公开(公告)号：KR101299742B1

公开(公告)日：2013-08-23

申请号：KR1020080075660

申请日：2008-08-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 혼다마사루

IPC: H01L21/677 ,  C23C14/56 ,  B65G49/06 ,  G02F1/13

Abstract: 본 발명은 기판지지기구 및 감압건조장치 및 기판처리장치에 관한 것으로서 기판 리프트 기구(126)는 리프트 핀(128)을 원하는 일정 온도에 공냉하는 리프트 핀 공냉부를 가지고 있다. 리프트 핀 공냉부에 있어 공냉 가스 공급원(150)에 의해 공냉 가스 공급관(152)을 개재시켜 공급된 공냉 가스(CA)는 리프트 핀(128;핀 본체(128a))안에 핀 하단의 개구로부터 도입된다. 그리고, 리프트 핀(128)안에 아래로부터 도입된 공냉 가스(CA)는 핀 내부의 중공 공간을 윗쪽에 흘리고 핀 선단부의 근처에서 각 환기 구멍(128c)으로부터 핀 밖에 흘러나오는 피처리 기판을 지지하는 지지 핀이 주위 온도로부터 받는 열적 영향을 작게 하고 나아가서는 기판이 지지 핀으로부터 원하지 않는 열적 영향을 받는 것을 방지하는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR1020130064691A

公开(公告)日：2013-06-18

申请号：KR1020120131164

申请日：2012-11-19

Applicant: 인텔 코포레이션 ,  도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히라카와오사무 ,  혼다마사루 ,  후쿠토미아키라 ,  다무라다케시 ,  하라다지로 ,  노다가즈타카 ,  브룅자비에르프랑스와

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/301

CPC classification number: B32B38/10 ,  B32B43/006 ,  B32B2457/14 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67092 ,  H01L21/67288 ,  Y10T156/11 ,  Y10T156/1189 ,  Y10T156/19 ,  Y10T156/1972

Abstract: PURPOSE: A separation apparatus, a separation system, a separation method, and a computer storage medium are provided to easily delaminate an object substrate and a support substrate by using a transport device for moving a first and a second holding part in a horizontal direction. CONSTITUTION: A first holding part(110) maintains an object substrate(W). A second holding part(111) maintains a support substrate(S). A transport device(150) moves the second holding part and the support substrate in vertical and horizontal directions. The transport device includes a vertical transport part(151) and the horizontal transport part(152). A load measurement part(180) measures the load of the object substrate and the support substrate. A control part(350) controls the transport device based on the load measured by the load measurement part.

Abstract translation: 目的：提供分离装置，分离系统，分离方法和计算机存储介质，以通过使用用于沿水平方向移动第一和第二保持部分的传送装置来容易地分层对象基板和支撑基板。 构成：第一保持部（110）维持物体基板（W）。 第二保持部（111）保持支撑基板（S）。 运送装置（150）使第二保持部和支撑基板沿垂直方向和水平方向移动。 输送装置包括垂直输送部（151）和水平输送部（152）。 负载测量部分（180）测量对象基板和支撑基板的负载。 控制部（350）基于由负载测量部测量的负载来控制输送装置。