公开(公告)号：KR1020070051965A

公开(公告)日：2007-05-21

申请号：KR1020050109405

申请日：2005-11-16

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 심우석 ,  서전석 ,  이중현 ,  구자민 ,  이임연 ,  박세영 ,  박태진

IPC: H01L21/027

Abstract: 기판 노광 공정에 사용되는 레티클에 있어서, 이미지 패턴이 형성된 유리 기판과, 상기 이미지 패턴의 오염을 방지하기 위한 보호 기판과 상기 유리 기판과 보호 기판 사이에 구비되며, 상기 기판들 사이에서 진공 상태로 유지되며, 그 내부에는 불활성 가스가 충진되어 있는 공간을 형성하기 위한 개스킷과 상기 보호 기판 이 오염되는 것을 방지하기 위한 펠리클막을 포함한다. 상기 밀폐 공간은 진공 상태로 유지되며, 그 내부에는 불활성 가스가 충진되어 있다. 따라서, 상기 유리 기판과 보호 기판 사이의 오염 물질의 제거 및 성장성 이물질 발생을 억제하며, 상기 기판들 사이이 탈부착의 용이성을 확보할 수 있다.