公开(公告)号：KR100212562B1

公开(公告)日：1999-08-02

申请号：KR1019960008470

申请日：1996-03-27

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 구명권

IPC: G02F1/015

Abstract: 본 발명은 능동 소자가 매트릭스 구조로 형성된 구동 기판상에 미러 어레이를 고온 분위기하에서 형성시킬 때 능동 소자와 미러 어레이의 액츄에이터를 구성하는 하부 전극를 전기적으로 연결시키기 위한 메탈 콘택층이 손상받는 것을 방지시키기 위한 광로 조절 장치용 액츄에이터의 제조 방법에 관한 것으로서, 복수개의 능동 소자가 매트릭스 구조로 형성되고 평탄한 표면 상태로 제공된 구동 기판(210)상에 인이 함유된 실리콘 산화물(PSG)을 적층하여 희생층을 형성한 후 상기 희생층(211)을 패터닝하는 단계; 상기 희생층(211)상에 미세 패턴 형성 공정에 의하여 멤브레인(231), 하부 전극(232), 변형부(233), 및 상부 전극(234)을 순차적으로 적층시켜서 미러 어레이(230)를 형성시키는 단계; 상기 미러 어레이(230)를 픽셀 단위로 식각하여 복수 개의 액츄에이터(230')를 형성하는 단계; 상기 액츄에이터(230')상에 포토 레지스트(PR)를 도포하여 감광층(240)을 형성한 후 패터닝하는 단계; 상기 감광층(240)의 패턴을 통하여 부분적으로 노출된 상기 액츄에이터(230')에 콘택홀(A)을 형성시키는 단계; 상기 액츄에이터(230')의 콘택홀(A)에 메탈 콘택층(250)을 형성시키는 단계와, 상기 감광층(240)을 제거하여서 상기 메탈 콘택층(250)을 노출시키는 단계와, 상기 메탈 콘택층(250)에 대한 패시베이션층(260)을 형성시키는 단계; 상기 패시베이션층(260)을 부분적으로 식각시켜서 상기 희생층(211)의 일부를 노출시키는 단계; 및 상기 희생층(211)을 제거하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 광로 조절 장치용 액츄에이터의 제조 방법을 제공함으로써, 메탈 콘택층이 고온 분위기하에서 손상받는 것을 방지시켜서 광로 조절 장치의 신뢰성 및 성능을 향상시킨다.

公开(公告)号：KR100207412B1

公开(公告)日：1999-07-15

申请号：KR1019950052096

申请日：1995-12-19

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 구명권

IPC: H01L21/302

Abstract: 본 발명은 광로 조절 장치의 희생막 평탄화 방법에 관한 것으로서, 트랜지스터가 매트릭스 형태로 내장되고 표면에 패시베이션막이 형성된 구동 기판의 상부에 식각정지막과 제1희생막을 순차적으로 적층하여 형성하는 공정과, 상기 제1희생막을 1차 연마하여 거친 평탄도를 갖는 표면의 평탄도가 1차로 개선되게 평탄화하는 공정과, 상기 제1희생막의 상부에 제2희생막을 형성하고 상기 제2희생막을 2차 연마하여 희생막이 원하는 두께를 가지면서 평탄되도록 평탄화하는 공정을 구비한다. 따라서, 균열을 방지하면서 희생막의 표면을 평탄화시킬 수 있다.

公开(公告)号：KR1019980075009A

公开(公告)日：1998-11-05

申请号：KR1019970011057

申请日：1997-03-28

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 구명권

IPC: G02F1/015

Abstract: 액츄에이터 내부의 응력(stress)을 감소시킬 수 있는 박막형 광로 조절 장치의 제조 방법이 개시되어 있다. 상기 방법은, M×N(M, N은 정수)개의 트랜지스터가 내장되고 일측 상부에 드레인 패드가 형성된 액티브 매트릭스의 상부에 보호층(passivation layer)을 형성하는 단계, 보호층의 상부에 광전류 차단층(photo current barrier layer)을 형성하는 단계, 광전류 차단층의 상부에 저응력층(low stress layer)을 형성하는 단계, 그리고 저응력층의 상부에 지지층, 하부 전극, 변형층, 상부 전극을 형성하는 단계를 포함하여 액츄에이터를 형성하는 단계를 포함한다. 상기 방법에 따르면, 후속하는 공정 동안 액티브 매트릭스에 내장된 트랜지스터가 손상을 입게 되는 것을 방지하는 보호층의 기능 및 액티브 매트릭스가 식각되어 손상을 입게 되는 것을 방지하는 식각 방지층의 기능을 동시에 수행할 수 있는 저응력층을 형성함으로써, 적층되는 박막들의 수를 줄여서 박막들간에 형성되는 응력을 감소시킬 수 있으며, 차단층의 휘어짐(buckling)을 방지하여 액티브 매트릭스 상부의 평탄화를 용이하게 할 수 있으며, 후속하여 형성되는 액츄에이터의 컨틸레버 특성을 향상시킬 수 있다.

公开(公告)号：KR1019980023302A

公开(公告)日：1998-07-06

申请号：KR1019960042758

申请日：1996-09-25

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 구명권

IPC: G02F1/015

Abstract: 본 발명은 희생층 형성공정 후 산화보호막을 형성하여 희생층의 안정성과 접착력을 향상시키기 위한 박막형 광로 조절 장치의 제조 방법에 관한 것으로, 매트릭스 형태로 형성된 능동 소자, 패시베이션층 및 식각 스톱층을 구비한 구동 기판과 상기 구동 기판의 상부에 소정 두께의 절연물질을 적층하여 희생층을 형성하는 공정을 포함하여 복수개의 층을 캔틸레버 구조로 액츄에이터를 형성하는 공정을 구비한 박막형 광로 조절 장치의 제조 방법에 있어서, 상기 희생층을 형성하는 공정 후 상기 희생층상에 산화보호막을 플라즈마CVD방법으로 형성하는 공정을 구비함으로써 희생층을 미세패턴형성공정으로 패터닝시 상기 수분에 민감한 PSG 재질로 이루어진 희생층이 공기중의 수분과 반응을 일으키지 못하도록 하여 희생층의 손상을 방지함은 물론 희 생층과 감광막의 접착력을 향상시켜 박막형 광로조절장치의 공정수율을 향상시키는 효과를 얻을 수 있는 유용한 것이다.

公开(公告)号：KR1019970067654A

公开(公告)日：1997-10-13

申请号：KR1019960007400

申请日：1996-03-19

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 김형중 ,  구명권

IPC: H01L21/30

Abstract: 본 발명은 광로 조절 장치에 관한 것으로서, 트랜지스터가 매트릭스 형태로 내장되고 표면에 각각의 트랜지스터에 전기적으로 연결된 패드를 갖는 구동기판의 상부에 상기 패드가 노출되도록 희생막을 형성하는 공정과, 상기 노출된 구동기판과 패드의 상부에 멤브레인을 형성하는 공정과, 상기 멤브레인의 소정 부분에 상기 패드가 노출시키는 개구를 형성하는 공정과, 상기 개구 내에 플러그를 상기 패드와 전기적으로 연결되도록 형성하는 공정과, 상기 멤브레인의 상부의 소정 부분에 인접하는 액츄에이터들을 전기적으로 분리하는 전극분리영역을 형성하는 공정과, 상기 하부전극의 상부와 상기 전극분리영역에 번형부와 상부전극을 순차적으로 형성하는 공정과, 상기 상부전극으로부터 상기 멤브레인 까지 상기 희생막이 노출되도록 식각하여 츄에이터를 분리하는 공정과, 상기 상부전극의 표면 및 액츄에이터의 측면에 보호박을 형성하는 공정과, 상기 상부전극의 크랙이 발생된 부분에 형성된 상기 보호막을 제거하여 보강영역을 형성하는 공정과, 상기 보강영역과 보호막의 상부에 상기 상부전극과 동일한 물질을 도포하는 공정과, 상기 희생막과 상기 보호막을 제거하여 보강부를 형성하는 공정을 포함한다. 따라서, 본 발명은 인접하는 액츄에이터들 사이를 전기적으로 분리하기 위해 하부전극을 분리하는 전극분리영역을 한정할 때 상부전극에 크랙이 발생되어 단락되는 것을 방지할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019970067563A

公开(公告)日：1997-10-13

申请号：KR1019960008470

申请日：1996-03-27

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 구명권

IPC: G02F1/015

Abstract: 본 발명은 능동 소자가 매트릭스 구조로 형성된 구동 기판상에 미러 어레이를 고온 분위기하에서 형성시킬 때 능동 소자와 미러 어레이의 액츄에이터를 구성하는 하부 전극을 전기적으로 연결시키기 위한 메탈 콘택층이 손상받는 것을 방지시키기 위한 광로 조절 장치용 액츄에이터의 제조 방법에 관한 것으로 이러한 제조 방법은 능동 소자가 매트릭스 구조로 형성되고 평탄한 표면 상태가 제공된 구동 기판상에 인이 함유된 실리콘 산화물을 증착시킴으로서 형성되는 회생층을 소정 형상으로 패터닝시키는 단계와, 상기 회생층상에 미세 패턴 형성 공정에 의하여 멤브레인, 하부 전극, 변형부, 및 상부 전극을 순차적으로 적층시켜서 미러 어레이를 형성시키는 단계와, 상기 미러 어레이를 식각시켜서 소정 형상으로 형성된 액츄에이터를 복수개 형성 키는 단계와, 상기 액츄에이터상에 포토 레지스트(PR)를 소정 두께로 도포시켜서 감광층을 형성시키고 패터닝시키는 단계와, 상기 감광층의 패턴을 통하여 부분적으로 노출된 상기 액츄에이터에 콘택홀을 형성시키는 단계와, 상기 액츄에이터의 콘택홀에 메탈 콘택층을 형성시키는 단계와, 상기 감광층을 제거하여서 상기 메탈 콘택층을 노출시키는 단계와, 상기 메탈 콘택층에 대한 패시베이션층을 형성시키는 단계와; 상기 패시베이션층을 부분적으로 식각시켜서 상기 구동 기판상에 소정 형상으로 형성된 상기 회생층의 일부를 노출시키는 단계와, 상기 회생층을 제거하는 단계로 이루어지며 이에 의해서 메탈 콘택층이 고온 분위기하에서 손상받는 것을 방지시켜서 광로 조절 장치의 신뢰성 및 성능을 향상시킨다.

公开(公告)号：KR1019970067562A

公开(公告)日：1997-10-13

申请号：KR1019960008469

申请日：1996-03-27

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 구명권 ,  최윤준

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 광로 조절 장치를 평탄화시키기 위한 평탄화 장치에 관한 것으로 상기 장치는 전면판에 실리콘을 지지하기 위한 고정 수단이 설치되고 후면판은 회전 장치와 기계적으로 연결되어서 회전가능한 척과 상기 척의 전면판에 대향하도록 위치된 회전판으로 이루어져 있고 상기 척은 10인치 크기로 구성되며 이에 의해서 상기 실리콘 웨이퍼의 모서리 상에 퓰린지가 형성되는 것을 방지시킬 수 있다.

公开(公告)号：KR1019970042450A

公开(公告)日：1997-07-24

申请号：KR1019950052097

申请日：1995-12-19

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 구명권 ,  양승수

IPC: C30B29/38

Abstract: 본 발명은 광로 조절 장치의 멤브레인을 형성시키기 위한 저압 화학 기상 증착 장치에 관한 것으로, 상기 장치는 소정 형상의 희생층이 형성된 구동 기판상에 화학적 반응에 의하여 멤브레인을 형성시키는 반응실과, 상기 반응실 내에 설치되고 상기 구동 기판을 운반하기 위한 콘베이어와, 상기 반응실로 반응 가스를 공급하기 위한 적어도 2개의 공급 파이프와, 상기 반응실의 온도를 상승시키기 위한 가열 수단과, 상기 반응 가스를 외부로 배출시키기 위한 배기 펌프로 구성되고 상기 2개의 공급 파이프중 하나의 공급 파이프상에는 촉매 수단이 설치되어 있으며 이에 의해서 상기 멤브레인상에 형성되는 다수의 층들이 고온하에서 부작용을 받는 것을 방지시킨다.

公开(公告)号：KR1019960039938A

公开(公告)日：1996-11-25

申请号：KR1019950010582

申请日：1995-04-29

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 구명권

IPC: H04N5/74

Abstract: 본 발명은 광로 조절 장치의 제조공정시 액츄에이터들을 한정하도록 패터닝하고 세척한 후 건조하는 광로 조절 장치의 에어갭 형성방법에 있어서, 상기 광로 조절 장치의 희생막을 제거하는 단계와, 상기 희생막을 제거한 후 광로 조절 장치를 세척한 후 진공건조하여 상기 희생막 제거시 생성된 물과 식각용액을 제거하는 단계와, 상기 광로 조절 장치를 진공 건조한 후에 보호막을 제거하는 단계와, 상기 보호막을 제거한 후 광로 조절 장치를 세척한 후 진공건조하여 상기 보호막 제거시 생성된 물과 식각용액을 제거하는 단계를 구비한다. 따라서, 본 발명은 희생막과 보호막을 제거할 때 진공상태에서 생성된 물과 식각 잔유물을 기화시켜 구동기판과 액츄에이터간의 스티킹이 발생되는 것을 방지하므로써 식각율을 향상하여 불량율을 최소화할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019960039937A

公开(公告)日：1996-11-25

申请号：KR1019950010581

申请日：1995-04-29

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 구명권

IPC: H04N5/74

Abstract: 본 발명은 광로 조절 장치의 에어갭 형성방법에 관한 것으로서, 광로 조절 장치의 제조공정시 액츄에이터들을 한정하도록 패터닝하고 세척한 후 건조하는 광로 조절 장치의 건조방법에 있어서, 상기 광로 조절 장치의 희생막의 소정 부분을 1차 제거하는 단계와, 상기 희생막을 1차 제거한 후 광로 조절 장치를 회전 건조하여 상기 희생막 1차 제거시 생성된 물과 식각용액을 제거하는 단계와, 상기 광로 조절 장치를 회전 건조한 후에 상기 1차 제거후 남아있는 희생막을 2차 제거하는 단계와, 상기 희생막을 2차 제거한 후 광로 조절 장치를 회전 건조하여 상기 희생막 2차 제거시 생성된 물과 식각용액을 제거하는 단계와, 상기 회전 건조한 후에 보호막을 제거하는 단계를 구비한다. 따라서 본 발명은 희생막을 제거할 때 물이 생성되어 수막현상이 발생되는 것을 방지하므로서 식각율을 향상시켜 불량율을 최소화할 수 있다.