公开(公告)号：KR100687067B1

公开(公告)日：2007-02-27

申请号：KR1020000069799

申请日：2000-11-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김태형 ,  이상원 ,  김재민

IPC: H01L23/04

CPC classification number: H01L2224/48247 ,  H01L2224/49171 ,  H01L2924/181 ,  H01L2924/00012

Abstract: 본 발명은 패키지 균열 방지용 더미 리드를 가지는 리드 프레임과 그를 이용한 반도체 칩 패키지에 관한 것으로서, 성형 완료된 패키지 몸체를 금형으로부터 분리시킬 때 패키지 균열과 같은 불량을 방지하기 위한 것이다. 본 발명의 리드 프레임에 있어서, 서로 평행한 한 쌍의 가이드 레일에 한 쌍의 댐 바가 수직으로 연결되며, 반도체 소자가 접착되는 다이 패드가 가이드 레일과 댐 바 사이의 중앙에 위치하며, 반도체 소자에 전기적으로 연결되는 내부 리드가 댐 바에 각각 수직으로 연결되어 다이 패드의 양쪽 주위로 배치된다. 특히, 패키지 균열을 방지하기 위하여 더미 리드가 댐 바 쪽에 인접하여 가이드 레일로부터 돌출된다. 본 발명의 반도체 칩 패키지는 패키지 몸체 안에 봉합되고 다이 패드에 접착된 반도체 집적회로 소자와, 패키지 몸체의 제1 측면으로부터 반도체 소자의 양쪽 주위로 배치되고 반도체 집적회로 소자에 전기적으로 연결되는 내부 리드를 포함하며, 특히 패키지 몸체의 제1 측면에 인접하여 패키지 몸체의 제2 측면으로부터 패키지 몸체 안쪽으로 형성되어 봉합된 한 개 이상의 더미 리드를 더 포함한다.
반도체 칩 패키지, 패키지 성형, 이형핀, 균열, 더미 리드

公开(公告)号：KR100236532B1

公开(公告)日：2000-01-15

申请号：KR1019970022668

申请日：1997-06-02

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김재민

IPC: G06F12/00 ,  G06F12/06

CPC classification number: G06T1/60

Abstract: 본 발명은 이미지 데이터의 저장방법 및 그 처리장치에 관한 것으로서, 특히 저장방법은 P픽셀×P라인(P

公开(公告)号：KR100215052B1

公开(公告)日：1999-08-16

申请号：KR1019970018352

申请日：1997-05-12

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김재민

IPC: H05B6/72

Abstract: 본 발명은 전자렌지의 고주파 분산장치에 관한 것으로서, 마그네트론을 움직이도록 도파관의 일측에 마그네트론 유동수단이 구비된 것을 특징으로 하며, 고주파를 발진시키는 마그네트론을 유동시킴에 따라 조리실 내측으로 유입되는 고주파의 분포를 균일하게 함으로써, 음식물을 고루게 조리할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019990017152A

公开(公告)日：1999-03-15

申请号：KR1019970039947

申请日：1997-08-21

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김재민

IPC: F24C7/00

Abstract: 본 발명은 전자레인지에 관한 것으로, 본 발명의 전자레인지는 조리실을 구비한 본체와 이 조리실 내부에 설치되며 음식물이 안착되는 조리접시를 구비하고, 조리접시에는 조리시 음식물에서 발생한 수분의 유출을 억제하도록 하는 덮개가 설치된 것이다. 그리고 이 덮개의 일측에는 음식물이 안착된 덮개 내측과 덮개 외측과의 공기유통을 위한 다수개의 유통공이 형성된 것이다.
이러한 본 발명에 따른 전자레인지는 조리용 덮개를 음식물 위에 안착하여 조리함으로써 음식물에서 발생한 수분의 외부 유출을 억제할 수 있으므로 음식물의 조리효율을 향상시킬 수 있다. 그리고 종래의 비닐랩을 사용하지 않으므로 해서 사용에 따른 부가적인 비용상승과 쓰레기 발생량 또한 줄일 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR2019980010159U

公开(公告)日：1998-05-15

申请号：KR2019960023500

申请日：1996-08-01

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김재민

IPC: F24C7/02

Abstract: 본고안은전자렌지에관한것으로, 그목적은조리접시하면에서롤러가결합된롤러가이드가이탈되는것을방지하여이를항상회전가능하게지지하도록하는것이다. 본고안에따른전자렌지는조리접시(40)의하부에서이를회전가능하게지지하는롤러(61)가결합된롤러가이드(60)가이탈하는것을방지하도록구성되어있는데, 조리실(20)바닥에환형의레일홈(80)을형성함으로써이 레일홈(80)을따라롤러(61)가구름운동하도록하였다. 따라서롤러(61)가구름운동하는과정에서조리접시(40)의하면에서이탈하는것이방지되고, 조리접시(40)를항상균일한회전이가능하게지지함으로써조리가고르게되는이점이있다.

Abstract translation: 纸提案涉及一种微波炉，并且其目的是要始终可旋转地支撑它防止了在离开辊导辊被耦合以当所述烹饪板。 根据在本文中是微波炉由以防止辊61和辊导向器60必须投票可旋转地支撑它从烹饪板的底部（40）退出时，该环形底部烹调室20 通过沿导轨槽80具有形成在导轨槽（80），辊子61是行使家喻户晓。 因此辊61具有其是根据（40）的过程中，被均匀地由烹饪板40的总是匀速旋转熟可旋转地支撑防止家喻户晓运动从烹饪板远的问题。

公开(公告)号：KR1019980007723A

公开(公告)日：1998-03-30

申请号：KR1019960020840

申请日：1996-06-11

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김혜정 ,  김재민

IPC: G06T3/40

公开(公告)号：KR2019950028035U

公开(公告)日：1995-10-18

申请号：KR2019940006583

申请日：1994-03-30

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김재민

IPC: F24C7/02

公开(公告)号：KR102160252B1

公开(公告)日：2020-09-25

申请号：KR1020130158677

申请日：2013-12-18

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 유재용 ,  모상덕 ,  김재민

IPC: H04L12/931

公开(公告)号：KR1020130012671A

公开(公告)日：2013-02-05

申请号：KR1020110073951

申请日：2011-07-26

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김전호 ,  최철환 ,  이승태 ,  임용규 ,  김경태 ,  김재민

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/302 ,  H01L21/205

CPC classification number: C23C16/4405

Abstract: PURPOSE: A method for cleaning semiconductor device manufacturing equipment is provided to perform a cleaning process in the same chamber and the same temperature as a deposition process of silicon oxide, thereby effectively removing fluorine. CONSTITUTION: A film structure is deposited on a substrate(S110). Silicon oxide formed on the inner wall of a chamber is cleaned(S120). Silicon tetrafluoride gas and oxygen gas are discharged to the outside of the chamber through an exhaust line(S130). An organic compound source material is absorbed to the inner wall of the chamber(S140). The inside of chamber is purged by discharging the source gas remaining in the chamber(S150). Plasma is formed by supplying carrier gas to the inside of the chamber(S150). The inside of the chamber is purged by discharging silicon fluoride or hydrogen fluoride gas to the outside of the chamber(S160). [Reference numerals] (AA) Start; (BB) Is it repeated as specified cycle?; (CC) End; (S110) Deposition; (S120) Cleaning; (S130) Exhaust; (S140) Absorption; (S150,S170) Purge; (S160) Forming plasma

Abstract translation: 目的：提供一种用于清洁半导体器件制造设备的方法，以与氧化硅的沉积工艺相同的室和相同的温度进行清洁处理，从而有效地除去氟。 构成：将膜结构沉积在基板上（S110）。 在室的内壁上形成的氧化硅被清洁（S120）。 四氟化硅气体和氧气通过排气管排出到室外（S130）。 有机化合物源材料被吸收到室的内壁（S140）。 通过排出留在室中的源气体来净化室内（S150）。 通过将载气供给到室的内部形成等离子体（S150）。 通过将氟化硅或氟化氢气体排出到室的外部来清除室内（S160）。 （附图标记）（AA）开始; （BB）是否以指定周期重复？ （CC）结束; （S110）沉积; （S120）清洗; （S130）排气; （S140）吸收; （S150，S170）清洗; （S160）形成等离子体

公开(公告)号：KR1020090003738A

公开(公告)日：2009-01-12

申请号：KR1020070066657

申请日：2007-07-03

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김재민 ,  김순진

IPC: H04B1/40

CPC classification number: H04N7/142

Abstract: A video call method of a terminal is provided to perform a voice call only as stopping a video call while the video call is being performed in an environment in which illumination and the received rate of radio waves are bad. A terminal performs a video call(S301). A controller of the terminal determines whether an illumination power saving mode and a frequency power saving mode are set in the terminal or not(S303), measures the illumination and signal strength of a received frequency by controlling a luminous intensity measurement unit and a frequency signal strength measurement unit(S305), determines whether the measured values are smaller than each critical value(S307), and then if so, stops the video call(S309) to transmit/receive voice signals to/from a terminal of the other party through a communication unit(S311).

Abstract translation: 提供终端的视频呼叫方法，用于仅在照明和接收的无线电波率不良的环境中执行视频呼叫时停止视频呼叫才能执行语音呼叫。 终端执行视频呼叫（S301）。 终端的控制器确定在终端中是否设置照明省电模式和频率省电模式（S303），通过控制发光强度测量单元和频率信号来测量接收频率的照明和信号强度 强度测量单元（S305）确定测量值是否小于每个临界值（S307），然后如果是，则停止视频呼叫（S309），以向/从另一方的终端发送/接收语音信号，通过 通信单元（S311）。