一种高阻隔性薄膜及其制作方法

    公开(公告)号:CN102837474A

    公开(公告)日:2012-12-26

    申请号:CN201110165415.0

    申请日:2011-06-20

    Abstract: 本发明提供一种高阻隔性薄膜及其制作方法,所述高阻隔性薄膜为由第一表层、芯层、第二表层组成的三层结构;其中,所述第一表层由0-0.3wt%的爽滑剂、0-0.5wt%的开口剂、10-40wt%的MXD6、59.2-90wt%的PA6切片组成;所述芯层由60-95wt%的MXD6和5-40wt%的PA6切片组成;所述第二表层由0-0.3wt%的爽滑剂、0-0.5wt%的开口剂、10-40wt%的MXD6、59.2-90wt%的PA6切片组成。上述高阻隔薄膜能够大幅度提高薄膜的阻隔性能,具有阻隔性优异,薄膜氧气透过率低,且透明度和柔韧性好的特点。

    双向拉伸纳米尼龙薄膜及其制作方法

    公开(公告)号:CN102615905A

    公开(公告)日:2012-08-01

    申请号:CN201110032584.7

    申请日:2011-01-30

    Inventor: 林凤龙 梁文东

    Abstract: 本发明提供一种双向拉伸纳米尼龙膜,其中,所述双向拉伸纳米尼龙膜为由表层1、芯层和表层2组成的三层结构;其中所述表层1和表层2的组分为:1-20wt%纳米尼龙,71-98wt%尼龙6,1-9wt%的添加剂;芯层的组分为:1-20wt%纳米尼龙,80-99wt%尼龙6;以及所述双向拉伸纳米薄膜的三层结构是通过共挤出和双向拉伸后而形成。本发明还提供一种双向拉伸纳米薄膜的制造方法。

    一种BOPA消光膜及其制作方法

    公开(公告)号:CN102529255A

    公开(公告)日:2012-07-04

    申请号:CN201010596162.8

    申请日:2010-12-20

    Abstract: 本发明提供一种BOPA消光膜,其中,所述BOPA消光膜为由表层、芯层和消光层组成的三层结构;所述表层的组分中含有0~1%wt的抗粘连剂和0~1%wt的爽滑剂,其余为尼龙-6树脂;所述芯层为尼龙-6树脂;所述消光层的组分为98.5~100%wt的消光料和0~1.5%wt的爽滑剂;以及所述BOPA消光膜的三层结构是通过共挤出和双向拉伸后而形成。本发明还提供一种BOPA消光膜的制造方法。

    一种高阻隔性薄膜及其制作方法

    公开(公告)号:CN102837474B

    公开(公告)日:2016-01-20

    申请号:CN201110165415.0

    申请日:2011-06-20

    Abstract: 本发明提供一种高阻隔性薄膜及其制作方法,所述高阻隔性薄膜为由第一表层、芯层、第二表层组成的三层结构;其中,所述第一表层由0-0.3wt%的爽滑剂、0-0.5wt%的开口剂、10-40wt%的MXD6、59.2-90wt%的PA6切片组成;所述芯层由60-95wt%的MXD6和5-40wt%的PA6切片组成;所述第二表层由0-0.3wt%的爽滑剂、0-0.5wt%的开口剂、10-40wt%的MXD6、59.2-90wt%的PA6切片组成。上述高阻隔薄膜能够大幅度提高薄膜的阻隔性能,具有阻隔性优异,薄膜氧气透过率低,且透明度和柔韧性好的特点。

    一种BOPA消光膜及其制作方法

    公开(公告)号:CN102529255B

    公开(公告)日:2014-11-19

    申请号:CN201010596162.8

    申请日:2010-12-20

    Inventor: 林凤龙 梁文东

    Abstract: 本发明提供一种BOPA消光膜,其中,所述BOPA消光膜为由表层、芯层和消光层组成的三层结构;所述表层的组分中含有0~1%wt的抗粘连剂和0~1%wt的爽滑剂,其余为尼龙-6树脂;所述芯层为尼龙-6树脂;所述消光层的组分为98.5~100%wt的消光料和0~1.5%wt的爽滑剂;以及所述BOPA消光膜的三层结构是通过共挤出和双向拉伸后而形成。本发明还提供一种BOPA消光膜的制造方法。

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