公开(公告)号：KR1019980070712A

公开(公告)日：1998-10-26

申请号：KR1019980001901

申请日：1998-01-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쓰시타미치아키

IPC: H01L21/68

Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
회전처리장치
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
회전대의 회전이 시동한 직후나 회전정지 직전 등에 있어서, 회전대가 소정 회전속도에 달하지 못하는 상태에 있어서도, 웨이퍼 등의 피처리기판을 확실하게 유지할 수 있는 회전처리장치를 제공함.
3. 발명의 해결방법의 요지
피처리기판이 배치되는 회전가능한 회전대와, 이 회전대를 회전구동하는 회전구동체와, 이 회전대와 함께 회전하고, 회전대 위쪽에 있어서 피처리기판 가장자리부를 유지하기 위해 회전대 가장자리부 근방에 회동지지점을 가지고, 이 회동지지점을 중심으로 하여 회전대에 대하여 반지름방향으로 회동이 자유롭고, 피처리기판을 유지하는 유지부 및 피가압부를 각각 가지는 복수의 유지부재와, 유지부재 각각의 유지부를 회전대의 중심측에 힘을 가하는 힘을 가하는부재와, 회전대 아래쪽에 배치되고, 힘을 가하는부재의 힘을 가하는방향과는 역방향으로 상기 피가압부를 가압하는 가압부재와, 이 가압부재를 상하방향으로 구동하는 구동기구에 의해 구성되는 회전처리장치.
4. 발명의 중요한 용도
레지스트 도포현상장치에 사용됨.