公开(公告)号：KR1019960028121A

公开(公告)日：1996-07-22

申请号：KR1019940034975

申请日：1994-12-19

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 구명권 ,  정재혁

IPC: G02F1/015

Abstract: 본 발명은 짧은 시간내에 희생막의 리플로우 처리를 실시함으로써 제품의 수율을 현저히 향상시킬 수 있는 광로조절장치의 제조방법을 제공한다.
본 발명에 따른 제조방법은, 트랜지스터가 매트릭스 형태로 내장된 구동기판을 준비하는 제1공정과, 상기 구동기판상에희생막을 도포한 다음에 이 희생막을 소정의 형상으로 패터닝 형성하는 제2공정, 상기 패터닝된 희생막을 RTA(RapidThermal Annealing) 처리해서 상기 희생막의 모서리부분이 둥글게 되도록 하는 제3공정 및, 상기 모서리부분이 둥글게 형성된 희생막을 포함하는 전표면상에 소정 갯수의 박막층을 형성하는 공정을 포함하여 이루어진다.

公开(公告)号：KR100258117B1

公开(公告)日：2000-06-01

申请号：KR1019970063673

申请日：1997-11-28

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 구명권

IPC: G02F1/015

Abstract: PURPOSE: A method for fabricating a thin film actuated mirror arrays is to prevent a sticking generated due to the adhesion of an actuator and an active substrate by subliming a p-dichlorobenzene under vacuum. CONSTITUTION: A drain pad(520), a passivation layer(530), and an etching stop layer(540) are formed in this order on a drive substrate with an MxN transistor provided in the formed of matrix therein. A sacrificial layer is formed by exposing the etching stop layer with the drain pad formed on the upper layer thereof. A membrane material layer, a lower electrode material layer, a deformation material layer, and an upper electrode material layer are formed in this order on the exposed etching stop layer and the sacrificial layer. An upper electrode(600), a deformation layer(590), a lower electrode(580), and a membrane(570) are formed in this order by patterning the upper electrode material layer, the deformation material layer, the lower electrode material layer, and the membrane material layer. An air gap(560) is formed by removing the sacrificial layer. The moisture within the air gap is exhausted to the outside by filling up a p-dichlorobenzene within the air gap. The p-dichlorobenzene is sublimed under vacuum.

Abstract translation: 目的：制造薄膜致动反射镜阵列的方法是通过在真空下升华对二氯苯来防止由于致动器和活性基板的粘附而产生的粘附。 构成：在驱动基板上依次形成漏极焊盘（520），钝化层（530）和蚀刻停止层（540），其中由矩阵形成的MxN晶体管构成。 通过在其上层上形成有漏极焊盘露出蚀刻停止层来形成牺牲层。 依次在暴露的蚀刻停止层和牺牲层上依次形成膜材料层，下电极材料层，变形材料层和上部电极材料层。 通过图案化上电极材料层，变形材料层，下电极材料层，依次形成上电极（600），变形层（590），下电极（580）和膜（570） ，和膜材料层。 通过去除牺牲层形成气隙（560）。 气隙内的水分通过填充气隙内的对二氯苯而排出到外部。 真空下对二氯苯升华。

公开(公告)号：KR100235607B1

公开(公告)日：1999-12-15

申请号：KR1019970011057

申请日：1997-03-28

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 구명권

IPC: G02F1/015

Abstract: 액츄에이터 내부의 응력(stress)을 감소시킬 수 있는 박막형 광로 조절 장치의 제조 방법이 개시되어 있다. 상기 방법은, M×N(M, N은 정수)개의 트랜지스터가 내장되고 일측 상부에 드레인 패드가 형성된 액티브 매트릭스의 상부에 보호층(passivation layer)을 형성하는 단계, 보호층의 상부에 광전류 차단층(photo current barrier layer)을 형성하는 단계, 광전류 차단층의 상부에 저응력층(low stress layer)을 형성하는 단계, 그리고 저응력층의 상부에 지지층, 하부 전극, 변형층, 상부 전극을 형성하는 단계를 포함하여 액츄에이터를 형성하는 단계를 포함한다. 상기 방법에 따르면, 후속하는 공정 동안 액티브 매트릭스에 내장된 트랜지스터가 손상을 입게 되는 것을 방지하는 보호층의 기능 및 액티브 매트릭스가 식각되어 손상을 입게 되는 것을 방지하는 식각 방지층의 기능을 동시에 수행할 수 있는 저응력층을 형성함으로써, 적층되는 박막들의 수를 줄여서 박막들간에 형성되는 응력을 감소시킬 수 있으며, 차단층의 휘어짐(buckling)을 방지하여 액티브 매트릭스 상부의 평탄화를 용이하게 할 수 있으며, 후속하여 형성되는 액츄에이터의 컨틸레버 특성을 향상시킬 수 있다.

公开(公告)号：KR100177193B1

公开(公告)日：1999-05-15

申请号：KR1019940020216

申请日：1994-08-17

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 구명권

IPC: G03B21/00

Abstract: 본 발명은 광로조절장치의 희생막을 제거하고 세척한 후 건조하는 방법에 있어서, 상기 광로조절장치의 액츄에이터를 하부로 향하게 하고 구동기판의 하부표면을 적외선램프로 조사하여 건조함과 동시에, 상기 광로조절장치와 상기 적외선램프를 개재시켜 소정거리 이격된 제1금속전극과 제2금속전극에 교류전압을 공급하여 상기 광로조절장치에 잔류하는 이온들을 제거하는 광로조절장치의 건조방법이다. 따라서, 본 발명은 광로조절장치를 건조할 때 구동기판과 액츄에이터가 부착되지 않도록하여 액츄에이터가 부러지는 것을 방지할 수 있다.

公开(公告)号：KR100178189B1

公开(公告)日：1999-05-01

申请号：KR1019940006660

申请日：1994-03-31

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 구명권

IPC: G02F1/015

Abstract: 본 발명은 광로조절장치에 관한 것으로서, 액츄에이터가 열전반도체와 금속체로 이루어지며, 이 액츄에이터의 상부에 일측이 금속체에 부착되고 타측이 소정 각을 갖고 꺽어지도록 형상기억합금으로 이루어진 거울이 실장되어 각기 인가된 바이어스전압과 화상신호에 의해 열전반도체와 금속체의 접합면에서 펠티어효과에 의해 열이 발생되어 거울의 꺽어진 부분에서 잠재하는 응력을 완화시켜 소정각을 이루는 타측 부분의 각을 변화시키므로 입사되는 광을 경로를 변화시킨다. 따라서, 열전반도체와 금속체 사이의 응력이 아닌 형상기억합금의 변형특성을 이용하므로써 응력에 의한 열화를 방지할 수 있으며, 또한, 금속체가 저온에서 도포되고 별도의 열처리를 필요로 하지 않으므로 열전반도체와의 반응으로 인한 힐록등이 발생되지 않는다.

公开(公告)号：KR100174971B1

公开(公告)日：1999-02-18

申请号：KR1019950052097

申请日：1995-12-19

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 구명권 ,  양승수

IPC: C30B29/38

Abstract: 본 발명은 광로 조절 장치의 멤브레인을 형성시키기 위한 저압 화학 기상 증착 장치에 관한 것으로, 상기 장치는 소정 형상의 희생층이 형성된 구동 기판상에 화학적 반응에 의하여 멤브레인을 형성시키는 반응실과, 상기 반응실 내에 설치되고 상기 구동 기판을 운반하기 위한 콘베이어와, 상기 반응실로 반응 가스를 공급하기 위한 적어도 2개의 공급 파이프와, 상기 반응실의 온도를 상승시키기 위한 가열 수단과, 상기 반응 가스를 외부로 배출시키기 위한 배기 펌프로 구성되고 상기 2개의 공급 파이프중 하나의 공급 파이프상에는 촉매 수단이 설치되어 있으며 이에 의해서 상기 멤브레인상에 형성되는 다수의 층들이 고온하에서 부작용을 받는 것을 방지시킨다.

公开(公告)号：KR1019980085791A

公开(公告)日：1998-12-05

申请号：KR1019970021956

申请日：1997-05-30

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 구명권

IPC: G02F1/015

Abstract: 박막형 광로 조절 장치의 제조 방법이 개시되어 있다. M×N 개의 트랜지스터가 내장되고 그 일측 상부에 드레인 패드가 형성된 액티브 매트릭스를 제공한다. 상기 액티브 매트릭스 상의 액츄에이터가 형성될 영역의 외곽부에 연마 종료층을 형성한다. 상기 연마 종료층이 형성된 액티브 매트릭스의 상부에 희생층을 형성하고 이를 화학 기계적 연마(CMP) 방법으로 평탄화시킨다. 상기 희생층의 상부에 지지층을 형성하고, 상기 지지층의 상부에 하부 전극을 형성한다. 상기 하부 전극의 상부에 변형층을 형성하고, 상기 변형층의 상부에 상부 전극을 형성한다. 상기 희생층 및 연마 종료층을 제거하여 에어 갭을 형성함으로써 액츄에이터를 형성한다. 상기 AMA 패널의 외곽부에 형성된 연마 종료층으로 인해 CMP 공정의 연마 종료점을 용이하게 찾을 수 있으며, 액티브 매트릭스의 전면에 걸쳐 글로벌 평탄화를 달성할 수 있다.

公开(公告)号：KR100154926B1

公开(公告)日：1998-11-16

申请号：KR1019950010581

申请日：1995-04-29

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 구명권

IPC: H04N5/74

Abstract: 본 발명은 광로 조절 장치의 에어갭 형성방법에 관한 것으로서, 광로 조절 장치의 제조공정시 액츄에이터들을 한정하도록 패터닝하고 세척한 후 건조하는 광로 조절 장치의 건조방법에 있어서, 상기 광로 조절 장치의 희생막의 소정 부분을 1차 제거하는 단계와, 상기 희생막 1차 제거시 생성된 물과 식각용액을 제거하는 단계와, 상기 광로 조절 장치를 회전 건조한 후에 상기 1차 제거후 남아있는 희생막을 2차 제거하는 단계와, 상기 희생막을 2차 제거한 후 광로 조절 장치를 회전 건조하여 상기 희생막 2차 제거시 생성된 물과 식각용액을 제거하는 단계와, 상기 회전 건조한 후에 보호막을 제거하는 단계를 구비한다. 따라서, 본 발명은 희생막을 제거할 때 물이 생성되어 수막현상이 발생되는 것을 방지하므로서 식각율을 향상시켜 불량율을 최소화할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019970067566A

公开(公告)日：1997-10-13

申请号：KR1019960008475

申请日：1996-03-27

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 구명권 ,  최윤준

IPC: G02F1/015

Abstract: 본 발명은 스티킹 현상을 발생을 방지시키기 위한 광로 조절 장치의 제조 방법에 관한 것으로서, 상기 방법은 구동 기판상에 소정형상으로 패터닝된 회생층을 형성하는 제1단계와, 상기 회생층상에 순차적으로 형성되는 멤브래인, 하부 전극, 변형부 및 상부 전극을 패터닝시키므로서 액츄에이터를 형성하는 제2단계와, 상기 회생층을 제거하는 제3단계로 이루어지고, 상기 제3단계는 티-부틸 알콜(T-BUTIL ALCHOL)을 사용하여 물과 같은 유체를 진공 승화시키는 단계를 부가적으로 포함하고 있으며 이에 의해서 광로 조절 장치를 구성하는 액츄에이터의 자유 단부가 구동 기판상에 부착되는 스티킹 현상을 방지할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019970054577A

公开(公告)日：1997-07-31

申请号：KR1019950052109

申请日：1995-12-19

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 구명권 ,  양승수

IPC: H01L33/00

Abstract: 본 발명은 투사상 화성 표시 장치로 사용되는 광로 조절 장치의 제조 방법에 관한 것으로서 상기 방법은 구동 기판상에 소정 형상의 희생층을 형성시키는 단계와, 상기 희생층상에 멤브레인을 형성시키는 단계와, 상기 멤브레인상에 하부 전극, 변형부, 및 상부 전극을 형성시키고 상부층부터 상기 멤브레인까지 소정 형상으로 패터닝시키는 단계와, 상기 희생층을 제거하여 캔틸레버 구조를 갖는 액츄에이터를 형성시키는 단계로 이루어지고, 상기 멤브레인을 형성시키기 위하여 상기 구동 기판의 온도를 상승시키는 온도 비율과 상기 멤브레인을 형성시킨 후 상기 구동 기판의 온도를 하강시키는 온도 비율을 동일하게 유지시킴으로서 달성되며 이에 의해서 상기 희생층상에 형성되는 멤브레인상에 크랙이 발생되는 것을 방지시킬 수 있다.