公开(公告)号：KR100167479B1

公开(公告)日：1999-02-01

申请号：KR1019910020992

申请日：1991-11-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 가미카와유우지

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67161 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67057 ,  H01L21/67167 ,  Y10S134/902

Abstract: 세정장치는, 로더 및 언로러 사이에 반입측, 반출측 및 중간의 3개의 세정 유니트를 구비한다.
각, 유니트는 웨이퍼를 배치/처리하는 2개의 세정부와, 회전반송아암을 구비한다.
또 각 유니트 사이에는, 및 수중로더가 배설된다.
각 세정부 및 수중로더는, 처리탱크를 덮는 케이스를 구비하고, 케이스 개구부에는 셔터 및 에어커텐이 배설되고, 내부 분위기가 주위로 부터 격리된다.
로더,언로더,세정부(s ), 수중로더(s)등의 소자는 상기 아암의 회전축을 중심으로 하여 대략 90°간격으로 배설되고, 장치의 콤팩트와,처리효율의 향상이 발생된다.

公开(公告)号：KR1019940004739A

公开(公告)日：1994-03-15

申请号：KR1019930016459

申请日：1993-08-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 가미카와유우지

IPC: H01L21/304

Abstract: 기판건조장치는, IPA를 수용하는 액조와, 이 액조를 둘러싸는 체임버와, IPA를 가열하여 그 증기를 액조내 및 그 근방의 증기처리부에 발생시키는 가열히터와, 액으로 적셔진 복수의 반도체 웨이퍼를 증기처리부에 위치하도록 반송하는 반송기구와, 증기처리부의 위편에 설치되고, IPA증기를 응축액화시키기 위하여 냉각하는 냉각기구와, 이 냉각기구의 더 위편에 설치되고 웨이퍼에 부착한 IPA를 제거하는 건조처리부와, 이 건조처리부내에 위편으로 아래편을 향하여 흐르는 가스류를 형성하는 가스공급장치 및 가스배기장치를 가진다.

公开(公告)号：KR1019930020598A

公开(公告)日：1993-10-20

申请号：KR1019930003653

申请日：1993-03-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 가미카와유우지

IPC: H01L21/304

Abstract: 인접하는 처리실을 서로 구획하는 격벽의 하부에 연통구를 설치하여 양 처리실을 연이어 통하고, 양 처리실내에 처리액을 수용하는 처리 탱크를 이동가능하게 배설한다.
처리 탱크에 수용되는 처리액과 격벽을 접속시켜서 양처리실을 차폐한다. 이것에 의해, 양처리실의 분위기가 서로 격리되므로서, 양 처리실내의 처리 탱크를 겸용할 수 있고, 장치전체를 소형화로 함과 동시에, 처리액의 소비량을 저감할 수가 있다. 또, 웨이퍼의 반송수단을 불필요하게 하므로, 수율을 향상시킬 수가 잇다.

公开(公告)号：KR1019920010783A

公开(公告)日：1992-06-27

申请号：KR1019910020992

申请日：1991-11-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 가미카와유우지

IPC: H01L21/304

Abstract: 내용 없음