Abstract:
PURPOSE: A multi recognition touch panel and a display device applied the same are provided to recognize a touch of a user through a plurality of cameras, thereby realizing the multi recognition of a touch. CONSTITUTION: A touch panel(100) includes a touch pad(170), and one or more IR(Infrared Ray) resources(130) and a camera array(110). The touch pad has an input side. The touch of user is inputted to an input side. One or more IF resources examine IR light in the touch pad. The camera array is prepared in the lower part of the touch pad. The camera array includes a plurality of IF cameras(112). Infrared cameras are arranged to incline against the input side.
Abstract:
A micro element package and a method for manufacturing the same are provided to reduce the size of the package and to improve the productivity by simplifying remarkably a micro element package manufacturing process. A substrate(100) having a micro element(110) and a light transmitting cover(200) having a groove are provided. The light transmitting cover is bonded to the substrate. At this time, the groove of the light transmitting cover faces the micro element of the substrate and the light transmitting cover is spaced apart from the micro element. The groove is exposed to the outside by removing selectively the light transmitting cover from the resultant structure. A dicing process is performed on the substrate along the exposed groove.
Abstract:
A wafer level packaging cap and a manufacturing method thereof are provided to realize a patterning in a deep hollow unit by spray-coating an upper surface and a lower surface of the hollow unit with a metal material and patterning them through a lift-off process. A hollow unit(20a) providing a space where a device is accommodated is formed on a lower surface of a cap substrate(20). The cap substrate has a first passing hole and is coupled to a device wafer(4). The first passing hole passes through the position where the hollow hole is prepared. A dielectric(22) is prepared on an upper surface of the cap substrate and has a second passing hole corresponding to the first passing hole. A cap pad(24) is prepared on an upper portion of the dielectric. A metal line(26) is formed on the lower surface of the cap substrate to be corresponding to plural device pads(46) electrically connected to the device. The metal line and the cap pad are electrically connected in the first and second passing holes.
Abstract:
패키징 기판의 제조방법이 개시된다. 본 제조방법은, (a) 기판 하부 표면의 소정 영역을 식각하여 함몰부를 제작하는 단계, (b) 기판 상부표면에 씨드층을 적층하는 단계, (c) 함몰부 내부에서, 기판 하부 표면의 소정 영역을 식각하여 씨드층까지 연결되는 적어도 하나의 비아홀을 제작하는 단계, 및, (d) 씨드층을 이용하여 비아홀 내부를 도금하여, 기판 상하부를 연결하는 전극을 제작하는 단계를 포함한다. 바람직하게는, 기판 상하부 표면에 전극과 연결되는 제1 및 제2패드를 제작하는 단계를 더 포함할 수 있다. 이에 따라, 제2패드를 본딩물질로 이용하여 패키징 할 수 있게 된다. 결과적으로, 패키징 기판의 제조공정 및 패키징 공정을 단순화할 수 있게 된다. 패키징 기판, 비아홀, 도금, 함몰부, 씨드층, 메탈마스크
Abstract:
개시된 배선 장치는 기판과, 기판에 관통 형성된 관통홀과, 관통홀의 내면에 형성된 완충층 및 완충층의 내부에 매립된 도금층을 포함하며, 이러한 배선 장치는 디바이스 패키지용 보호 캡에 적용되어 도금층 및 패키징 기판의 열 팽창 계수차를 완화시켜 열적 충격이 가해질 경우 패키징 기판이 파손되는 것이 해소된다. 배선 장치는 기판의 하면에 도금 시드층을 형성하는 단계와, 기판에 관통홀을 형성하는 단계와, 기판의 상면을 비롯하여 관통홀의 내주면에 소정 두께로 완충층을 형성하는 단계와, 완충층의 수평면을 제거하는 단계, 및 완충층의 내부에 도금층을 형성하는 단계에 의해 제조된다. 또한, 이러한 배선 제조 과정을 적용한 디바이스 패키지용 보호 캡 제조 방법이 제공된다.
Abstract:
A cap wafer including a cavity, a packaged semiconductor including the cap wafer, and a method of fabricating the cap wafer. The cap wafer includes a cavity formed in an area of a lower surface of the cap wafer; and at least one feed-through penetrating through upper and lower surfaces of the cap wafer so as to be connected to the cavity. The packaged semiconductor includes a base wafer including an upper surface including an area in which a circuit device is formed; a cap wafer including a lower surface including an area in which a cavity having a predetermined size is formed, the cap wafer being combined with the base wafer to position the circuit device in the cavity so as to package the circuit device; and at least one feed-through penetrating through upper and lower portions of the cap wafer so as to be connected to the cavity and electrically connected to the circuit device.
Abstract:
자계변조용 코일의 구조 및 소형의 대물렌즈에 대한 취부 방법이 개선된 광자기 기록재생장치의 광자기헤드 및 그 제조방법이 개시되어 있다. 이 개시된 장치는 공기동압에 의해 부상된 채로 광자기 기록매체 상에서 움직이는 슬라이더에 설치되며, 광자기 기록매체에 광스폿이 맺히도록 입사광을 집속시키는 렌즈와; 판 형상의 코일이 적어도 두 개층 이상 적층되고 각 층의 전기접점이 서로 연결된 복수의 코일층과, 코일층 사이에 개재되어 각 코일층을 전기적으로 절연시키는 절연층을 포함하는 코일부재와; 광자기 기록매체에 대면되는 렌즈의 일 면에 코일부재가 부착되도록 코일부재와 렌즈 사이에 개재된 접합부재;를 포함하는 것을 특징으로 한다. 또한, 광자기헤드 제조방법은 기판 상에 희생층을 형성하는 단계와; 희생층 상에 복수층의 코일층과 절연층을 갖는 코일부재를 형성하는 단계와; 희생층과 코일부재에 패터닝에 의해 중공을 형성하는 단계와; 코일부재의 최상층 코일 상에 도금용 몰드를 형성하고, 솔더를 도금하여 솔더범프를 형성하는 단계와; 렌즈의 하면에 소정 형상의 금속박막을 코팅하는 단계와; 가열하여 코일부재 상에 렌즈가 융착되도록 하는 단계와; 희생층을 제거하여 기판을 렌즈 및 코일부재에서 분리하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
Abstract:
솔더볼을 이용한 마이크로 전자 기계 시스템의 제조 방법이 개시된다. 본 마이크로 전자 기계 시스템의 제조 방법은 반도체 기판 상부에 절연막을 형성하는 단계, 절연막 상부에 구조층을 형성하고 식각하는 단계, 구조층 상부의 소정 위치에 언더 범프 메탈을 패터닝하여 형성하는 단계, 유리 기판에 구조층의 언더 범프 메탈에 상응하는 위치에 상부 지름이 하부 지름보다 큰 비아홀을 형성하고, 유리 기판이 구조층의 구조물을 보호하는 진공실을 형성하면서 구조층의 상부에 접착되는 단계, 및 비아홀로 솔더볼을 배치하고 용융하여 언더 범프 메탈과 솔더볼이 결합하는 단계를 포함한다. 본 발명에 따른 마이크로 전자 기계 시스템의 제조 방법에 따르면, 솔더볼과 언더 범프 메탈이 용융하여 결합하므로써 마이크로 전자 기계 시스템과 외부의 전기 구성요소의 전기적으로 연결하고 리크를 방지하여 성능이 우수한 마이크로 전자 기계 시스템을 제공할 수 있다.
Abstract:
PURPOSE: A process for producing an array plate for a biomolecule comprising a hydrophilic region and a hydrophobic region is provided, thereby reliably discriminating the hydrophilic region and hydrophobic region in the array plate, and binding the biomolecule to the array plate in higher accuracy and yield. CONSTITUTION: A process for producing array plate(1) for a biomolecule comprising a hydrophilic region and a hydrophobic region(6) comprises the steps of: (a) coating the surface of plate(1) with hydrophobic material to form a hydrophobic film(3); (b) arranging an etching mask on the hydrophobic film(3) and patterning it; (c) etching the hydrophobic film(3) exposed by the patterning to form the hydrophilic binding region(5); (d) removing the remaining etching mask; and (e) restoring the hydrophobicity of the hydrophobic film(3), wherein a hydrophilic oxidation film on the plate is naturally or artificially formed prior to the step (a); the plate(1) is glass, quartz, silicone, ceramic, plastic or metal; the magnetic material is coated on the opposite side of the hydrophobic film coated plate; the hydrophobic film(3) is composed of polytetrafluoroethylene, polyimide fluoride, polyacrylate fluoride, polyether fluoride, polystyrene, polyethylene and derivatives thereof, polynorbornene and derivatives thereof, polyethylene terephthalate, or DLC(diamond like carbon); and the hydrophilic film is composed of SiO2, Al2O3, SiON, aluminum nitride, polymethylmethacrylate, polymethylacrylate, polyvinylalcohol, polyhydroxystyrene, polyacetonitrile, polyacrylic acid or polytetrahydrofuran.