形成半导体元件及半导体影像感测器的方法

    公开(公告)号:CN100419951C

    公开(公告)日:2008-09-17

    申请号:CN200510056629.9

    申请日:2005-04-13

    Abstract: 本发明是提供一种形成半导体元件及半导体影像感测器的方法,具体为改善介电层平坦度与均匀度以增强电荷耦合装置与互补式金属氧化物半导体影像感测器元件中光学效能的方法与系统。所述用以达到较佳光学效能的介电层平坦化方法是包含下列步骤。于多个金属图形之上及其周围沉积一具有透光性的第一介电层,形成光学感测器于这些金属图形之间的基底内或其上,其中金属图形可防止位于其间或其下的感测器遭受电磁辐射的影响。之后以化学机械研磨制程研磨第一介电层而制得一倾斜表面,再进一步以平坦化制程消除此不均匀表面,最终得到一全面性均匀的介电层厚度以利感测器适当地运作。

    影像传感器装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN101236925A

    公开(公告)日:2008-08-06

    申请号:CN200810009255.9

    申请日:2008-01-31

    Abstract: 一种影像传感器装置及影像传感器的制造方法。该方法包含:提供半导体衬底,该半导体衬底具有像素区以及周边区;在该像素区中形成光传感元件;以及,在该像素区中形成至少一个晶体管,且在该周边区中形成至少一个晶体管。在该像素区与该周边区中形成该至少一个晶体管的步骤包含:在该像素区与该周边区中形成栅电极;在该像素区与该周边区上沉积介电层;部分蚀刻该介电层,以在该栅电极上形成多个间隙壁,并留下一部分的该介电层覆盖住该像素区;以及,以离子注入方式形成多个源/漏极区。本发明能够以简单有效的方式降低影像传感器中的暗电流。

    影像检测器阵列及其形成方法

    公开(公告)号:CN101001322A

    公开(公告)日:2007-07-18

    申请号:CN200610100024.X

    申请日:2006-06-28

    Inventor: 林志旻

    CPC classification number: H01L27/14685 H01L27/14627

    Abstract: 本发明的影像检测器阵列的基板具有至少三种影像检测器,其中蓝色滤光片靠近第一影像检测器、绿色滤光片靠近第二影像检测器、红色滤光片靠近第三影像检测器。上述阵列具有第一微透镜对应第一影像检测器及蓝色滤光片、第二微透镜对应第二影像检测器及绿色滤光片、第三微透镜对应第三影像检测器及红色滤光片。第一微透镜的有效区域大于第二微透镜的有效区域,且第二微透镜的有效区域大于第三微透镜的有效区域。本发明的影像检测器阵列使影像不同颜色之间的敏感度相同,从而能得到更接近真实色彩的影像。

    感测设备
    18.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109815783A

    公开(公告)日:2019-05-28

    申请号:CN201811396203.1

    申请日:2018-11-22

    Inventor: 林志旻 周正三

    Abstract: 本发明公开一种感测设备。所述感测设备包括:图像传感器;准直仪,位于所述图像传感器上方,所述准直仪具有孔径阵列;滤光层,位于所述准直仪与所述图像传感器之间,其中所述滤光层被配置成过滤透射过所述孔径阵列的一部分光;以及照明层,位于所述准直仪上方。

    影像检测器阵列的形成方法

    公开(公告)号:CN102931204A

    公开(公告)日:2013-02-13

    申请号:CN201210231706.X

    申请日:2006-06-28

    Inventor: 林志旻

    CPC classification number: H01L27/14685 H01L27/14627

    Abstract: 影像检测器阵列的形成方法包括如下步骤:提供基板,其具有第一、第二及第三影像检测器;形成第一、第二及第三滤光片,各自靠近该第一、第二及第三影像检测器;应用光掩模同时形成第一、第二及第三微透镜,第一微透镜对准该第一影像检测器与该第一滤光片,第二微透镜对准该第二影像检测器与该第二滤光片及第三微透镜对准该第三影像检测器与该第二滤光片;第一微透镜的有效面积大于第二微透镜;第二微透镜的有效面积大于第三微透镜;第一、第二、第三滤光片分别为蓝色、绿色、红色滤光片;第一、第二微透镜间不具有沟槽,用光学邻近修正定义第二、第三微透镜之间的沟槽。本发明使影像不同颜色之间的敏感度相同,从而能得到更接近真实色彩的影像。

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