活性气体生成装置及成膜处理装置

    公开(公告)号:CN112334599A

    公开(公告)日:2021-02-05

    申请号:CN201880094582.0

    申请日:2018-06-25

    Abstract: 本发明的目的在于,提供一种能够实现装置结构的简化及小型化,并且能够抑制活性气体失活的现象的活性气体生成装置的结构。而且,本发明中,设置于电极单元基座(2)的气体通过槽(24)、高压电极用槽(21)及接地电极用槽(22)俯视呈螺旋状。高压电极(11)被埋入到高压电极用槽(21)中,接地电极(12)被埋入到接地电极用槽(22)中。高压电极(11)及接地电极(12)以夹着电极单元基座(2)的一部分及气体通过槽(24)而相互对置的方式配置于电极单元基座(2)内的气体通过槽(24)的两侧面侧,并被设置成与气体通过槽(24)一起在俯视观察时为螺旋状。

    活性气体生成装置
    12.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111836916A

    公开(公告)日:2020-10-27

    申请号:CN201980014601.9

    申请日:2019-02-13

    Abstract: 本发明的目的在于提供能够实现装置构成的简化及小型化且能够抑制活性气体失活的现象的活性气体生成装置的构造。在本发明中,电极单元基座(2)中设置的气体流通槽(24)、高压电极用槽(21)及接地电极用槽(22)俯视时呈螺旋状。以使高压导通孔(41)与高压导通点(P1)俯视时一致的方式在电极单元基座(2)的表面上配置电极单元盖(1)。以俯视时高压开口部(61)涵盖高压导通孔(41)的全部的方式在电极单元盖(1)的表面上配置电极冷却板(3)。而且,以俯视时接地导通槽(62)、接地导通孔(42)及接地导通点(P2)一致的方式在电极单元基座(2)的表面上配置电极单元盖(1)及电极冷却板(3)。

    活性气体生成装置
    13.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117426143A

    公开(公告)日:2024-01-19

    申请号:CN202280037972.0

    申请日:2022-05-18

    Abstract: 本发明的目的在于得到一种活性气体生成装置,能够将高浓度的活性气体从气体喷出口向后级的处理空间供给。本发明的活性气体生成装置(51)为,在电极用介电膜(30)与电极用介电膜(40)相对置的空间即主要电介质空间内,电极用导电膜(31)以及(41)在俯视时重叠的区域被规定为主要放电空间(50)。在电极用介电膜(30)与屏蔽介电膜(8)相对置的空间即辅助电介质空间内,包括电介质贯通口(14)以及罩贯通口(15)的区域被规定为辅助放电空间(58)。辅助放电空间(58)包括屏蔽介电膜(8)上方的缓冲空间的一部分(9),从辅助放电空间(58)到达气体喷出口(61、62)的路径被规定为活性气体流通路径。

    活性气体生成装置
    14.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113170567B

    公开(公告)日:2023-11-28

    申请号:CN201980077109.6

    申请日:2019-11-12

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种活性气体生成装置的结构,能够有意图地减弱在装置的后级设置的处理空间的电场强度,并且将活性气体的失活量抑制在必要最小限度。而且,在本发明的活性气体产生装置(101)中,设置于电极用电介质膜(11)上的辅助导电膜(12)以俯视时与活性气体流通路径的一部分重叠的方式设置,并且辅助导电膜(12)被设定为接地电位。设置于电极用电介质膜(21)上的活性气体用辅助部件(60)设置为,在电极用电介质膜(11)和(21)之间的电介质空间内,在放电空间(6)与气体喷出孔(23)之间填埋活性气体流通路径的一部分而限制为活性气体流通用间隙。

    活性气体生成装置
    15.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111527796B

    公开(公告)日:2022-08-19

    申请号:CN201880084691.4

    申请日:2018-01-10

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够生成优质的活性气体的活性气体生成装置。然后,本发明具有特征(一)~特征(三)。特征(一)为“以接地侧电极构成部(2X)支承高压侧电极构成部(1X)的方式构成活性气体生成用电极组(300)”。特征(二)为“具有设置在高压侧电极构成部(1X)的电介质电极(110)的放电空间外区域、向下方突出的台阶部(115H,115M,115L),通过这些台阶部的形成高度(S15)来规定放电空间(68)的间隙长度”。特征(三)为“高压侧电极构成部(1X)及接地侧电极构成部(2X)分别将放电空间形成区域(R68)的厚度形成得比较薄,并且将上述放电空间外区域的厚度形成得比较厚”。

    活性气体生成装置
    16.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112703582A

    公开(公告)日:2021-04-23

    申请号:CN201980058546.3

    申请日:2019-08-22

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种活性气体生成装置,不将放电空间分割为多个、且施加1种交流电压,就能够向外部喷出包含活性气体浓度相互不同的多种局部活性气体的活性气体。在本发明中,高电压侧电极构成部(1A)包括电介质电极(111)及形成在电介质电极(111)的上表面上的金属电极(101H、101L)。电介质电极(111)成为沿着X方向而膜厚连续地变化的构造。即,电介质电极(111)的右端的膜厚被设定为厚度dA1,左端的膜厚被设定为厚度dB1(>dA1),沿着X方向从右端到左端而连续地变厚。

    活性气体生成装置
    17.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111527796A

    公开(公告)日:2020-08-11

    申请号:CN201880084691.4

    申请日:2018-01-10

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够生成优质的活性气体的活性气体生成装置。然后,本发明具有特征(一)~特征(三)。特征(一)为“以接地侧电极构成部(2X)支承高压侧电极构成部(1X)的方式构成活性气体生成用电极组(300)”。特征(二)为“具有设置在高压侧电极构成部(1X)的电介质电极(110)的放电空间外区域、向下方突出的台阶部(115H,115M,115L),通过这些台阶部的形成高度(S15)来规定放电空间(68)的间隙长度”。特征(三)为“高压侧电极构成部(1X)及接地侧电极构成部(2X)分别将放电空间形成区域(R68)的厚度形成得比较薄,并且将上述放电空间外区域的厚度形成得比较厚”。

    活性气体生成装置
    18.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111052873A

    公开(公告)日:2020-04-21

    申请号:CN201780093717.7

    申请日:2017-09-06

    Abstract: 本发明的目的是提供一种抑制异常放电的发生的活性气体生成装置的构造。并且,在本发明的活性气体生成装置中,供电体(23)设在高电压侧电极构成部(1)的金属电极(10A及10B)的上方,具有在俯视时将高电压侧电极构成部(1)的金属电极(10A及10B)的整体覆盖的形状。供电部(33A及33B)分别设在接地侧电极构成部(2)的金属电极(20A及20B)的下方,具有在俯视时将接地侧电极构成部(2)的金属电极(20A及20B)的整体覆盖的形状。

    活性气体生成装置
    19.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118285158A

    公开(公告)日:2024-07-02

    申请号:CN202280072997.4

    申请日:2022-10-20

    Inventor: 有田廉

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种防止介电膜的绝缘破坏的构造的活性气体生成装置。在本发明的活性气体生成装置(71)的电极单元(51)中,介电膜支承部件(10)具有从下方支承高压侧介电膜(2)的支承面(10F)。设置在接地侧介电膜(3)上方的介电膜按压部件(11)的下表面具有在俯视时与高压侧介电膜(2)的周边区域以及介电膜支承部件(10)的支承面(10F)重叠的电介质接触区域(112)、以及在俯视时与高压侧介电膜(2)的中间区域重叠的电介质非接触区域(111)。通过接受多个按压辅助部件(32)的推压力的介电膜按压部件(11),从上方的电介质接触区域(112)按压高压侧介电膜(2)。

    活性气体生成装置
    20.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112166650B

    公开(公告)日:2023-06-20

    申请号:CN201880093516.1

    申请日:2018-05-30

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种活性气体生成装置,不变更孔板部的构造就能够有意图地减弱设置在孔板部下方的处理空间的电场强度。并且,在本发明中,高电压侧电极构成部(1)还具有与金属电极(10)相独立地形成在电介质电极(11)的上表面上的导电膜(12)。导电膜(12)在俯视时设置在至少一个气体喷出孔(9)与金属电极(10)之间,并且导电膜(12)被设定为接地电位。

Patent Agency Ranking