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公开(公告)号：CN116057199B
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202180058339.5
申请日：2021-07-15
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/34
Abstract: 本发明提供一种旋转式阴极单元的驱动块，其不但具有容易进行磁盒对驱动块的组装和分解的结构，而且无需对配置在靶的内侧的部件例如实施特殊的防水处理就可进行供电。旋转式阴极单元(Rc)用的驱动块(DB)设置在旋转式阴极单元的靶的X轴线方向前端，并支撑靶，所述旋转式阴极单元具有：配置在真空气氛中的筒状的靶(Tg)；以及插入该靶内的内筒体(35)；所述驱动块具备向设置在内筒体内的部件供电的供电装置，具备中空管(4)，其具有配置在内筒体的轴线方向的延长线上的直线部(62)，供电装置具备机械分离的：与所述部件连接的受电部(811)；以及与电源电路连接的供电部(931)，受电部和供电部以彼此相对的状态配置在内筒体的轴线方向的前端部和直线部的轴线方向的后端部。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117594516A
公开(公告)日：2024-02-23
申请号：CN202310976925.9
申请日：2023-08-04
Applicant: 株式会社爱发科
Inventor： 吉田大介
Abstract: 本发明涉及基板处理装置和夹持机构。所述基板处理装置为处理基板的装置。所述基板处理装置具有处理室、被配置于所述处理室内的基板保持部及掩模。所述基板保持部具有载置所述基板的基板载置部以及能够支撑载置于所述基板载置部的所述基板的夹持机构。所述掩模具备包括具有与所述基板的处理对象区域相对应的形状的掩模开口部的框部。所述夹持机构具有从所述基板保持部的侧面露出的可动臂以及能够支撑所述基板的夹持部。所述夹持部具有被支撑于所述可动臂上的臂支撑部、在所述基板载置部能够与所述基板接触的基板接触部、以及位于所述臂支撑部与所述基板接触部之间的延伸臂。所述延伸臂延伸的方向与所述可动臂延伸的方向相互交叉。
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公开(公告)号：CN117587369A
公开(公告)日：2024-02-23
申请号：CN202310976813.3
申请日：2023-08-04
Applicant: 株式会社爱发科
Inventor： 吉田大介
Abstract: 本发明的基板处理装置是处理基板的装置。所述基板处理装置具备处理室、后背室、掩模和旋转支撑机构。所述旋转支撑机构具有旋转轴和基板保持部。所述旋转支撑机构使支撑所述基板的所述基板保持部在水平搬运位置与成膜直立位置之间旋转。在所述水平搬运位置上，所述基板保持部以向水平方向的方式支撑所述基板，以使所述基板在所述水平方向上能经由所述搬运口移动。在所述成膜直立位置上，所述基板保持部以在对所述基板进行表面处理时所述基板与所述掩模相对的方式支撑所述基板。在所述基板保持部的从所述水平搬运位置向所述成膜直立位置的旋转方向上，所述成膜直立位置上的所述基板保持部的重心的位置不超过所述旋转轴在铅垂方向上的正上方的位置。
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公开(公告)号：CN116057200A
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202180058390.6
申请日：2021-06-11
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/34
Abstract: 本发明提供一种旋转式阴极单元的驱动块，其无需实施防水加工就可对内管内部件进行电力供给。具有绕轴线旋转驱动靶(Tg)的第1驱动装置(92)的旋转式阴极单元(Rc)用驱动块(DB)具有中空管(4)，所述中空管(4)具有从内管(3)向轴线方向延伸的直线部；第1内筒体(5)，其外套在中空管的直线部上，限定与内管内的冷媒循环通道(Fp2)连通的第1通道(Fp3)；第2内筒体(6)，其外套在第1内筒体上，限定与靶和内管之间的冷媒循环通道(Fp1)连通的第2通道(Fp4)；以及外筒体(7)，其经轴承(Br2)外嵌在第2内筒体上，与靶的轴线方向一端连结，传递来自驱动装置的动力；还具有隔绝装置(Sv1～Sv3)，其在内管一端连结中空管的状态下使彼此连通的内管和中空管的内部空间与真空气氛隔绝。
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公开(公告)号：CN110114502A
公开(公告)日：2019-08-09
申请号：CN201880005318.5
申请日：2018-10-04
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明的溅射装置(1)具有能够更换相对于在腔室内通过溅射来成膜的基板(S)大致垂直保持的掩模框架(F)的掩模更换机构(100)。掩模更换机构具有：能够密闭的储备室(50)，能够以表面平行状态储备多个所述掩模框架；和运送机构(60)，用于将储备的多个掩模框架运送至腔室(4)内的作为成膜位置的掩模室(43)。在储备室中设置有：储备支撑部(51，52，53，54)，能够沿与掩模框架的掩模面大致正交的方向前后移动；驱动支撑部(55，65)，能够沿表面方向驱动选自储备于储备支撑部的掩模框架中的掩模框架；和运送上支撑部(56，66)，在通过驱动支撑部来移动掩模框架时，能够以不倾斜的方式支撑所述掩模框架的上端。
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公开(公告)号：CN102859677A
公开(公告)日：2013-01-02
申请号：CN201180020937.X
申请日：2011-05-25
Applicant: 株式会社爱发科
Inventor： 吉田大介
IPC: H01L21/677 , B65G49/06
CPC classification number: H01L21/67742 , B65G49/063 , B65G2249/02
Abstract: 本发明提供一种使结构简易化从而能够减少部件数量且能够缩短基板移动时间的转移装置及安装有该转移装置的真空处理装置。保持搬送托架(17)的保持基部(32)通过平行连接机构(40)而旋转，从而使得搬送托架(17)在去路(R1)和回路(R2)之间移动。因此，不需要像现有技术那样的升降机构和滑动机构的双轴的移动操作，而是能够通过驱动平行连接机构(40)的一个驱动部(50)来实现搬送托架(17)的移动。即，能够使转移装置(30)的结构简易化，能够减少部件的数量。由此，能够降低成本，且能够降低维护的频率。另外，通过保持基部(32)的旋转来移动，与现有的转移装置相比，能够缩短移动时间。
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