公开(公告)号：KR1020010113497A

公开(公告)日：2001-12-28

申请号：KR1020010033739

申请日：2001-06-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가네다마사토시 ,  마쓰시타미치아키

IPC: H01L21/68

Abstract: 기판처리장치는 웨이퍼를 출납하기 위한 개구에 착탈 가능하게 부착되는 뚜껑을 구비하는 카세트가 재치되는 재치대와, 이 재치대의 카세트 내에 수용되는 웨이퍼를 처리하기 위한 카세트 스테이션과, 재치대상의 카세트로부터 웨이퍼를 꺼내어 카세트 스테이션에 반송하고, 처리후의 웨이퍼(W)를 재치대의 카세트에 되돌리는 서브암기구와, 서브암기구 측의 분위기를 카세트 재치대의 측의 분위기로부터 분리시키는 경계판과, 이 경계판의 개구 방향으로 재치대상의 카세트를 이동시키는 슬라이드 스테이지와, 경계판의 개구를 통하여 카세트의 개구로부터 카세트의 뚜껑을 떼어내는 뚜껑 착탈기구와, 슬라이드 스테이지의 추진력을 제어하는 X축 실린더로 구성된다. 이에 따라 처리시스템 내로 웨이퍼를 반입할 때에 카세트와 경계판과의 사이에 손가락 등이 끼는 것을 방지함으로써 확실하고 더 안전하게 웨이퍼를 반입할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019960042999A

公开(公告)日：1996-12-21

申请号：KR1019960015345

申请日：1996-05-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하마다도모코 ,  마쓰시타미치아키 ,  다테야마기요히사 ,  요네미즈아키라

IPC: H01L21/304

Abstract: 세정장치는, 웨이퍼를 유지하고 또한 회전시키기 위한 스핀척과, 웨이퍼 표면을 문지르기 위한 브러시와, 브러시를 지지하는 아암을 가진다. 리니어 가이드를 통해서 아암에 서포트가 연결되고, 아암과 서포트와는 수평방향에서 일체적으로 이동함과 도시에, 수직방향에서 상대적으로 변위가능하게 된다. 아암과 서포트와의 사이에는 압축스프링이 배열설치되고, 이것은 아암과 서포트와의 수직방향에서 상대적인 변위에 따라서 변형한다. 스핀척에 유지된 웨이퍼에 대하여 브러시가 접촉할 때, 압축스프링의 변형에 대응하여, 웨이퍼에 대한 브러시의 가하는 힘이 발생한다. 서포트의 수직방향의 하강량을 조정함으로써, 브러시의 가하는 힘이 설정된다.

公开(公告)号：KR1019980019185A

公开(公告)日：1998-06-05

申请号：KR1019970043251

申请日：1997-08-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 우에다잇세이 ,  아키모토마사미 ,  이토가즈히코 ,  마쓰시타미치아키 ,  가네다마사토시 ,  마쓰야마유지

IPC: H05K13/00

Abstract: 기판처리장치는, 기판을 넣고 빼고 하기 위한 개구부(43)를 갖고, 이 개구부(43)에 붙이고 떼기 가능하게 부착된 덮개(44)를 가진 카세트가 재치되는 카세트 재치대(20)와, 이 카세트 재치대(20)의 카세트내에 수용된 기판을 처리하기 위한 처리부(G1)∼(G5)와, 카세트 재치대(20)의 카세트로부터 기판을 꺼내고, 처리부(G1)∼(G5)에 기판을 반송하고, 처리후의 기판을 카세트 재치대(20)의 카세트에 되돌리는 반송암기구(21)와, 이 반송암기구(21)와 카세트 재치대(20)와의 사이에 설치되고, 반송암기구(21)쪽의 분위기를 카세트 재치대(20)쪽의 분위기로부터 간막이하는 간막이부재(32),(60,)(49)와, 카세트 재치대상의 카세트의 개구부(43)와 마주보도록 간막이부재(60)에 형성되고, 반송암기구(21)에 의하여 카세트 재치대상의 카세트로부터 꺼내진 기판이 통과하고, 또한, 카 세트 재치대상의 카세트로 되돌려지는 기판이 통과하는 통로(33a)와, 이 통로(33a)에 대하여 카세트 재치대상의 카세트의 개구부(43)를 접근시키거나 멀리하거나 하는 카세트 이동기구(80),(82)와, 카세트의 개구부(43)로부터 덮개(44)를 벗기거나 카세트의 개구부(43)에 덮개(44)를 부착하거나 하는 덮개 벗김기구(47)을 구비한다.

公开(公告)号：KR1019940024920A

公开(公告)日：1994-11-19

申请号：KR1019940008171

申请日：1994-04-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 다테야마기요히사 ,  마쓰시타미치아키

IPC: H01L21/304

公开(公告)号：KR100370636B1

公开(公告)日：2003-05-09

申请号：KR1019980001901

申请日：1998-01-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쓰시타미치아키

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/68728 ,  Y10S134/902 ,  Y10S414/141

Abstract: A rotary processing apparatus comprises a rotary table on which a substrate to be processed is placed, a rotary drive means for rotating the rotary table, a plurality of holding members each rotating together with the rotary table having a rotation supporting point at a position close to a peripheral portion of the rotary table, for holding a peripheral portion of the substrate above the rotary table, and including one end having a holding portion for holding the substrate to be processed and the other end having a portion to be pressed, an urging member provided on the rotary table, for urging the holding portion of each of the plurality of holding members towards a center of the rotary table, a pressing member provided underneath the rotary table for pressing the portion to be pressed to a direction opposite to the urging direction of the urging member, and a drive mechanism for driving the pressing member in up and down directions.

Abstract translation: 一种旋转处理装置，其特征在于，具备：旋转台，载置被处理基板;旋转驱动机构，使旋转台旋转;多个保持构件，与旋转台一起旋转，旋转台的旋转支点位于靠近 旋转台的周边部分，用于将基板的周边部分保持在旋转台上方，并且包括具有用于保持待加工基板的保持部分和具有待压制部分的另一端的一端， 设置在所述旋转台上，用于将所述多个保持部件中的每一个的保持部分推向所述旋转台的中心;加压部件，设置在所述旋转台的下方，用于将所述被加压部分压向与所述加载方向相反的方向 以及用于沿上下方向驱动按压部件的驱动机构。

公开(公告)号：KR100230692B1

公开(公告)日：1999-11-15

申请号：KR1019940008171

申请日：1994-04-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 다테야마기요히사 ,  마쓰시타미치아키

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67028 ,  B08B11/02 ,  Y10S134/902 ,  Y10T279/18

Abstract: 반도체 웨이퍼의 세정장치에는, 회전반을 가지는 스핀척이 배치된다.
회전반을 지지하는 샤프트에는, 웨이퍼의 이면에 공급되는 보호가스의 공급로가 형성된다. 샤프트의 단부를 덮도록 원추형상의 가동부재가 배치되며, 보호가스 공급압력에 따라서 상하로 이동가능하게 되어 있다. 가동부재의 외면에는, 회전반에 지지되고 또 반경방향으로 뻗는 3개의 왕복아암의 내단이 스프링 탄력상태로 맞닿는다. 회전반 상에는, 웨이퍼의 바깥 테두리를 따르는 등간격으로 3개소에 고정핀이 설치되며, 고정핀 사이에 요동레버가 배치된다. 요동레버의 일단은 왕복아암의 외단에 접속되고, 타단에는 웨이퍼의 바깥 테두리에 맞닿는 핀이 배치된다. 보호가스가 공급되면, 가동부재가 윗 쪽의 작동위치로 이동하고, 왕복아암이 가동부재에 눌리어 바깥방향으로 이동한다. 이것에 의하여 요동레버가 작동하여 핀을 웨이퍼의 바깥 테두리에 맞닿고 3개의 핀 사이에 웨이퍼를 집어서 클램프한다.

公开(公告)号：KR100213992B1

公开(公告)日：1999-08-02

申请号：KR1019960015345

申请日：1996-05-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하마다도모코 ,  마쓰시타미치아키 ,  다테야마기요히사 ,  요네미즈아키라

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67046 ,  A46B13/04

Abstract: 세정장치는, 웨이퍼를 유지하고 또한 회전시키기 위한 스핀척과, 웨이퍼 표면을 문지르기 위한 브러시와, 브러시를 지지하는 아암을 가진다. 리니어 가이드를 통해서 아암에 서포트가 연결되고, 아암과 서포트와는 수평방향에서 일체적으로 이동함과 동시에, 수직방향에서 상대적으로 변위가능하게 된다. 아암과 서포트와의 사이에는 압축스프링이 배열설치되고, 이것은 아암과 서포트와의 수직방향에서의 상대적인 변위에 따라서 변형한다. 스핀척에 유지된 웨이퍼에 대하여 브러시가 접촉할 때, 압축스프링의 변형에 대응하여, 웨이퍼에 대한 브러시의 가하는 힘이 발생한다. 서포트의 수직방향의 하강량을 조정함으로써, 브러시의 가하는 힘이 설정된다.

公开(公告)号：KR100530699B1

公开(公告)日：2006-02-09

申请号：KR1019970043251

申请日：1997-08-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 우에다잇세이 ,  아키모토마사미 ,  이토가즈히코 ,  마쓰시타미치아키 ,  가네다마사토시 ,  마쓰야마유지

IPC: H05K13/00

Abstract: 기판처리장치는, 기판을 넣고 빼고 하기 위한 개구부(43)를 갖고, 이 개구부(43)에 붙이고 떼기 가능하게 부착된 덮개(44)를 가진 카세트가 재치되는 카세트 재치대(20)와,
이 카세트 재치대(20)의 카세트내에 수용된 기판을 처리하기 위한 처리부(G1)∼(G5)와,
카세트 재치대(20)의 카세트로부터 기판을 꺼내고, 처리부(G1)∼(G5)에 기판을 반송하고, 처리후의 기판을 카세트 재치대(20)의 카세트에 되돌리는 반송암기구(21)와,
이 반송암기구(21)와 카세트 재치대(20)와의 사이에 설치되고, 반송암기구(21)쪽의 분위기를 카세트 재치대(20)쪽의 분위기로부터 간막이하는 간막이부재(32),(60,)(49)와,
카세트 재치대상의 카세트의 개구부(43)와 마주보도록 간막이부재(60)에 형성되고, 반송암기구(21)에 의하여 카세트 재치대상의 카세트로부터 꺼내진 기판이 통과하고, 또한, 카세트 재치대상의 카세트로 되돌려지는 기판이 통과하는 통로(33a)와,
이 통로(33a)에 대하여 카세트 재치대상의 카세트의 개구부(43)를 접근시키거나 멀리하거나 하는 카세트 이동기구(80),(82)와,
카세트의 개구부(43)로부터 덮개(44)를 벗기거나 카세트의 개구부(43)에 덮개(44)를 부착하거나 하는 덮개 벗김기구(47)을 구비한다.

公开(公告)号：KR100251875B1

公开(公告)日：2000-04-15

申请号：KR1019930024821

申请日：1993-11-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 마쓰시타미치아키 ,  야마하라유타카

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67028 ,  Y10S134/902

Abstract: 기판 세정장치는, 기판의 한 쪽면을 스크래빙하는 스크레버를 가지는 제 1 유니트와, 기판을 반전하는 반전기구를 가지는 제 2 유니트와, 제 1 및 제 2 유니트 사이에서 기판을 반송하는 반송로보트를 가진다.

公开(公告)号：KR1019980070712A

公开(公告)日：1998-10-26

申请号：KR1019980001901

申请日：1998-01-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쓰시타미치아키

IPC: H01L21/68

Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
회전처리장치
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
회전대의 회전이 시동한 직후나 회전정지 직전 등에 있어서, 회전대가 소정 회전속도에 달하지 못하는 상태에 있어서도, 웨이퍼 등의 피처리기판을 확실하게 유지할 수 있는 회전처리장치를 제공함.
3. 발명의 해결방법의 요지
피처리기판이 배치되는 회전가능한 회전대와, 이 회전대를 회전구동하는 회전구동체와, 이 회전대와 함께 회전하고, 회전대 위쪽에 있어서 피처리기판 가장자리부를 유지하기 위해 회전대 가장자리부 근방에 회동지지점을 가지고, 이 회동지지점을 중심으로 하여 회전대에 대하여 반지름방향으로 회동이 자유롭고, 피처리기판을 유지하는 유지부 및 피가압부를 각각 가지는 복수의 유지부재와, 유지부재 각각의 유지부를 회전대의 중심측에 힘을 가하는 힘을 가하는부재와, 회전대 아래쪽에 배치되고, 힘을 가하는부재의 힘을 가하는방향과는 역방향으로 상기 피가압부를 가압하는 가압부재와, 이 가압부재를 상하방향으로 구동하는 구동기구에 의해 구성되는 회전처리장치.
4. 발명의 중요한 용도
레지스트 도포현상장치에 사용됨.