公开(公告)号：KR100672828B1

公开(公告)日：2007-01-22

申请号：KR1020050056734

申请日：2005-06-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 서정훈 ,  홍진기 ,  구경범 ,  최윤호 ,  이은택 ,  권현철

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/68721 ,  C23C16/44 ,  C23C16/4408 ,  C23C16/45519 ,  C23C16/45591 ,  Y10T29/41

Abstract: 챔버 내의 가스 흐름을 조절하기 위한 챔버 인서트 및 이를 갖는 기판 가공 장치는 상부면에 기판을 지지하기 위한 스테이지의 측면에 상기 스테이지를 감싸도록 상하가 개방된 중공의 원통형 몸체부를 구비한다. 제1 돌출부는 상기 몸체부의 하단을 따라 상기 몸체부의 외측 방향으로 연장되고, 제2 돌출부는 상기 몸체부의 상단 일부분으로부터 상기 몸체부의 외측 방향으로 연장된다.