高阻隔尼龙薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN102896849A

    公开(公告)日:2013-01-30

    申请号:CN201210250206.0

    申请日:2012-07-19

    Inventor: 林凤龙 赵黎

    Abstract: 本发明提供一种高阻隔尼龙薄膜,包括第一表层、芯层、第二表层,其特征在于:在所述第一表层中:MXD6质量百分比含量为10~30%,PA6质量百分比含量为66~88%,自制母料质量百分比含量为2~4%;在所述第二表层中:MXD6质量百分比含量为10~30%,PA6质量百分比含量为66~88%,自制母料质量百分比含量为2~4%。本发明还提供一种高阻隔尼龙薄膜的制备方法。

    一种纳米稀土成核剂改性的高阻隔薄膜

    公开(公告)号:CN104354411B

    公开(公告)日:2016-07-06

    申请号:CN201410582991.9

    申请日:2014-10-28

    Inventor: 林凤龙 赵黎

    Abstract: 本发明涉及一种纳米稀土成核剂改性的高阻隔薄膜,所述薄膜包括表层1、芯层、表层2,其特征是:表层1中MXD6的含量为10~30%,PA6的含量为63~84.9%,防粘母料的含量为2~4%,相容剂的含量为3~8%,纳米稀土成核剂的含量为0.1~5%;芯层中MXD6的含量为95~99.9%,纳米稀土成核剂的含量为0.1~5%;在表层2中MXD6的含量为10~30%,PA6的含量为63~84.9%,防粘母料的含量为2~4%,相容剂的含量为3~8%,纳米稀土成核剂的含量为0.1~5%。本发明所述的改性的高阻隔薄膜,其对薄膜的拉伸强度及雾度有较好的改善作用。

    一种双向拉伸聚酰胺膜

    公开(公告)号:CN103421311B

    公开(公告)日:2016-01-20

    申请号:CN201310370641.1

    申请日:2013-08-23

    Abstract: 本发明涉及一种双向拉伸聚酰胺膜及其制备方法。该双向拉伸聚酰胺膜包含重量百分比为80~90%的聚酰胺、重量百分比为5~10%的提高延展性助剂、重量百分比为5~10%的无机晶须。该双向拉伸聚酰胺膜的制备方法包括:干混步骤,将聚酰胺、提高延展性助剂、无机晶须进行干混,形成干混合物;挤出步骤,将所述干混合物熔融挤出,得到未延伸的膜;拉伸步骤,将未延伸的膜在长度方向上拉伸2~5倍,在宽度方向上拉伸2~4倍,得到双向拉伸聚酰胺膜。

    高阻隔尼龙薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN102896849B

    公开(公告)日:2016-01-20

    申请号:CN201210250206.0

    申请日:2012-07-19

    Inventor: 林凤龙 赵黎

    Abstract: 本发明提供一种高阻隔尼龙薄膜,包括第一表层、芯层、第二表层,其特征在于:在所述第一表层中:MXD6质量百分比含量为10~30%,PA6质量百分比含量为66~88%,自制母料质量百分比含量为2~4%;在所述第二表层中:MXD6质量百分比含量为10~30%,PA6质量百分比含量为66~88%,自制母料质量百分比含量为2~4%。本发明还提供一种高阻隔尼龙薄膜的制备方法。

    一种双向拉伸聚酰胺膜

    公开(公告)号:CN103421311A

    公开(公告)日:2013-12-04

    申请号:CN201310370641.1

    申请日:2013-08-23

    Abstract: 本发明涉及一种双向拉伸聚酰胺膜及其制备方法。该双向拉伸聚酰胺膜包含重量百分比为80~90%的聚酰胺、重量百分比为5~10%的提高延展性助剂、重量百分比为5~10%的无机晶须。该双向拉伸聚酰胺膜的制备方法包括:干混步骤,将聚酰胺、提高延展性助剂、无机晶须进行干混,形成干混合物;挤出步骤,将所述干混合物熔融挤出,得到未延伸的膜;拉伸步骤,将未延伸的膜在长度方向上拉伸2~5倍,在宽度方向上拉伸2~4倍,得到双向拉伸聚酰胺膜。

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