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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2018133243A
公开(公告)日：2018-08-23
申请号：JP2017026951
申请日：2017-02-16
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01J37/305 , H01J37/22
CPC classification number: H01L21/3065 , H01J37/1474 , H01J37/3023 , H01J37/3053 , H01L21/0273
Abstract: 【課題】性能がよい電子ビーム照射装置を提供する。 【解決手段】電子ビームを偏向器で偏向させて照射対象に照射する電子ビーム照射装置における電子ビームの照射エリアを調整する方法であって、電子ビーム照射レシピに基づいて前記偏向器を制御することにより、照射された電子ビームに対応した電流を検出する調整プレートに対して照射位置を変えながら電子ビームを照射する電子ビーム照射ステップと、前記調整プレートから検出される電流を取得する電流取得ステップと、取得された電流値に対応する画像データを形成する画像形成ステップと、形成された画像データに基づいて、電子ビームの照射エリアが適切か否かの判定を行う判定ステップと、照射エリアが不適切と判定された場合に、前記電子ビーム照射レシピを更新するレシピ更新ステップと、を備える電子ビームの照射エリア調整方法が提供される。 【選択図】図2A
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公开(公告)号：JP2021022578A
公开(公告)日：2021-02-18
申请号：JP2020181816
申请日：2020-10-29
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01J37/305 , H01J37/28 , H01J37/147 , H01J37/22
Abstract: 【課題】電子ビームの照射領域が意図通りの長方形とならない場合に、照射領域を長方形に近づけることができる電子ビームの照射領域補正方法を提供する。 【解決手段】電子ビーム発生装置からの電子ビームを、時間tとともに変化する電圧V1(t)を第1電極に印加することで第1方向にスキャンし、時間tとともに変化する電圧V2(t)を第2電極に印加することで前記第1方向と直交する第2方向にスキャンすることにより、長方形の領域をターゲットとして電子ビームを照射するように意図された電子ビーム照射装置において、電子ビームの照射領域が長方形ではなく前記第1方向に歪んだ概略平行四辺形となっている場合に、前記第1電極に電圧V1(t)+kV2(t)(kは定数)を印加し、前記第2電極に電圧V2(t)を印加することによって、電子ビームの照射領域が長方形となるよう補正する。 【選択図】図3A
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公开(公告)号：JP2016127023A
公开(公告)日：2016-07-11
申请号：JP2015252534
申请日：2015-12-24
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01J37/244 , H01J37/28 , H01J37/20 , H01J37/29 , G01N23/225 , H01L21/66 , H01J37/073
Abstract: 【課題】 試料の検査領域全面で均一な検査を行うことのできる検査装置を提供する。 【解決手段】 検査装置は、ステージ上の試料に対して一次ビームを照射する一次光学系と、一次ビームを試料に照射することにより試料から発生した二次ビームの像を生成する二次元センサを含む検出器と、二次ビームを二次元センサに導く2次光学系を備える。一次光学系は、ガウス分布のレーザー光を発生するレーザー光源1701と、ガウス分布のレーザー光を均一分布のレーザー光に強度分布変換するホモジナイザー1703と、均一分布のレーザー光が照射されることにより一次ビームを発生する光電面1702を備える。 【選択図】 図17
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种允许对样品的整个检查区域进行均匀检查的检查装置。解决方案：一种检查装置，包括：用于将样品照射在具有主光束的台上的主光学系统;检测器，包括： 二维传感器，通过用一次光束照射样品，产生从样品产生的次级光束的图像;以及二次光学系统，用于将二次光束引入二维传感器。 主光学系统包括产生高斯分布的激光的激光光源1701，均匀化器1703，其将高斯分布的激光的强度分布转换为均匀分布的激光，以及光电表面1702，当照射时产生主光束 具有均匀分布的激光。选择图：图17
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公开(公告)号：JP2016028248A
公开(公告)日：2016-02-25
申请号：JP2015187508
申请日：2015-09-24
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: G01N23/203 , G01N23/22 , H01J37/295 , H01J37/09 , H01J37/244 , G01N23/225
CPC classification number: H01J37/28 , H01J37/22 , H01J37/244 , H01J37/29 , H01J2237/24475 , H01J2237/24585 , H01J2237/24592 , H01J2237/2805 , H01J2237/2806 , H01J2237/2817 , H01L22/12
Abstract: 【課題】電子ビームを用いて試料を観察する試料観察装置を提供する。 【解決手段】試料20に1次電子ビームを照射する1次光学系と、1次電子ビームの照射によって生じ試料20の情報を得た2次電子ビームを検出する検出器70と、2次電子ビームを検出器70に結像させる2次光学系と、検出器70にて検出された2次電子ビームから試料20の画像を生成する画像生成手段とを含む。2次光学系は、調整可能なNAアパーチャ62を含む。 【選択図】図23
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种通过使用电子束观察样品的样本观察装置。解决方案：样本观察装置包括：用于用一次电子束照射样本20的一次光学系统; 检测器70，用于检测通过一次电子束的照射产生并且具有样品20的信息的二次电子束; 用于将二次电子束聚焦在检测器70上的二次光学系统; 以及用于从由检测器70检测到的二次电子束产生样品20的图像的图像产生装置。次级光学系统包括可调节的NA孔径62。选择的图示：图23
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