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公开(公告)号：CN116560186A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202310052290.3
申请日：2023-02-02
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/004
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供为高感度且LWR、CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，含有：包含具有由键结于聚合物主链的磺酸阴离子与下式(1)表示的锍阳离子构成的盐结构的重复单元a的基础聚合物。
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公开(公告)号：CN116360217A
公开(公告)日：2023-06-30
申请号：CN202211633529.8
申请日：2022-12-19
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明提供一种化学增幅正型抗蚀剂组成物，其能形成具有极高分辨率，LER小而矩形性优异且能形成显影负载的影响受抑制的图案的抗蚀剂膜。一种化学增幅正型抗蚀剂组成物，包含基础聚合物，该基础聚合物含有：包括含苯酚性羟基的单元、苯酚性羟基受酸不稳定基团保护的单元及羧基受酸不稳定基团保护的单元的聚合物、或包括含苯酚性羟基的单元及苯酚性羟基受酸不稳定基团保护的单元的聚合物及包括含苯酚性羟基的单元及羧基受酸不稳定基团保护的单元的聚合物，该基础聚合物中含有的聚合物的全部重复单元中，具有芳香环骨架的重复单元为65摩尔％以上。
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公开(公告)号：CN113045465B
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202011454985.7
申请日：2020-12-10
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07D333/76 , C07D335/12 , C07D327/08 , C07D339/08 , C07D279/20 , C07C25/18 , C07C39/367 , C07C69/708 , C07C43/225 , C07D347/00 , C07D333/46 , C07D335/02 , C07D327/06 , C07D295/00 , C07C69/76 , C07C69/84 , C07C205/58 , C07C233/54 , C07C69/92 , C07C69/86 , C07C69/94 , C07D307/54 , C07D307/33 , C07C59/135 , C07C69/753 , C07C69/40 , C07C69/732 , C07C69/36 , C07C69/96 , C07C59/56 , C07C69/07 , C07C69/63 , C07C59/64 , C07D307/80 , C07C69/78 , C07C69/767 , G03F7/004
Abstract: 本发明涉及鎓盐化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光学光刻中，为高感度，且CDU、LWR等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物；并提供其所使用的酸扩散抑制剂、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为下式(1)表示的鎓盐化合物、由该鎓盐化合物构成的酸扩散抑制剂、及含有该酸扩散抑制剂的化学增幅抗蚀剂组成物。
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公开(公告)号：CN116136645A
公开(公告)日：2023-05-19
申请号：CN202211459788.3
申请日：2022-11-17
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/039 , C08F220/22 , C08F212/14 , C08F220/38
Abstract: 本发明涉及化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供在使用高能射线的光学光刻中为高感度且LWR及CDU有所改善的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用此组成物的图案形成方法。一种化学增幅抗蚀剂组成物，包含：(A)聚合物P，因酸作用而改变对于显影液的溶解性，包含具有含有预定的含氟原子的芳香环的酸不稳定基团的重复单元、具有苯酚性羟基的重复单元及预定的因曝光而产酸的重复单元；(B)鎓盐型淬灭剂；及(C)溶剂。
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公开(公告)号：CN111440104B
公开(公告)日：2023-03-24
申请号：CN202010046427.0
申请日：2020-01-16
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07D307/33 , C07D307/93 , C07D327/06 , C07D333/76 , C07D495/08 , G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/32
Abstract: 本发明涉及新颖鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供一种新颖鎓盐，其是在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光刻中，高感度且酸扩散小、曝光裕度、掩膜误差因子、线宽粗糙度等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物中使用；并提供含有该鎓盐作为光酸产生剂的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用了该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。一种鎓盐，是以下式(1)表示的。
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公开(公告)号：CN107544206B
公开(公告)日：2020-11-03
申请号：CN201710504684.2
申请日：2017-06-28
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/00 , C07C381/12 , C07C309/12 , C07C25/18 , C07D279/20 , C07D333/76 , C07D327/08
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组合物和图案化方法。本发明的抗蚀剂组合物，其包括基础聚合物和含有碘代苯甲酰氧基的氟代磺酸的锍盐或碘鎓盐，无论其为正型或负型，都提供高感光度和最小的LWR或改善的CDU。
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公开(公告)号：CN119916645A
公开(公告)日：2025-05-02
申请号：CN202411526803.0
申请日：2024-10-30
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及正型抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题为提供超过已知的正型抗蚀剂材料的高感度、高分辨率，且边缘粗糙度、尺寸偏差小，曝光后的图案形状良好的正型抗蚀剂材料、及图案形成方法。本发明的解决手段为一种正型抗蚀剂材料，包含基础聚合物，该基础聚合物含有：具有经取代或非经取代的羧基及经取代或非经取代的酚性羟基的重复单元a，但，该重复单元a具有选自于非经取代的羧基及非经取代的酚性羟基中的至少1者，具有酸不稳定基团的重复单元b，及具有键结于聚合物主链的磺酸的锍盐或錪盐结构的重复单元c。
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公开(公告)号：CN119535887A
公开(公告)日：2025-02-28
申请号：CN202411171868.8
申请日：2024-08-26
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 福岛将大
Abstract: 本发明涉及化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供可改善图案形成时的分辨率且可获得LER及图案忠实性良好的抗蚀剂图案化学增幅负型抗蚀剂组成物、及抗蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段为一种化学增幅负型抗蚀剂组成物，含有：(A)由下式(A)表示的鎓盐构成的光酸产生剂，及(B)包含含有下式(B1)表示的重复单元的聚合物的基础聚合物。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN119439612A
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202411003729.4
申请日：2024-07-25
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供无论为正型或负型皆为高感度，且LWR、CDU经改善的抗蚀剂材料以及使用该抗蚀剂材料的图案形成方法。该课题的解决手段是一种抗蚀剂材料，含有：淬灭剂，包含选自N‑羰基三氟甲氧基苯磺酰胺、N‑羰基二氟甲氧基苯磺酰胺、三氟甲氧基苯磺酰亚胺及二氟甲氧基苯磺酰亚胺中的1种以上的化合物的锍盐。
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公开(公告)号：CN119356028A
公开(公告)日：2025-01-24
申请号：CN202410980453.9
申请日：2024-07-22
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供无论为正型或负型皆为高感度，且LWR、CDU经改善的抗蚀剂材料以及使用该抗蚀剂材料的图案形成方法。该课题的解决手段是一种抗蚀剂材料，含有：淬灭剂，包含三氟甲氧基苯磺酰胺的锍盐或二氟甲氧基苯磺酰胺的锍盐。
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