公开(公告)号：CN105914166B

公开(公告)日：2019-03-01

申请号：CN201610092048.9

申请日：2016-02-19

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 田中英明

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/66

Abstract: 本发明提供一种能够准确地测定施加于晶片等基板的辊型清洗件的载荷的载荷测定装置。载荷测定装置具备：防水型测压元件(30)，该防水型测压元件(30)具有与基板(W)的直径相同的长度的载荷测定面(30a)以及支承防水型测压元件(30)的基台板(31)。该载荷测定装置与基板(W)相同地安设于基板清洗装置，通过防水型测压元件(30)测定从基板清洗装置的辊型清洗件(7)承受的载荷。

公开(公告)号：CN109037106A

公开(公告)日：2018-12-18

申请号：CN201810836516.8

申请日：2014-09-29

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 田中英明

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687

CPC classification number: H01L21/67046 ,  B08B1/04 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/68728

Abstract: 提供一种基板清洗装置，具有：辊子组件(95)，其至少包含与基板(W)接触的辊子清洗部件(46)及将该辊子清洗部件(46)支撑成旋转自如的辊子臂(42)；支撑臂(58)，其用于支撑辊子组件(95)；调整螺杆(83)，其贯通支撑臂(58)，并拧入辊子组件(95)内；以及螺杆支撑件(84)，其将调整螺杆(83)相对于支撑臂(58)的上下方向的相对位置予以固定，并将调整螺杆(83)支撑成可旋转。采用本发明，可将测力传感器搭载在最佳位置上，且可实现大幅度的调整，减少药液喷管或冲洗液喷管等布置设计的制约。

公开(公告)号：CN104584197A

公开(公告)日：2015-04-29

申请号：CN201380042968.4

申请日：2013-08-20

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 田中英明

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67092 ,  A46B13/001 ,  A46B15/0012 ,  A46B2200/30 ,  B08B1/006 ,  B08B1/04 ,  H01L21/02041 ,  H01L21/67046

Abstract: 本发明是涉及一种基板清洗装置，一边使辊清洗构件接触基板表面，一边旋转基板及辊清洗构件并擦刷清洗基板表面。基板清洗装置具有：辊支架(42)，对辊清洗构件(46)进行支撑并使该辊清洗构件(46)旋转；升降机构(60)，具有随着具备控制机器(62)的致动器(56)的驱动而升降的升降部(58)，并在基板清洗时，以辊清洗构件(46)对基板W施加辊载荷的方式，使连结于升降部(58)的辊支架(42)升降；测力传感器(54)，设置于升降机构(60)的升降部(58)与辊支架(42)之间，并测定辊载荷；及控制部(66)，根据测力传感器(54)的测定值，经由致动器(56)的控制机器(62)而反馈控制辊载荷。

公开(公告)号：CN104517808A

公开(公告)日：2015-04-15

申请号：CN201410512730.X

申请日：2014-09-29

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 田中英明

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

Abstract: 提供一种基板清洗装置，具有：辊子组件(95)，其至少包含与基板(W)接触的辊子清洗部件(46)及将该辊子清洗部件(46)支撑成旋转自如的辊子臂(42)；支撑臂(58)，其用于支撑辊子组件(95)；调整螺杆(83)，其贯通支撑臂(58)，并拧入辊子组件(95)内；以及螺杆支撑件(84)，其将调整螺杆(83)相对于支撑臂(58)的上下方向的相对位置予以固定，并将调整螺杆(83)支撑成可旋转。采用本发明，可将测力传感器搭载在最佳位置上，且可实现大幅度的调整，减少药液喷管或冲洗液喷管等布置设计的制约。

公开(公告)号：CN301977250S

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：CN201130478253.7

申请日：2011-12-09

Applicant: 株式会社荏原制作所

Designer： 石桥知淳 ,  及川文利 ,  田中英明 ,  本坊光朗

Abstract: 1.本外观设计产品的名称为基板清洗用辊轴。2.本外观设计产品是用于插入到基板清洗用辊中的轴，所述基板清洗用辊用于对实施了研磨处理的基板(半导体晶片等)的表面上所附着的研磨屑等进行清洗。3.本外观设计产品的设计要点在于产品的形状。4.指定主视图为最能表明设计要点的视图。5.左视图与右视图是对称的；仰视图与俯视图是对称的。

公开(公告)号：CN301589846S

公开(公告)日：2011-06-22

申请号：CN201030658796.2

申请日：2010-12-01

Applicant: 株式会社荏原制作所

Designer： 中野央二郎 ,  小川贵弘 ,  冈村聪 ,  田中英明

Abstract: 1.该外观设计产品的名称：基板保持辊；2.该基板保持辊的用途：作为可更换的消耗部件安装在辊主体的顶端，用于旋转自如地保持基板等；3.该基板保持辊的设计要点：请参考各个视图所示的形状；4.最能表明设计要点的图片或者照片：主视图。5.因后视图、左视图、右视图与主视图相同，而省略后视图、左视图、右视图。