

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 辛乘旭 ,  金昇炫 ,  朴裕信

IPC: C08F138/00

Abstract: 本发明公开一种包含由化学式1或化学式2表示的结构单元的聚合物、包括所述聚合物的有机层组合物以及使用所述有机层组合物来形成图案的方法。化学式1和化学式2的定义与说明书中所描述的定义相同。

公开(公告)号：CN111383912B

公开(公告)日：2023-02-28

申请号：CN201911354471.1

申请日：2019-12-25

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金昇炫 ,  朴裕信 ,  朴亨锡 ,  金瑆焕 ,  郑铉日

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/09

Abstract: 本发明公开一种硬掩模组成物、硬掩模层以及形成图案的方法，硬掩模组成物包含聚合物和溶剂，聚合物包含由化学式1表示的结构单元。在化学式1中，A和B的定义与详细描述中所描述的相同。[化学式1]。

公开(公告)号：CN111542558A

公开(公告)日：2020-08-14

申请号：CN201880079125.4

申请日：2018-09-17

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 郑铉日 ,  金瑆焕 ,  金昇炫 ,  朴裕信 ,  朴惟廷 ,  辛乘旭 ,  林栽范

IPC: C08G61/12 ,  C09D183/04 ,  G03F7/11 ,  G03F7/09 ,  H01L21/027 ,  H01L21/033

Abstract: 本公开是有关于一种聚合物、包含所述聚合物的有机膜组成物以及使用所述有机膜组成物形成图案的方法，其中所述聚合物包括由化学式1表示的结构单元、以及由化学式2或3表示的结构单元。化学式1至3的定义与在说明书中的描述相同。[化学式1] [化学式2] [化学式3]

公开(公告)号：CN105646850B

公开(公告)日：2018-12-28

申请号：CN201510794412.1

申请日：2015-11-18

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 文秀贤 ,  权孝英 ,  金昇炫 ,  南宫烂 ,  豆米尼阿·拉特维 ,  郑铉日 ,  许柳美

IPC: C08G61/12 ,  C08L65/00 ,  H01L21/027 ,  G03F1/56

Abstract: 本发明公开一种聚合物、有机层组合物、有机层以及形成图案的方法，具体公开由化学式1表示的部分的聚合物、包含所述聚合物的有机层组合物、由所述有机层组合物形成的有机层以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。化学式1表示如下，其中，在化学式1中，A1和A2各自独立地是衍生自含氮原子的芳环基团的二价基团，A3和A4各自独立地是由化学式2表示的二价基团，n是0或1，以及‘*’指示化合物或化合物的部分的连接点。可以提供具有改善的溶解性、耐蚀刻性以及储存稳定性的有机层材料。

公开(公告)号：CN106046696A

公开(公告)日：2016-10-26

申请号：CN201510919487.8

申请日：2015-12-11

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 朴裕信 ,  金润俊 ,  金兑镐 ,  朴惟廷 ,  崔有廷 ,  权孝英 ,  金昇炫 ,  南宫烂 ,  豆米尼阿·拉特维 ,  文秀贤 ,  宋炫知 ,  郑铉日 ,  许柳美

IPC: C08L65/00 ,  C08G61/12 ,  G03F7/00

CPC classification number: C08G73/0672 ,  G03F7/0041 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  H01L51/0018

Abstract: 一种有机层组合物包含：包含由化学式1表示的部分的聚合物、由化学式2表示的单体以及溶剂，还提供一种由所述有机层组合物制造的有机层，和一种使用所述有机层组合物形成图案的方法。所述有机层组合物可以提供同时确保耐蚀刻性、耐热性以及平坦化特征的有机层。化学式1和化学式2的定义与具体实施方式中相同。[化学式1][化学式2]。

公开(公告)号：CN111352300B

公开(公告)日：2023-07-25

申请号：CN201911326113.X

申请日：2019-12-20

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 林栽范 ,  金瑆焕 ,  金昇炫 ,  金兑镐 ,  朴裕信 ,  梁善暎

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/09 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供一种硬掩模组合物、硬掩模层及形成图案的方法。硬掩模组合物包含由化学式1表示的化合物和溶剂：[化学式1]在化学式1中，A、B以及n的定义与详细描述中描述的相同。本发明的硬掩模组合物及硬掩模层具有改进的耐蚀刻性和耐化学性。

公开(公告)号：CN116430672A

公开(公告)日：2023-07-14

申请号：CN202211466675.6

申请日：2022-11-22

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 辛乘旭 ,  朴裕信 ,  金昇炫 ,  朴相喆 ,  金尙美 ,  崔世一 ,  崔熙瑄

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/11 ,  G03F7/00 ,  G03F7/038 ,  C08G10/02

Abstract: 本发明提供一种硬掩模组合物、一种由硬掩模组合物制造的硬掩模层以及一种由硬掩模组合物形成图案的方法，所述硬掩模组合物包含聚合物和溶剂，所述聚合物包含由化学式1表示的结构单元，其中，化学式1的定义如本说明书中所描述。[化学式1]