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公开(公告)号:CN102899628B
公开(公告)日:2016-05-25
申请号:CN201210266812.1
申请日:2012-07-30
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: C23C14/56
CPC classification number: C23C14/562 , Y10T428/31678
Abstract: 提供双面真空成膜方法及利用该方法获得的层积体,通过利用简单的装置结构适当地实施加热处理等,有效地制造在双面实施了真空成膜的层积体。将卷成卷筒状的长基体沿从第一辊室朝向第二辊室的第一方向从第一辊室输出,对输出的基体脱气,在第一成膜室,在第一面将第一膜材料成膜,将第一膜材料成膜的基体沿从第二辊室朝向第一辊室的第二方向向第二成膜室引导,在第二成膜室,在沿第二方向引导过程中的基体的、与第一面相反一侧的第二面上将第二膜材料成膜,在设置于第一辊室与第二辊室之间的第三辊室,将在第一面使第一膜材料成膜且在第二面使第二膜材料成膜的基体卷绕成卷筒状,沿第一方向从第一辊室输出在第三辊室卷绕的基体,重复上述全部处理。
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公开(公告)号:CN104294235A
公开(公告)日:2015-01-21
申请号:CN201410345161.4
申请日:2014-07-18
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: H01J37/32449 , H01J37/3244 , H01J37/3277 , H01J37/32816 , H01J37/3299 , H01J37/34 , C23C14/56 , C23C14/34
Abstract: 本发明提供一种与以往相比能够抑制所形成的薄膜在长条膜基材的宽度方向上发生品质偏差的薄膜形成装置。使用于供给成膜用的气体的气体供给部件(100、200)构成为具有沿膜基材(16)的宽度方向排列设置在真空室(12)内的多个气体供给部(120A、120B、120C、220A、220B、220C)和能够针对该气体供给部(120A~120C、220A~220C)分别调整气体的供给量的供给量调整部,使用于测定真空室(12)内的每种气体的分压的气体分压测定部件(400)构成为,具有与气体供给部(120A~120C、220A~220C)的各自的设置位置相对应地设置在膜基材(16)的宽度方向上的测定部(420A、420B、420C),用于测定测定部(420A~420C)的各自的设置位置处的气体的分压。
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公开(公告)号:CN104294225A
公开(公告)日:2015-01-21
申请号:CN201410344545.4
申请日:2014-07-18
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: H01J37/3411 , H01J37/3244 , H01J37/3277 , H01J37/34 , H01J2237/332 , C23C14/34 , C23C14/56
Abstract: 本发明提供一种溅射装置。在本发明的溅射装置中,使1根气体配管(21)与两根以上的气体供给管(22)相连接。将气体供给管(22)、气体配管(21)设置在包围靶材(18)的分隔壁(20)之外,在分隔壁(20)内表面设置多个气体供给口(23)。多个气体供给口(23)设于比靶材(18)表面远离成膜辊(15)的一侧。该溅射装置设有用于冷却分隔壁(20)的冷却配管(24)。
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公开(公告)号:CN108505014B
公开(公告)日:2020-08-21
申请号:CN201810321536.1
申请日:2014-07-16
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本申请的发明提供一种溅射装置,为了不使自成膜辊脱离而输送到下游侧输送辊的长条膜基材因急剧的冷却而发生变形,该溅射装置构成为包括真空室(14)、成膜辊(18)、靶材(20)、气体供给机构(24)、3根驱动辊(下游侧输送辊)(26(1)、26(2))、26(3))、以及用于将各驱动辊(26(1)、26(2)、26(3))的温度维持在80℃以下且比真空室(14)内的最低温度高的范围内的大致恒定温度的3个温度调节机构(30(1)、30(2)、30(3))。
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公开(公告)号:CN104294224B
公开(公告)日:2018-07-17
申请号:CN201410342230.6
申请日:2014-07-17
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: H01J37/32733 , C23C14/34 , C23C14/562 , H01J37/32715 , H01J37/3277 , H01J37/34
Abstract: 本发明提供一种溅射装置和带薄膜的长条膜的制造方法。本发明的溅射装置(10)用于在长条膜上形成薄膜。本发明的溅射装置(10)包括:真空室(11);真空泵(12),其用于对真空室(11)进行排气;供给辊(13),其用于供给长条膜(17);收纳辊(16),其用于收纳长条膜(17);成膜辊(15),其设于真空室(11)内,用于沿着成膜辊(15)的表面输送长条膜(17);靶材(18),其与成膜辊(15)相对;气体配管(21),其用于向真空室(11)内供给气体;导辊(28),其用于引导长条膜(17);导辊轴(24),其设于导辊(28)的两端;轴承(25),其用于支承导辊轴(24);绝缘体(26),其用于将导辊轴(24)与轴承(25)之间绝缘,导辊(28)的与长条膜(17)接触的接触面是浮动电位。
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公开(公告)号:CN105593395A
公开(公告)日:2016-05-18
申请号:CN201480054423.X
申请日:2014-10-10
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: C23C14/3407 , C23C14/3464 , C23C14/562
Abstract: 在溅射装置的靶材更换、阴极清扫过程中,能够两个人以上同时进行作业,无需高处作业且以靶材朝上的状态更换靶材。使阴极台车(19)移动而将靶材(17)和阴极(18)取出到真空槽(11)外。使阴极旋转机构(24)工作而以使靶材(17)朝上的方式使靶材(17)和阴极(18)旋转。使阴极滑动机构(25)工作而使高处的靶材(17)和阴极(18)向低处移动。将旧的靶材(17)从阴极(18)拆下来,并且将新的靶材(17)安装到阴极(18)。使靶材(17)和阴极(18)返回到原来的高度。使靶材(17)和阴极(18)沿着原来的方向返回。使靶材(17)和阴极(18)返回到真空槽(11)内。
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公开(公告)号:CN104294224A
公开(公告)日:2015-01-21
申请号:CN201410342230.6
申请日:2014-07-17
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: H01J37/32733 , C23C14/34 , C23C14/562 , H01J37/32715 , H01J37/3277 , H01J37/34
Abstract: 本发明提供一种溅射装置和带薄膜的长条膜的制造方法。本发明的溅射装置(10)用于在长条膜上形成薄膜。本发明的溅射装置(10)包括:真空室(11);真空泵(12),其用于对真空室(11)进行排气;供给辊(13),其用于供给长条膜(17);收纳辊(16),其用于收纳长条膜(17);成膜辊(15),其设于真空室(11)内,用于沿着成膜辊(15)的表面输送长条膜(17);靶材(18),其与成膜辊(15)相对;气体配管(21),其用于向真空室(11)内供给气体;导辊(28),其用于引导长条膜(17);导辊轴(24),其设于导辊(28)的两端;轴承(25),其用于支承导辊轴(24);绝缘体(26),其用于将导辊轴(24)与轴承(25)之间绝缘,导辊(28)的与长条膜(17)接触的接触面是浮动电位。
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公开(公告)号:CN104294223A
公开(公告)日:2015-01-21
申请号:CN201410339809.7
申请日:2014-07-16
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: C23C14/34
CPC classification number: H01J37/32733 , H01J37/32715 , H01J37/32724 , H01J37/3277 , H01J37/34 , H01J2237/332 , C23C14/34
Abstract: 本申请的发明提供一种溅射装置,为了不使自成膜辊脱离而输送到下游侧输送辊的长条膜基材因急剧的冷却而发生变形,该溅射装置构成为包括真空室(14)、成膜辊(18)、靶材(20)、气体供给机构(24)、3根驱动辊(下游侧输送辊)(26(1)、26(2))、26(3))、以及用于将各驱动辊(26(1)、26(2)、26(3))的温度维持在80℃以下且比真空室(14)内的最低温度高的范围内的大致恒定温度的3个温度调节机构(30(1)、30(2)、30(3))。
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公开(公告)号:CN108505014A
公开(公告)日:2018-09-07
申请号:CN201810321536.1
申请日:2014-07-16
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本申请的发明提供一种溅射装置,为了不使自成膜辊脱离而输送到下游侧输送辊的长条膜基材因急剧的冷却而发生变形,该溅射装置构成为包括真空室(14)、成膜辊(18)、靶材(20)、气体供给机构(24)、3根驱动辊(下游侧输送辊)(26(1)、26(2))、26(3))、以及用于将各驱动辊(26(1)、26(2)、26(3))的温度维持在80℃以下且比真空室(14)内的最低温度高的范围内的大致恒定温度的3个温度调节机构(30(1)、30(2)、30(3))。
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公开(公告)号:CN102758190B
公开(公告)日:2017-07-25
申请号:CN201210132151.3
申请日:2012-04-28
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: C23C14/562 , C23C14/086 , C23C14/14 , C23C14/34 , C23C14/568 , H01L21/67132 , H01L21/67173 , Y10T428/31678
Abstract: 提供一种真空成膜方法和由该方法得到的层积体,在卷对卷技术中进一步谋求作业的高效化或者改善。是对长形基材进行连续真空成膜的方法,具备:沿从第一辊室朝向第二辊室的第一方向将卷绕成卷筒状的长形基材从第一辊室抽出的阶段、将沿第一方向抽出的基材进行脱气的阶段、在第二成膜室将第二膜材料在被脱气的基材的面上进行成膜的阶段、将成膜有第二膜材料的基材在第二辊室进行卷绕的阶段、沿从第二辊室朝向第一辊室的第二方向将在第二辊室卷绕的基材从第二辊室抽出的阶段、在第一成膜室将第一膜材料在沿第二方向抽出的基材的面上进行成膜的阶段、将在第二膜材料上层积有第一膜材料的基材在第一辊室卷绕的阶段。
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