公开(公告)号：KR100357316B1

公开(公告)日：2002-10-19

申请号：KR1020010051301

申请日：2001-08-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 다나카히로시 ,  모쿠오쇼리 ,  요코미조겐지 ,  미나미데루오미

IPC: H01L21/304

Abstract: PURPOSE: A substrate drying apparatus is provided to unnecessarily exhaust treatment liquid during a standby time of a dry process such that the treatment liquid is vapor of the treatment liquid coagulated and stored in a container for receiving the water eliminated from an object to be treated. CONSTITUTION: A process bath(14) has the object to be treated. A treatment liquid containing region contains a volatile treatment liquid(16). A heating member evaporates the treatment liquid. A receiving container(10) receives water removed from the object with use of the evaporated treatment liquid, provided below the object containing region. An exhaust pipe(42) exhausts the water from the container to the outside of the process bath, attached to the container. A cooling device condenses the evaporated treatment liquid, provided above the object containing region of the process bath. The exhaust pipe has a valve and a branch pipe branched from the exhaust pipe such that the branch pipe is closer to the container than the valve is.

公开(公告)号：KR100320585B1

公开(公告)日：2002-01-18

申请号：KR1019990054437

申请日：1999-12-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 마쓰가와히로유키 ,  요네미즈아키라 ,  마쓰시다미치아키 ,  후쿠다다카히데 ,  후지모토아키히로 ,  다케구마다카시 ,  야에가시히데타미

IPC: H01L21/304

Abstract: PURPOSE: A resist treating method is provided to perform a resist treatment by including an apparatus capable of rapidly cleaning double sides of an object to be processed. CONSTITUTION: A carrier station loads/unloads a carrier in which objects to be processed are stored. A convey mechanism conveys an object taken out from the carrier station. At least one cleaning mechanism cleans the object, arranged along a convey path on which the convey mechanism conveys the object. An object reversing mechanism reverses the object, arranged along the convey path.

公开(公告)号：KR100312037B1

公开(公告)日：2001-12-28

申请号：KR1019950032780

申请日：1995-09-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 후지모토아키히로 ,  사카모토야스히로

IPC: B05C5/00

Abstract: 본 발명은, 피처리체를 얹어놓은 상태에서 회전하는 피처리체 유지수단과, 피처리체 유지수단의 바깥쪽에 배치된 고리형상 컵과, 피처체 윗쪽에 배치되고, 피처리체 표면상에 처리액을 공급하는 처리액 공급수단과, 고리형상 컵 하부에 장착되어 있으며, 처리액을 피처리체 표면상에 공급할 때에 비산한 처리액을 폐액으로 하여 배기가스와 함게 배출하는 배출수단과, 배출수단에 연결되고, 배출수단에 의하여 배출되는 폐액 및 배기가스를 저류하는 저류수단을 구비하며, 저류수단에 잇어서 폐액 및 배기가스를 분리하는 도포장치를 제공한다.

公开(公告)号：KR100304146B1

公开(公告)日：2001-11-30

申请号：KR1019980017563

申请日：1998-05-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 니시미쓰오 ,  신도나오키 ,  야마구치가즈야

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은, 반송척의 세정 및 건조처리를 높은 효율로서 양호하게 행하는 반송척의 세정장치 및 세정방법을 제공한다.
본 발명은, 세정유니트 내에 설치된 반송로보트와의 사이에서 세정 전후의 복수의 피처리기판을 주고받는 반송척과, 이 반송척기구를 내부에서 세정하여 건조하는 세정·건조처리부를 구비하고, 상기 반송척은 복수의 피처리기판을 파지하는 좌우의 가로로드 및 각각을 수평으로 지지하는 세로로드를 가지며, 상기 세정·건조처리부는 세정액을 토출하는 수단 및 건조용 가스를 공급하는 수단을 구비하는 반송척의 세정장치에 있어서, 상기 가스공급수단은, 상기 각 세로로드의 좌우 양측에 그 하단으로부터 기초부에 걸쳐 각각 세워 설치된 2쌍의 가스배관과, 건조용 가스가 상기 반송척의 가로로드 및 세로로드에 대하여 경사져서 아래쪽으로 향해 분사되도록 상기 가스배관의 전체 길이에 걸쳐 복수로 형성된 가스분사구멍과, 이들 가스분사구멍을 � �지는 상기 각 가스배관을 상기 각 가로로드를 따라 일체적으로 이동시키는 구동수단을 가진다.

公开(公告)号：KR100304145B1

公开(公告)日：2001-11-30

申请号：KR1019940001233

申请日：1994-01-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 니시미쓰오 ,  신도나오키 ,  야마구치가즈야

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은, 반송척의 세정 및 건조처리를 높은 효율로서 양호하게 행하는 반송척의 세정장치를 제공한다.
본 발명은, 여러개의 피처리기판을 세운 상태에서, 소정 간격으로 나란하게 파지하는 반송척을 세정하기 위한 반송척의 세정장치에 있어서, 상기 반송척을 승강시키는 승강기구와, 상기 반송척이 출입할 수 있도록 형성된 상부 개구를 가지는 세정실과, 이 세정실 내에서 상기 반송척의 이동통로 상에 설정된 제 1 위치로 향하여 상기 반송척의 이동통로의 한쪽 혹은 양쪽에 수평으로 일렬 또는 복수열로 배치된 제 1 토출구를 가지는 복수의 세정노즐과, 이들 복수의 세정노즐의 각각으로 세정액을 공급하는 세정액 공급수단과, 상기 세정실내에서 상기 제 1 위치보다 높은 제 2 위치로 각각이 향하고, 또 상기 반송척의 이동통로의 한쪽 혹은 양쪽에 수평으로 일렬 또는 복수열로 배치되고, 중간부에 위치하는 제 2 토출구는 경사져서 아래로 향해 개구하� � 양 끝단부에 위치하는 제 2 토출구는 수직면에 대하여 경사진 방향으로 개구하고 있는 복수의 가스노즐과, 상기 복수의 가스노즐의 각각으로 건조용의 가스를 각각 공급하는 가스공급수단을 구비한다.

公开(公告)号：KR100297285B1

公开(公告)日：2001-10-24

申请号：KR1019950034070

申请日：1995-10-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  사카모토야스히로 ,  하라다고지

IPC: H01L21/324

Abstract: 메인아암에 의하여 가열처리부로 웨이퍼를 반송하는 단계와, 가열단계에서 웨이퍼를 장착하고, 가열스테이지상에 장착된 웨이퍼를 가열하며, 그와 같이 가열된 웨이퍼를 가열스테이지로부터 들어올리는 단계와, 그와 같이 들어올려진 웨이퍼를 가열스테이지의 냉각하기 위하여 위쪽으로 냉각 홀더로 접근시키는 단계와, 상기 가열 스테이지로부터 냉각된 웨이퍼를 반송하는 단계를 포함하여 구성되는 기판의 가열 및 냉각방법.

公开(公告)号：KR100295019B1

公开(公告)日：2001-10-24

申请号：KR1019950032781

申请日：1995-09-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 이나다히로이치 ,  쓰네마쓰구니에

IPC: H01L21/027

Abstract: 현상장치는, 레지스트도포면이 위가 되도록 웨이퍼를 실질적으로 수평으로 유지하면서 웨이퍼를 회전시키는 스핀척과, 이 스핀척상의 웨이퍼의 레지스트도포면에 대하여 비스듬한 방향으로부터 현상액을 공급하는 노즐과, 이 노즐에 현상액을 공급하는 공급원과, 스핀척상의 기판의 둘레부를 둘러싸듯이 설치되어서 웨이퍼에 공급된 현상액을 배출하는 드레인통로를 가지는 컵과, 웨이퍼의 회전방향으로 추종하는 방향으로 현상액이 토출되도록 노즐을 수평면내에서 이동시키는 벨트구동기구를 가진다.

公开(公告)号：KR100284556B1

公开(公告)日：2001-04-02

申请号：KR1019940006105

申请日：1994-03-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 후지모토아키히로 ,  이나다히로이치 ,  하세베게이죠 ,  이이노히로유키 ,  기타무라신지 ,  데구치마사토시 ,  남부미쓰히로

IPC: H01L21/31

Abstract: 본 발명은 레지스트막과 같은 용제에 의한 액상 도포액을 반도체 웨이퍼와 같은 도포제위나 그 위에 형성된 층의 위에 형성하기 위한 방법 및 장치에 관한 것으로, 회전 또는 정지되어있는 기판의 한면 위에 도포액의 용제를 공급하는 공정과, 용제가 도포된 기판을 제 1 회전수로 회전시키고, 용제를 기판의 한면 전체에 걸쳐 확산시키는 공정과, 기판의 거의 중심부위에 소정량의 도포액을, 기판을 제 2 회전수로 회전시키면서 도포하고, 기판의 한면 전체에 걸쳐 확산시켜 도포막을 형성하는 공정 및 상기공정을 실시하기 위한 장치로 이루어진다.

公开(公告)号：KR100188453B1

公开(公告)日：1999-06-01

申请号：KR1019920004018

申请日：1992-03-11

Applicant: 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤 ,  도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시오카가즈토시 ,  요코미조겐지 ,  아키모토마사미 ,  요시모토유우지

IPC: H01L21/68

Abstract: 다운플로우중에 배치된 피처리체에 처리를 하는 여러 개의 처리부에, 피처리체를 반송 및 실어서 이송하기 위한 장치는, 처리부간을 이동이 자유롭게 설치된 반송부와, 반송부를 이동시키는 제1구동기구와, 반송부에 이동이 자유롭게 설치되고, 처리부내에서 소정의 온도로 온도조정된 피처리체에 대하여 사용되는 제1아암과, 반송부에 이동이 자유롭게 설치되고, 온도조정된 피처리체 이외의 피처리체에 대하여 사용되는 제2아암과, 제1 및 제2아암을 각각 이동시키기 위한 제2구동기구를 구비하고 있다.

公开(公告)号：KR100187920B1

公开(公告)日：1999-06-01

申请号：KR1019930002709

申请日：1993-02-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 미야자키다카노리 ,  사쿠라이히로시

IPC: H01L21/304

Abstract: 처리액을 저장하는 여러 개의 처리 탱크와, 피세정물을 반송하여 상기 처리 탱크 내의처리액에 침지하는 반송수단과, 상기 처리 탱크로부터의 폐액을 희석하기 위한 희석액을 배관계를 통하여 공급하는 희석액 공급 수단과 희석된 폐액을 저장하기 위한 폐액 저장 수단을 구비한 세정 장치에 있어서, 폐액 정장 수단에 이 폐액 저장 수단내의 폐액의 온도를 검지하는 온도 측정 수단을 설치하며, 이 온도 측정 수단의 온도 측정 결과에 따라서 상기 희석액 공급 수단으로 부터의 희석액 공급량을 온도 제어 장치에 의하여 제어하도록 한 것을 특징으로 하는 세정장치에 관한 것이다. 또 배관계의 배관용 죠인트의 고정장치를 설치한다. 이와 같이 구성하므로서 처리 탱크의 파손등의 사고가 발생한 경우에 있어서도, 폐액 저장 수단내의 폐액의 온도가 이상 상승하는 것을 미연에 방지할 수 있다. 또 폐액 저장 수단내로부터 공장의 폐액계에 고온의 약액이 유출하는 것을 방지할 수가 있고, 종래에 비하여 작업의 안전성 향상을 도모할 수 있다. 또, 고정장치에 의하여 배관계의 맥동에 의한 배관용 죠인트의 느슨함을 방지할 수 있다.