公开(公告)号：CN110402299A

公开(公告)日：2019-11-01

申请号：CN201880017538.X

申请日：2018-05-08

Applicant: 三菱综合材料株式会社

Inventor： 大友健志 ,  井尾谦介

IPC: C23C14/34 ,  B22F1/00 ,  C22C1/04 ,  C22C9/06 ,  C22C19/03

Abstract: 本发明提供一种CuNi合金溅射靶，其特征在于，具有如下组成：在16质量％以上且55质量％以下的范围内含有Ni，剩余部分由Cu及不可避免的杂质构成，在所述不可避免的杂质中，Si、Al、Mg及Zr的含量分别为30质量ppm以下，晶体粒径的偏差为40％以下，并且不具有磁性。

公开(公告)号：CN109563614A

公开(公告)日：2019-04-02

申请号：CN201780046274.6

申请日：2017-07-19

Applicant: 三菱综合材料株式会社

Inventor： 梅本启太 ,  井尾谦介 ,  张守斌 ,  盐野一郎

IPC: C23C14/34 ,  B22F1/00 ,  C22C1/04 ,  C22C9/00 ,  C22C28/00 ,  C22C30/02 ,  H01L31/0749 ,  H01L31/18

Abstract: 本发明的Cu-Ga溅射靶作为金属成分具有如下组成：含有5原子％以上且60原子％以下范围的Ga，进一步含有0.01原子％以上且5原子％以下范围的选自K、Rb及Cs中的至少一种添加元素，并且余量由Cu及不可避免的杂质构成，所述添加元素的全部或一部分以含有选自F、Cl、Br及I中的至少一种卤素的卤化物粒子的状态存在，所述卤化物粒子的最大粒径为15μm以下，氧浓度为1000质量ppm以下。