高阻隔尼龙薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN102896849B

    公开(公告)日:2016-01-20

    申请号:CN201210250206.0

    申请日:2012-07-19

    Inventor: 林凤龙 赵黎

    Abstract: 本发明提供一种高阻隔尼龙薄膜,包括第一表层、芯层、第二表层,其特征在于:在所述第一表层中:MXD6质量百分比含量为10~30%,PA6质量百分比含量为66~88%,自制母料质量百分比含量为2~4%;在所述第二表层中:MXD6质量百分比含量为10~30%,PA6质量百分比含量为66~88%,自制母料质量百分比含量为2~4%。本发明还提供一种高阻隔尼龙薄膜的制备方法。

    一种BOPA消光膜及其制作方法

    公开(公告)号:CN102529255B

    公开(公告)日:2014-11-19

    申请号:CN201010596162.8

    申请日:2010-12-20

    Inventor: 林凤龙 梁文东

    Abstract: 本发明提供一种BOPA消光膜,其中,所述BOPA消光膜为由表层、芯层和消光层组成的三层结构;所述表层的组分中含有0~1%wt的抗粘连剂和0~1%wt的爽滑剂,其余为尼龙-6树脂;所述芯层为尼龙-6树脂;所述消光层的组分为98.5~100%wt的消光料和0~1.5%wt的爽滑剂;以及所述BOPA消光膜的三层结构是通过共挤出和双向拉伸后而形成。本发明还提供一种BOPA消光膜的制造方法。

    一种双向拉伸聚酰胺膜

    公开(公告)号:CN103421311A

    公开(公告)日:2013-12-04

    申请号:CN201310370641.1

    申请日:2013-08-23

    Abstract: 本发明涉及一种双向拉伸聚酰胺膜及其制备方法。该双向拉伸聚酰胺膜包含重量百分比为80~90%的聚酰胺、重量百分比为5~10%的提高延展性助剂、重量百分比为5~10%的无机晶须。该双向拉伸聚酰胺膜的制备方法包括:干混步骤,将聚酰胺、提高延展性助剂、无机晶须进行干混,形成干混合物;挤出步骤,将所述干混合物熔融挤出,得到未延伸的膜;拉伸步骤,将未延伸的膜在长度方向上拉伸2~5倍,在宽度方向上拉伸2~4倍,得到双向拉伸聚酰胺膜。

    一种线性撕裂、高阻隔聚酰胺薄膜

    公开(公告)号:CN106739330B

    公开(公告)日:2018-08-17

    申请号:CN201611041343.8

    申请日:2016-11-21

    Inventor: 林凤龙 陈曦

    Abstract: 本发明提供了一种线性撕裂、高阻隔聚酰胺薄膜,其特征在于,具有五层复合结构,具体为第一表层、第一撕裂层、阻隔层、第二撕裂层、第二表层;其中,所述第一表层成分为88~94.8%PA6、5~10%芳香族聚酰胺、0.1~1.0%二氧化硅、0.1~1.0%芥酸酰胺;第一撕裂层成分为50~79%PA6、20~40%芳香族聚酰胺、0~5%增韧剂、1~5%相容剂;阻隔层成分为100%EVOH;第二撕裂层成分为50~79%PA6、20~40%芳香族聚酰胺、0~5%增韧剂、1~5%相容剂;第二表层成分为88~94.8%PA6、5~10%芳香族聚酰胺、0.1~1.0%二氧化硅、0.1~1.0%芥酸酰胺。本发明所述线性撕裂、高阻隔聚酰胺薄膜,具有优异的气体阻隔性能和线性撕裂性能。

    一种线性撕裂、高阻隔聚酰胺薄膜

    公开(公告)号:CN106739330A

    公开(公告)日:2017-05-31

    申请号:CN201611041343.8

    申请日:2016-11-21

    Inventor: 林凤龙 陈曦

    Abstract: 本发明提供了一种线性撕裂、高阻隔聚酰胺薄膜,其特征在于,具有五层复合结构,具体为第一表层、第一撕裂层、阻隔层、第二撕裂层、第二表层;其中,所述第一表层成分为88~94.8%PA6、5~10%芳香族聚酰胺、0.1~1.0%二氧化硅、0.1~1.0%芥酸酰胺;第一撕裂层成分为50~79%PA6、20~40%芳香族聚酰胺、0~5%增韧剂、1~5%相容剂;阻隔层成分为100%EVOH;第二撕裂层成分为50~79%PA6、20~40%芳香族聚酰胺、0~5%增韧剂、1~5%相容剂;第二表层成分为88~94.8%PA6、5~10%芳香族聚酰胺、0.1~1.0%二氧化硅、0.1~1.0%芥酸酰胺。本发明所述线性撕裂、高阻隔聚酰胺薄膜,具有优异的气体阻隔性能和线性撕裂性能。

    一种纳米稀土成核剂改性的高阻隔薄膜

    公开(公告)号:CN104354411B

    公开(公告)日:2016-07-06

    申请号:CN201410582991.9

    申请日:2014-10-28

    Inventor: 林凤龙 赵黎

    Abstract: 本发明涉及一种纳米稀土成核剂改性的高阻隔薄膜,所述薄膜包括表层1、芯层、表层2,其特征是:表层1中MXD6的含量为10~30%,PA6的含量为63~84.9%,防粘母料的含量为2~4%,相容剂的含量为3~8%,纳米稀土成核剂的含量为0.1~5%;芯层中MXD6的含量为95~99.9%,纳米稀土成核剂的含量为0.1~5%;在表层2中MXD6的含量为10~30%,PA6的含量为63~84.9%,防粘母料的含量为2~4%,相容剂的含量为3~8%,纳米稀土成核剂的含量为0.1~5%。本发明所述的改性的高阻隔薄膜,其对薄膜的拉伸强度及雾度有较好的改善作用。

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