公开(公告)号：KR100238804B1

公开(公告)日：2000-01-15

申请号：KR1019960059192

申请日：1996-11-28

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 최윤준

IPC: H04N5/74

Abstract: 광효율을 극대화할 수 있는 박막형 광로조절 장치가 개시되어 있다. 상기 방법은, M× N개의 트랜지스터가 내장되고 드레인패드가 형성된 액티브매트릭스, 액티브매트릭스를 제공하는 단계, 액티브매트릭스의 상부에 멤브레인을 형성하는 단계, 멤브레인의 상부에 하부전극을 형성하는 단계, 하부전극의 상부에 변형층을 형성하는 단계, 변형층의 상부에 상부전극을 형성하는 단계, 상부전극, 변형층, 하부전극 및 멤브레인을 차례로 패터닝하는 단계, 그리고 패터닝된 멤브레인의 상부에 거울을 형성하는 단계를 포함한다. 변형을 일으키는 구동부와 입사광을 반사하는 거울부를 분리하고 구동부의 면적을 축소하는 동시에 거울부의 면적을 확대함으로서 입사광의 광효율을 극대화할 수 있으므로 스크린에 투영되는 화상의 화질을 향상시킬 수 있다.

公开(公告)号：KR100225586B1

公开(公告)日：1999-10-15

申请号：KR1019970006130

申请日：1997-02-27

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 최윤준

IPC: H04N5/74

Abstract: 박막형 광로 조절 장치 모듈 및 그 제조 방법이 개시되어 있다. 상기 장치는, M×N(M, N은 정수)개의 트랜지스터가 내장되고 가장 자리에 복수 개의 패널 패드 및 상부에 드레인 패드가 형성된 액티브 매트릭스, ⅰ) 상기 액티브 매트릭스의 상부에 일측이 접촉되며 타측이 제1 에어 갭을 개재하여 상기 액티브 매트릭스와 평행하게 형성된 멤브레인, ⅱ) 상기 멤브레인의 상부에 형성된 하부 전극, ⅲ) 상기 하부 전극의 상부에 형성된 변형층 및 ⅳ) 상기 변형층의 상부에 형성된 상부 전극을 포함하는 액츄에이터, 상기 액티브 매트릭스 상부의 복수 개의 패널 패드에 대응하는 복수 개의 TCP, 그리고 상기 복수 개의 패널 패드와 상기 복수 개의 TCP를 연결하는 유리 기판을 포함한다. 상기 장치에 따르면, 하부에 금속 전극이 형성된 유리 기판을 사용하여 AMA의 패드와 TCP의 패드를 안정성 있고 용이하게 연결하며, 상기 유리 기판과 액티브 매트릭스 사이의 공간을 질소 가스를 채우거나 진공 상태를 유지함으로써 액티브 매트릭스 상에 형성된 소자를 안전하게 보호할 수 있다.

公开(公告)号：KR100225585B1

公开(公告)日：1999-10-15

申请号：KR1019970006129

申请日：1997-02-27

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 황규호 ,  최윤준

IPC: H01L27/146

Abstract: 2개의 액츄에이팅부를 가지는 박막형 광로 조절 장치가 개시되어 있다. 상기 장치는 트랜지스터가 내장되고, 양측 상부에 패드가 형성된 액티브 매트릭스, 상기 액티브 매트릭스의 일측 상부에 형성된 제1 하부 전극, 상기 제1 하부 전극의 상부에 형성된 제1 변형층, 상기 제1 변형층의 상부에 형성된 제1 상부 전극 및 상기 제1 상부 전극의 상단에 형성된 제1 지지부를 갖는 제1 액츄에이팅부, 상기 액티브 매트릭스의 타측 상부에 상기 액티브 매트릭스와 평행하도록 형성된 제2 하부 전극, 상기 제2 하부 전극의 상부에 형성된 제2 변형층, 상기 제2 변형층의 상부에 형성된 제2 상부 전극 및 상기 제2 상부 전극의 상단에 형성된 제2 지지부를 갖는 제2 액츄에이팅부, 그리고 거울을 포함한다. 상기 장치는 제1 액츄에이팅부 및 제2 액츄에이팅부가 대칭적으로 형성되어 있으므로 제1 액츄에이팅부 및 제2 액츄에이팅부의 초기 기울어짐에 관계없이 거울을 항상 수평하게 유지할 수 있다. 또한 액츄에이팅부들이 서로 반대 방향으로 구동하므로 2배의 구동 각도로 거울을 구동시켜 광효율을 높일 수 있으며, 콘트라스트를 향상시켜 밝고 선명한 화상을 맺을 수 있다.

公开(公告)号：KR1019990012822A

公开(公告)日：1999-02-25

申请号：KR1019970036366

申请日：1997-07-31

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 최윤준

IPC: G02F1/015

Abstract: 박막형 광로 조절 장치의 제조 방법이 개시되어 있다. M×N 개의 MOS 트랜지스터가 내장되고 드레인 패드를 갖는 제1 금속층을 포함하는 액티브 매트릭스를 제공한다. 액티브 매트릭스의 상부에 식각 방지층 및 제1 희생층을 순차적으로 형성한다. 상기 식각 방지층과의 연마율 차이를 이용하여 상기 식각 방지층의 일부가 노출되게 제1 희생층을 화학 기계적 연마(CMP) 방법으로 평탄화시킨 후, 상기 평탄화된 제1 희생층의 상부에 제2 희생층을 형성한다. 그리고 상기 제2 희생층의 상부에 지지층, 하부 전극, 변형층, 및 상부 전극을 갖는 액츄에이터를 형성한다. 식각 방지층과 희생층과의 연마율 차이를 이용하여 평탄화 공정을 실시함으로써 액티브 매트릭스로부터 기인하는 단차를 보상하여 희생층의 평탄화율을 향상시킬 수 있다. 또한, 액티브 매트릭스 상에 형성된 희생층의 전체적인 잔류 두께 균일성을 확보할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019990004768A

公开(公告)日：1999-01-25

申请号：KR1019970028909

申请日：1997-06-30

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 황규호 ,  최윤준

IPC: G02F1/015

Abstract: 액츄에이터의 초기 기울어짐을 방지할 수 있는 박막형 광로 조절 장치가 개시되어 있다. 상기 장치는, ⅰ) M×N 개의 트랜지스터가 내장되고 상기 트랜지스터의 드레인으로부터 연장되는 드레인 패드를 갖는 제1 금속층이 형성된 액티브 매트릭스, ⅱ) 액티브 매트릭스의 상부에 형성되며 하부 전극, 변형층 및 상부 전극을 포함하는 액츄에이터, 그리고 ⅲ) 상기 하부 전극의 하부에 부착되어 상기 액츄에이터를 지지하는 지지층, 상기 액티브 매트릭스 중 상기 드레인 패드가 형성된 부분과 상기 지지층의 일측 하부 사이에 형성되어 상기 액츄에이터를 지지하는 지지 부재, 및 상기 지지층의 타측 하부와 상기 액티브 매트릭스 사이에 형성되어 상기 액츄에이터의 초기 기울어짐을 방지하는 보조 지지 수단으로 구성되는 지지 요소를 포함한다. 본 발명에 의하면, 액티브 매트릭스와 지지층 사이에 보조 지지 부재를 형성함으로써, 단차 경계면에서 휨 모멘트가 발생하는 것을 최소화할 수 있다. 따라서, 액츄에이터의 초기 기울어짐을 최소화하고 균일하게 할 수 있으며, 스크린에 투영되는 화상의 콘트라스트를 향상시킬 수 있다.

公开(公告)号：KR100150816B1

公开(公告)日：1998-12-01

申请号：KR1019940014139

申请日：1994-06-22

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 최윤준

IPC: G01C9/20 ,  G01C9/06

Abstract: 본 발명은 광센서를 이용한 디지털수평계에 관한 것으로, 수평균형 검출을 위한 광비임을 조사하는 광원(10)과, 이 광원(10)에서 조사되는 광비임에 대해 수평균형의 어긋남 정도에 대응하는 굴절현상을 위한 액상물질(20), 이 액상물질(20)에 의해 굴절되는 광비임을 수광수단(40)에 집광되도록 하는 렌즈(30), 상기 광원(10)과 액상물질(20), 렌즈(30) 및 수광수단(40)을 수용하고 대체로 원통형상으로 형성되는 한편, 그 내측면은 산란광의 흡수를 위해 암화처리된 하우징(50) 및 상기 광원(10)에서 조사된 광비임이 수광수단(40)의 수광센서에 전달되는 각도를 연산하여 수평균형의 어긋남 정도를 산출하는 제어수단(60)으로 구성되고, 상기 수광수단(40)은 1차원 또는 2차원 CCD어레이로 구성되어 상기 광원(10)에서 발사된 광비임이 상기 1차원 또는 2차원 CCD어레이상� � 수광되는 위치를 기초로 수평균형의 기울어짐을 측정/표시하여 제품 또는 기기의 수평방향의 기울어진 정도를 가시적으로 인식할 수 있도록 한 것이다.

公开(公告)号：KR1019970067562A

公开(公告)日：1997-10-13

申请号：KR1019960008469

申请日：1996-03-27

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 구명권 ,  최윤준

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 광로 조절 장치를 평탄화시키기 위한 평탄화 장치에 관한 것으로 상기 장치는 전면판에 실리콘을 지지하기 위한 고정 수단이 설치되고 후면판은 회전 장치와 기계적으로 연결되어서 회전가능한 척과 상기 척의 전면판에 대향하도록 위치된 회전판으로 이루어져 있고 상기 척은 10인치 크기로 구성되며 이에 의해서 상기 실리콘 웨이퍼의 모서리 상에 퓰린지가 형성되는 것을 방지시킬 수 있다.

公开(公告)号：KR1019960001737A

公开(公告)日：1996-01-25

申请号：KR1019940014139

申请日：1994-06-22

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 최윤준

IPC: G01C9/20 ,  G01C9/06

Abstract: 본 발명은 광센서를 이용한 디지탈수평계에 관한 것으로, 수평균형 검출을 위한 광비임을 조사하는 광원(10)과, 이 광원(10)에서 조사되는 광비임에 대해 수평균형의 어긋남정도에 대응하는 굴절현상을 위한 액상물질(20), 이 액상물질(20)에 의해 굴절되는 광비임을 수광수단(40)에 집광되도록 하는 렌즈(30), 상기 광원(10)과 액상물질(20), 렌즈(30) 및 수광수단(4)을 수용하는 하우징(50) 및, 상기 광원(10)에서 조사된 광비임이 수광수단(40)의 수광센서의 전달되는 각도를 연산하여 수평균형의 어긋남 정도를 산출하는 제어수단(60)으로 구성되고, 상기 수광수단(40)은 1차원 또는 2차원 CCD어레이로 구성되어 상기 광원(10)에서 발사된 광비임이 상기 1차원 또는 2차원 CCD어레이상에 수광되는 위치를 기초로 수평균형의 기울어짐을 측정/표시하여 제품 또는 기기의 수 평방향의 기울어진 정도를 가시적으로 인식할 수 있도록 한 것이다.

公开(公告)号：KR1019950006907A

公开(公告)日：1995-03-21

申请号：KR1019930016925

申请日：1993-08-28

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 최윤준

IPC: H01J1/14

Abstract: 본 발명은 음극선관용 전자총의 산화물음극에 관한 것으로, 컬러텔레비전등에 쓰이는 음극선관용 전자총에 설치되는 산화물음극에서 베이스메탈의 이면에 금속 Cr 박막을 형성하고, 상기 금속 Cr 박막을 부분적으로 산화시켜 Cr
2 O
3 층이 형성되도록 하므로써 금속 Cr박막의 영향으로 베이스메탈내부에 함침된 환원성금속이 베이스메탈과 산화물층사이의 경계면에서 보다 느리게 확산되도록 하여 초기 Ba 방출량을 ECOR에 가깝게 감소시킬 수 있도록 하고, Cr
2 O
3 층에 의하여 히터로 부터 전달되는 열이 잘 흡수되도록 하여 베이스메탈과 산화물층에 고른 열전달이 이루어질 수 있도록 하며, 그 결과, 음극구조체의 온도상승속도를 증가시켜 음극의 속동성을 향상시키고 전자방사특성을 안정화 시킬 수 있도록 한 것이다.

公开(公告)号：KR100256879B1

公开(公告)日：2000-05-15

申请号：KR1019970078847

申请日：1997-12-30

Applicant: 대우전자주식회사

Inventor： 최윤준

IPC: G02F1/015

Abstract: PURPOSE: A thin film actuated mirror array is to secure the driving stability of the first and second actuating sections. CONSTITUTION: An active matrix(100) includes an isolation film(107) for defining the active matrix into an active region and a field region, a number of MOS(metal oxide semiconductor) transistors having a gate(103), a source(102) and a drain(101), the first metallic layer(115) formed on the MOS transistors and patterned to be connected to the source and the drain, the first passivation layer(120) formed on the first metallic layer, the second metallic layer(125) formed on the first passivation layer, the second passivation layer(130) formed on the second metallic layer, and an etching stop layer(135) formed on the second passivation layer. An actuator(210) includes the first actuating section(215a) and the second actuating section(215b), with the first and second actuating sections formed in parallel to each other on the etching stop layer. The first actuating section includes the first supporting layer(150a) with one side contacted with a drain pad of the first metallic layer and a portion of the etching stop layer adjacent to the drain pad to form the first anchor(153a), the first lower electrode(155a) formed on the first supporting layer, the first transformed layer(160a) formed on the first lower electrode, the first upper electrode(175a) formed on the first transformed layer, and the first via contact(170a) formed in the first via hole(165a).

Abstract translation: 目的：薄膜致动反射镜阵列是为了确保第一和第二致动部分的驱动稳定性。 有源矩阵（100）包括用于将有源矩阵定义为有源区和场区的隔离膜（107），具有栅极（103）的MOS（金属氧化物半导体）晶体管，源极（102） ）和漏极（101），所述第一金属层（115）形成在所述MOS晶体管上并被图案化以连接到所述源极和所述漏极，所述第一钝化层（120）形成在所述第一金属层上，所述第二金属层 （125），形成在第一钝化层上的第二钝化层（130）和形成在第二钝化层上的蚀刻停止层（135）。 致动器（210）包括第一致动部分（215a）和第二致动部分（215b），其中第一和第二致动部分在蚀刻停止层上彼此平行地形成。 第一致动部分包括第一支撑层（150a），其一侧与第一金属层的漏极焊盘接触，并且一部分蚀刻停止层与漏极焊盘相邻以形成第一锚定件（153a），第一下部 形成在第一支撑层上的电极（155a），形成在第一下电极上的第一变形层（160a），形成在第一变换层上的第一上电极（175a）和形成在第一转换层上的第一通孔接触（170a） 第一通孔（165a）。