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    活性气体生成装置
    1.
    发明授权
    活性气体生成装置 有权

    公开(公告)号：CN113179676B

    公开(公告)日：2024-04-09

    申请号：CN201980080397.0

    申请日：2019-11-27

    Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社

    Inventor： 渡边谦资 ,  有田廉

    IPC: H05H1/24

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种活性气体生成装置，能够有意图地减弱活性气体到达后级的处理空间之前的区域中的电场强度。本发明通过高电压施加电极部(1)与接地电位电极部(2)的组合来构成在内部具有放电空间(6)的电极对。高电压施加电极部(1)作为主要构成部而具有电极用电介质膜(11)以及形成在电极用电介质膜(11)的上表面上的金属电极(10)。辅助导电膜(18)以俯视时不与金属电极(10)重叠且包围金属电极(10)的方式形成为圆环状。金属制的电极按压部件(8)在俯视时呈圆环状，以与辅助导电膜(18)的上表面的一部分接触的形态设置，并被固定于金属制的基底凸缘(4)。基底凸缘(4)被赋予接地电位。

    氮化膜成膜方法
    2.
    发明授权
    氮化膜成膜方法 有权

    公开(公告)号：CN110352474B

    公开(公告)日：2023-03-17

    申请号：CN201780086342.1

    申请日：2017-02-14

    Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社 ,  国立大学法人东北大学

    Inventor： 西村真一 ,  渡边谦资 ,  山田义人 ,  寺本章伸 ,  诹访智之 ,  志波良信

    IPC: H01L21/318

    Abstract: 本发明的目的是提供能够在不对基板给予损害的情况下在基板上形成优质的氮化膜的氮化膜成膜方法。并且，本发明的氮化膜成膜方法包括：介由气体供给口(11)将硅烷系气体供给至处理室(10)内的步骤(a)；从自由基产生器(20)介由自由基气体通过口(25)将氮自由基气体(7)供给至处理室(10)内的步骤(b)；和在不使处理室(10)内产生等离子体现象的情况下，使上述步骤(a)中供给的硅烷系气体与上述步骤(b)中供给的氮自由基气体反应，在晶片(1)上形成氮化膜的步骤(c)。

    活性气体生成装置
    3.
    发明公开
    活性气体生成装置 审中-实审

    公开(公告)号：CN114916256A

    公开(公告)日：2022-08-16

    申请号：CN202180007362.1

    申请日：2021-06-25

    Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社

    Inventor： 有田廉 ,  渡边谦资

    IPC: H05H1/24

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种喷出不含杂质的优质的活性气体的构造的活性气体生成装置。并且，本发明的活性气体生成装置(100C)通过冷却板(9)、电极按压部件(8)以及高电压施加电极部(1C)而设置对壳体内空间(33)与放电空间(6C)之间的气体流动进行分离的气体分离构造。活性气体生成装置(100C)还具有设置在高电压施加电极部(1C)的电极用介电膜(11)的上表面上的辅助用金属电极(12)。辅助用金属电极(12)设置为在俯视时与活性气体流通路径的一部分重复，且被设定为接地电位。

    活性气体生成装置及成膜处理装置
    4.
    发明公开
    活性气体生成装置及成膜处理装置 有权

    公开(公告)号：CN112334599A

    公开(公告)日：2021-02-05

    申请号：CN201880094582.0

    申请日：2018-06-25

    Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社

    Inventor： 渡边谦资 ,  西村真一 ,  有田廉

    IPC: C23C16/50 ,  H05H1/24

    Abstract: 本发明的目的在于，提供一种能够实现装置结构的简化及小型化，并且能够抑制活性气体失活的现象的活性气体生成装置的结构。而且，本发明中，设置于电极单元基座(2)的气体通过槽(24)、高压电极用槽(21)及接地电极用槽(22)俯视呈螺旋状。高压电极(11)被埋入到高压电极用槽(21)中，接地电极(12)被埋入到接地电极用槽(22)中。高压电极(11)及接地电极(12)以夹着电极单元基座(2)的一部分及气体通过槽(24)而相互对置的方式配置于电极单元基座(2)内的气体通过槽(24)的两侧面侧，并被设置成与气体通过槽(24)一起在俯视观察时为螺旋状。

    活性气体生成装置
    5.
    发明公开
    活性气体生成装置 有权

    公开(公告)号：CN111836916A

    公开(公告)日：2020-10-27

    申请号：CN201980014601.9

    申请日：2019-02-13

    Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社

    Inventor： 渡边谦资 ,  有田廉

    IPC: C23C16/50 ,  H01L21/205 ,  H01L21/3065

    Abstract: 本发明的目的在于提供能够实现装置构成的简化及小型化且能够抑制活性气体失活的现象的活性气体生成装置的构造。在本发明中，电极单元基座(2)中设置的气体流通槽(24)、高压电极用槽(21)及接地电极用槽(22)俯视时呈螺旋状。以使高压导通孔(41)与高压导通点(P1)俯视时一致的方式在电极单元基座(2)的表面上配置电极单元盖(1)。以俯视时高压开口部(61)涵盖高压导通孔(41)的全部的方式在电极单元盖(1)的表面上配置电极冷却板(3)。而且，以俯视时接地导通槽(62)、接地导通孔(42)及接地导通点(P2)一致的方式在电极单元基座(2)的表面上配置电极单元盖(1)及电极冷却板(3)。

    活性气体生成装置
    6.
    发明公开
    活性气体生成装置 审中-实审

    公开(公告)号：CN118044338A

    公开(公告)日：2024-05-14

    申请号：CN202280065345.8

    申请日：2022-09-14

    Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社

    Inventor： 渡边谦资 ,  有田廉

    IPC: H05H1/24

    Abstract: 本发明的目的在于提供能够供给高浓度的活性气体的活性气体生成装置。在本发明的活性气体生成装置(5)中，第一数量的高电压电极构造体(13)分别被保持在第一数量的槽(54)中的对应的槽(54)的保持空间(S54)内，第二数量的接地电极构造体(14、3、4)分别被保持在第二数量的槽(54)中的对应的槽(54)的保持空间(S54)内。第一数量的高电压电极构造体(13)与第二数量的接地电极构造体(14、3、4)沿着Y方向交替地配置，第一数量的高电压电极构造体(13)各自的第一平面区域与第二数量的接地电极构造体(14、3、4)各自的第二平面区域隔着分离空间(S56)对置。

    活性气体生成装置
    7.
    发明授权
    活性气体生成装置 有权

    公开(公告)号：CN111836916B

    公开(公告)日：2022-06-14

    申请号：CN201980014601.9

    申请日：2019-02-13

    Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社

    Inventor： 渡边谦资 ,  有田廉

    IPC: C23C16/50 ,  H01L21/205 ,  H01L21/3065

    Abstract: 本发明的目的在于提供能够实现装置构成的简化及小型化且能够抑制活性气体失活的现象的活性气体生成装置的构造。在本发明中，电极单元基座(2)中设置的气体流通槽(24)、高压电极用槽(21)及接地电极用槽(22)俯视时呈螺旋状。以使高压导通孔(41)与高压导通点(P1)俯视时一致的方式在电极单元基座(2)的表面上配置电极单元盖(1)。以俯视时高压开口部(61)涵盖高压导通孔(41)的全部的方式在电极单元盖(1)的表面上配置电极冷却板(3)。而且，以俯视时接地导通槽(62)、接地导通孔(42)及接地导通点(P2)一致的方式在电极单元基座(2)的表面上配置电极单元盖(1)及电极冷却板(3)。

    活性气体生成装置和成膜处理装置
    8.
    发明授权
    活性气体生成装置和成膜处理装置 有权

    公开(公告)号：CN109477220B

    公开(公告)日：2021-02-09

    申请号：CN201680087274.6

    申请日：2016-06-28

    Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社

    Inventor： 西村真一 ,  渡边谦资 ,  山田义人

    IPC: C23C16/505 ,  C01B13/11 ,  H05H1/24

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够喷出均匀性高的活性气体的活性气体生成装置。而且，关于本发明的电介质电极(21)，在中央区域(R51)中沿着X方向设置相互沿着X方向形成为2列结构的气体喷出孔(31)～(37)和气体喷出孔(41)～(47)来作为3个以上的多个气体喷出孔。而且，通过在气体喷出孔(31)和气体喷出孔(41)的形成位置设置X方向的差分，2列结构的气体喷出孔(31)～(37)和气体喷出孔(41)～(47)沿着X方向而气体喷出孔(3i)与气体喷出孔(4i)交替地配置。

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