公开(公告)号：CN105307783A

公开(公告)日：2016-02-03

申请号：CN201580000239.1

申请日：2015-04-24

Applicant: 株式会社新柯隆

Inventor： 佐守真悟 ,  高濑慎一 ,  菅原聪 ,  长江亦周 ,  姜友松

IPC: B05D3/00 ,  B05C9/10

CPC classification number: B05B17/04 ,  B05B9/04 ,  B05B13/0221 ,  B05B14/20 ,  B05B16/60 ,  B05D1/02 ,  B05D3/0493 ,  B05D5/083 ,  B05D2203/35 ,  C03C17/30 ,  C03C2217/76 ,  C03C2218/15

Abstract: 本发明提供一种以低成本成膜出具备耐久性的薄膜的方法。该成膜方法使用成膜装置(1)。该装置(1)包括：基板(100)配置于内部下方的真空容器(11)、对该容器(11)内进行排气的真空泵(15)、设置于容器(11)外部且储藏成膜剂溶液(21)的储藏容器(23)、一端具有可以排出成膜剂溶液(21)的排出部(19)的喷嘴(17)。使用由2种以上材料构成的溶液作为成膜剂溶液(21)，所述2种以上材料包括第1材料(S1)和具有高于该S1的蒸汽压(P1)的蒸汽压(P2)的第2材料(S2)。将该成膜剂溶液(21)在高于P1且低于P2的压力气氛下，排出至基板上。

公开(公告)号：CN103154299A

公开(公告)日：2013-06-12

申请号：CN201280003216.2

申请日：2012-09-26

Applicant: 株式会社新柯隆

Inventor： 盐野一郎 ,  林达也 ,  姜友松 ,  长江亦周 ,  宫内充祐 ,  佐守真悟

IPC: C23C14/02 ,  C23C14/22

CPC classification number: C23C14/58 ,  C23C14/0031 ,  C23C14/022 ,  C23C14/24 ,  C23C14/541 ,  C23C14/546

Abstract: 本发明提供一种能够高效地进行防污膜的成膜的成膜装置，该防污膜不但可耐实用而且耐磨耗性能也进一步得到提高。其是基板支架12可旋转地配设在真空容器10内的成膜装置1，所述基板支架12具有用于保持2个以上基板的基体保持面，成膜装置1的构成为具有蒸镀源34和离子源38，其中，所述蒸镀源34按照如下构成配置在真空容器10内：使其向旋转停止时的基板支架12工作的情况下，能够对所述基体保持面的部分区域即第1区域(A3)供给比该第1区域以外的其他区域(残余区域)更多量的成膜材料；所述离子源38按照如下构成、配置和/或朝向设置在所述真空容器10内：使其向旋转停止时的基板支架12工作的情况下，能够仅向着该基体保持面的部分区域即第2区域(A2)照射能量粒子。