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公开(公告)号：CN111542558A
公开(公告)日：2020-08-14
申请号：CN201880079125.4
申请日：2018-09-17
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: C08G61/12 , C09D183/04 , G03F7/11 , G03F7/09 , H01L21/027 , H01L21/033
Abstract: 本公开是有关于一种聚合物、包含所述聚合物的有机膜组成物以及使用所述有机膜组成物形成图案的方法，其中所述聚合物包括由化学式1表示的结构单元、以及由化学式2或3表示的结构单元。化学式1至3的定义与在说明书中的描述相同。[化学式1] [化学式2] [化学式3]
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公开(公告)号：CN109478015A
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201680087729.4
申请日：2016-10-18
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: G03F7/004 , H01L21/033 , H01L21/027 , H01L21/324 , H01L21/02 , C08L65/00
Abstract: 本发明揭示一种有机层组成物及使用有机层组成物的图案形成方法，有机层组成物包含：聚合物，包含由化学式1表示的结构单元；添加剂，在作为含芳族环化合物的结构中包含经取代或未经取代的胺基、经取代或未经取代的乙烯基、经取代或未经取代的乙炔基、叠氮基或腈基中的至少一者；以及溶剂。化学式1与在说明书中所定义的相同。
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公开(公告)号：CN104926748B
公开(公告)日：2018-03-20
申请号：CN201510043403.9
申请日：2015-01-28
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: C07D263/57 , C07D235/18 , C07C251/24 , C07C233/80 , G03F7/00
CPC classification number: C09D7/63 , C07C233/80 , C07C251/24 , C07C2603/18 , C07C2603/24 , C07C2603/50 , C09D5/006 , G03F7/0752 , G03F7/094
Abstract: 本发明提供一种由以下化学式1表示的用于硬掩模组合物的单体、一种包含所述单体的硬掩模组合物以及一种使用所述硬掩模组合物形成图案的方法。[化学式1]A、B、B'、L、L'、X以及X'与具体实施方式中所定义的相同。基于此，本发明提供的单体具有改良的耐热性和抗蚀刻性。
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公开(公告)号：CN106610567A
公开(公告)日：2017-05-03
申请号：CN201610860457.9
申请日：2016-09-28
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种产生层结构以及形成图案的方法。所述产生层结构的方法包含在具有多个图案的衬底上涂布第一组合物且将其固化以形成第一有机层(S1)；施用液体材料到第一有机层以去除第一有机层的一部分(S2)；以及在部分去除的第一有机层上涂布第二组合物且将其固化以形成第二有机层(S3)，其中第一组合物和第二组合物独立地为包含由化学式1表示的结构单元和溶剂的聚合物。本发明不使用特定回蚀或化学机械抛光工艺却可显示极好的平坦化特征，且通过使用预定聚合物作为层材料，显示改进的耐蚀刻性的产生层结构。在化学式1中，A1、B1以及*与具体实施方式中所定义相同。
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公开(公告)号：CN118818902A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202410455854.2
申请日：2024-04-16
Applicant: 三星SDI株式会社
Inventor： 金瑆焕
IPC: G03F7/11 , H01L21/027 , G03F7/09
Abstract: 本发明提供一种硬掩模组合物、一种包含硬掩模组合物的固化产物的硬掩模层以及一种使用包含硬掩模组合物的固化产物的硬掩模层形成图案的方法，硬掩模组合物包含由下文化学式1表示的化合物和溶剂，[化学式1]#imgabs0#
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公开(公告)号：CN118502198A
公开(公告)日：2024-08-16
申请号：CN202410173719.9
申请日：2024-02-07
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种硬掩模组合物、包含硬掩模组合物的固化产物的硬掩模层以及使用包含硬掩模组合物的固化产物的硬掩模层形成图案的方法，硬掩模组合物包含由化学式1表示的化合物和溶剂。由本发明硬掩模组合物获得的硬掩模层可具有改进的抗蚀刻性。[化学式1]#imgabs0#
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公开(公告)号：CN118363271A
公开(公告)日：2024-07-19
申请号：CN202410048948.8
申请日：2024-01-12
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 一种硬掩模组合物、包含前述硬掩模组合物的固化产物的硬掩模层以及形成图案的方法，所述方法包括使用包含前述硬掩模组合物的固化产物的硬掩模层，所述硬掩模组合物包含溶剂以及由化学式1表示的化合物：[化学式1]#imgabs0#
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公开(公告)号：CN106610567B
公开(公告)日：2020-08-04
申请号：CN201610860457.9
申请日：2016-09-28
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种产生层结构以及形成图案的方法。所述产生层结构的方法包含在具有多个图案的衬底上涂布第一组合物且将其固化以形成第一有机层(S1)；施用液体材料到第一有机层以去除第一有机层的一部分(S2)；以及在部分去除的第一有机层上涂布第二组合物且将其固化以形成第二有机层(S3)，其中第一组合物和第二组合物独立地为包含由化学式1表示的结构单元和溶剂的聚合物。本发明不使用特定回蚀或化学机械抛光工艺却可显示极好的平坦化特征，且通过使用预定聚合物作为层材料，显示改进的耐蚀刻性的产生层结构。在化学式1中，A1、B1以及*与具体实施方式中所定义相同。
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公开(公告)号：CN105575775B
公开(公告)日：2019-08-13
申请号：CN201510426921.9
申请日：2015-07-20
Applicant: 三星SDI株式会社
Inventor： 金旼秀 , 宋炫知 , 姜善惠 , 金成旻 , 金瑆焕 , 金永珉 , 金润俊 , 金惠廷 , 南沇希 , 白载烈 , 尹星莉 , 尹龙云 , 李忠宪 , 郑瑟基 , 赵妍熹 , 洪承希 , 黄善民 , 黄元宗 , 李松世 , 金命九 , 刘奈莉
IPC: H01L21/027 , H01L21/308 , G03F1/46 , G03F1/76 , G03F7/00
Abstract: 本发明提供一种层结构及制造其的方法、形成图案的方法以及半导体装置，其中，制造层结构的方法包含通过将包含第一有机化合物的第一组合物涂覆到具有多个图案的衬底上形成第一有机层(S1)；将溶剂涂覆到第一有机层上以去除第一有机层的一部分(S2)；以及将包含第二有机化合物的第二组合物涂覆到其中的一部分被去除的第一有机层上并且经由固化过程形成第二有机层(S3)；从而可制造具有卓越平坦化特征的层结构，且无需单独的回蚀刻制程或化学机械抛光制程。
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