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公开(公告)号：CN116057199A
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202180058339.5
申请日：2021-07-15
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/34
Abstract: 本发明提供一种旋转式阴极单元的驱动块，其不但具有容易进行磁盒对驱动块的组装和分解的结构，而且无需对配置在靶的内侧的部件例如实施特殊的防水处理就可进行供电。旋转式阴极单元(Rc)用的驱动块(DB)设置在旋转式阴极单元的靶的X轴线方向前端，并支撑靶，所述旋转式阴极单元具有：配置在真空气氛中的筒状的靶(Tg)；以及插入该靶内的内筒体(35)；所述驱动块具备向设置在内筒体内的部件供电的供电装置，具备中空管(4)，其具有配置在内筒体的轴线方向的延长线上的直线部(62)，供电装置具备机械分离的：与所述部件连接的受电部(811)；以及与电源电路连接的供电部(931)，受电部和供电部以彼此相对的状态配置在内筒体的轴线方向的前端部和直线部的轴线方向的后端部。
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公开(公告)号：CN110114502B
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN201880005318.5
申请日：2018-10-04
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明的溅射装置(1)具有能够更换相对于在腔室内通过溅射来成膜的基板(S)大致垂直保持的掩模框架(F)的掩模更换机构(100)。掩模更换机构具有：能够密闭的储备室(50)，能够以表面平行状态储备多个所述掩模框架；和运送机构(60)，用于将储备的多个掩模框架运送至腔室(4)内的作为成膜位置的掩模室(43)。在储备室中设置有：储备支撑部(51，52，53，54)，能够沿与掩模框架的掩模面大致正交的方向前后移动；驱动支撑部(55，65)，能够沿表面方向驱动选自储备于储备支撑部的掩模框架中的掩模框架；和运送上支撑部(56，66)，在通过驱动支撑部来移动掩模框架时，能够以不倾斜的方式支撑所述掩模框架的上端。
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公开(公告)号：CN109429499A
公开(公告)日：2019-03-05
申请号：CN201880001918.4
申请日：2018-06-05
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明的成膜装置具有对在腔室内成膜的基板对准大致垂直保持的掩模框架的掩模对准机构，所述掩模对准机构具有：卡合部，设置于所述掩模框架的下表面中的两端；支撑对准部，设置于所述掩模框架的成膜位置上的两端的下部且能够支撑所述掩模框架，所述支撑对准部能够通过与所述卡合部卡合来进行对准；和上部对准部，能够在与所述掩模框架的表面正交的方向上设定所述掩模框架的上侧位置，并且能够支撑及释放所述掩模框架，所述成膜装置能够利用所述掩模对准机构，以与所述掩模框架的所述表面平行的两个方向及与所述掩模框架的所述表面正交的正交方向这三个轴向和绕所述三个轴向的轴线的三个旋转方向上的六个自由度，进行所述掩模框架的对准。
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公开(公告)号：CN102007575A
公开(公告)日：2011-04-06
申请号：CN201080001371.1
申请日：2010-02-01
Applicant: 株式会社爱发科
Inventor： 吉田大介
IPC: H01L21/205 , C23C14/00 , H01L21/3065
Abstract: 本发明的目的在于，提供一种能够保证具有适当的密封性、良好的组装操作性的工作腔及其制作方法。为达到上述目的，本发明一个实施方式的工作腔(1)具有第1工作腔分体(10)、第2工作腔分体(20)、密封部件(71)。在具有上述结构的工作腔(1)中，第1工作腔分体(10)与第2工作腔分体(20)被相互接合在一起后，将密封部(71a)沿着其接合部(J1)安装。所以，在接合工作腔分体1时能够较容易地对接合位置进行微调。进而，能够改善密封部件的安装操作性从而保证了适当的密封性。
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公开(公告)号：CN110100043A
公开(公告)日：2019-08-06
申请号：CN201880005312.8
申请日：2018-10-23
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明的基板处理装置为对基板进行处理的装置，具有：处理室，在腔室内对所述基板的表面进行处理；后背室，与所述处理室相邻，在所述后背室中移动所述基板，并且在所述后背室中支撑所述基板；掩模，配置在所述处理室与所述后背室的边界位置上；和支撑机构，以能够朝向所述掩模按压所述基板的方式支撑所述基板，从而在对基板进行处理时使所述基板与所述掩模紧贴，所述支撑机构设定为能够追随所述基板和所述掩模的变形而调整作用于所述基板的背面的按压力。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101952950A
公开(公告)日：2011-01-19
申请号：CN200980105985.1
申请日：2009-02-26
Applicant: 株式会社爱发科
Inventor： 吉田大介
IPC: H01L21/677 , B65G49/06
CPC classification number: H01L21/67712 , B65G49/063 , B65G49/068 , B65G2249/02 , H01L21/67721
Abstract: 本发明是一种能够在不使装置大型化的情况下使基板搬送处理的装卸效率提高的搬送装置(30)。搬送装置(30)包括搬送托架(17)、能够支持搬送托架的托架平台(38)、升降机构(32)、和滑动机构(31)，所述搬送托架在将基板以竖立状态支承的同时在第1搬送通道(R1)和第2搬送通道(R2)之间搬送所述基板，所述升降机构使托架平台上升而使搬送托架从各个搬送通道脱离、并使托架平台下降而将搬送托架载置到各个搬送通道上，所述滑动机构使所述升降机构在第1以及第2搬送通道之间移动。升降机构(32)包括锁定机构(37)，该锁定机构与托架平台的上升动作联动而将搬送托架锁定在托架平台上，并且与托架平台的下降动作联动来解除搬送托架的锁定状态。
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公开(公告)号：CN110100043B
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN201880005312.8
申请日：2018-10-23
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明的基板处理装置为对基板进行处理的装置，具有：处理室，在腔室内对所述基板的表面进行处理；后背室，与所述处理室相邻，在所述后背室中移动所述基板，并且在所述后背室中支撑所述基板；掩模，配置在所述处理室与所述后背室的边界位置上；和支撑机构，以能够朝向所述掩模按压所述基板的方式支撑所述基板，从而在对基板进行处理时使所述基板与所述掩模紧贴，所述支撑机构设定为能够追随所述基板和所述掩模的变形而调整作用于所述基板的背面的按压力。
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公开(公告)号：CN102859677B
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：CN201180020937.X
申请日：2011-05-25
Applicant: 株式会社爱发科
Inventor： 吉田大介
IPC: H01L21/677 , B65G49/06
CPC classification number: H01L21/67742 , B65G49/063 , B65G2249/02
Abstract: 本发明提供一种使结构简易化从而能够减少部件数量且能够缩短基板移动时间的转移装置及安装有该转移装置的真空处理装置。保持搬送托架(17)的保持基部(32)通过平行连接机构(40)而旋转，从而使得搬送托架(17)在去路(R1)和回路(R2)之间移动。因此，不需要像现有技术那样的升降机构和滑动机构的双轴的移动操作，而是能够通过驱动平行连接机构(40)的一个驱动部(50)来实现搬送托架(17)的移动。即，能够使转移装置(30)的结构简易化，能够减少部件的数量。由此，能够降低成本，且能够降低维护的频率。另外，通过保持基部(32)的旋转来移动，与现有的转移装置相比，能够缩短移动时间。
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公开(公告)号：CN101952950B
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：CN200980105985.1
申请日：2009-02-26
Applicant: 株式会社爱发科
Inventor： 吉田大介
IPC: H01L21/677 , B65G49/06
CPC classification number: H01L21/67712 , B65G49/063 , B65G49/068 , B65G2249/02 , H01L21/67721
Abstract: 本发明是一种能够在不使装置大型化的情况下使基板搬送处理的装卸效率提高的搬送装置(30)。搬送装置(30)包括搬送托架(17)、能够支持搬送托架的托架平台(38)、升降机构(32)、和滑动机构(31)，所述搬送托架在将基板以竖立状态支承的同时在第1搬送通道(R1)和第2搬送通道(R2)之间搬送所述基板，所述升降机构使托架平台上升而使搬送托架从各个搬送通道脱离、并使托架平台下降而将搬送托架载置到各个搬送通道上，所述滑动机构使所述升降机构在第1以及第2搬送通道之间移动。升降机构(32)包括锁定机构(37)，该锁定机构与托架平台的上升动作联动而将搬送托架锁定在托架平台上，并且与托架平台的下降动作联动来解除搬送托架的锁定状态。
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公开(公告)号：CN116057200B
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202180058390.6
申请日：2021-06-11
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供一种旋转式阴极单元的驱动块，其无需实施防水加工就可对内管内部件进行电力供给。具有绕轴线旋转驱动靶(Tg)的第1驱动装置(92)的旋转式阴极单元(Rc)用驱动块(DB)具有中空管(4)，所述中空管(4)具有从内管(3)向轴线方向延伸的直线部；第1内筒体(5)，其外套在中空管的直线部上，限定与内管内的冷媒循环通道(Fp2)连通的第1通道(Fp3)；第2内筒体(6)，其外套在第1内筒体上，限定与靶和内管之间的冷媒循环通道(Fp1)连通的第2通道(Fp4)；以及外筒体(7)，其经轴承(Br2)外嵌在第2内筒体上，与靶的轴线方向一端连结，传递来自驱动装置的动力；还具有隔绝装置(Sv1～Sv3)，其在内管一端连结中空管的状态下使彼此连通的内管和中空管的内部空间与真空气氛隔绝。
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