公开(公告)号：KR100500248B1

公开(公告)日：2005-07-11

申请号：KR1020030049306

申请日：2003-07-18

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최인호 ,  박종록

IPC: H01L21/68

Abstract: 본 발명은, 반도체 웨이퍼를 정전기력으로 척킹하는 정전기 척에 관한 것으로서, 냉각수유로가 형성되어 있는 베이스 플레이트와; 상기 베이스 플레이트의 표면에 적층된 제1유전층과; 상기 제1유전층의 가장자리를 따라 제1유전층으로부터 상향 돌출하여 내부에 웨이퍼 수용부를 형성하는 절연재질의 돌출리브를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여 척킹되는 웨이퍼의 중심과 가장자리의 온도편차가 작고 구조가 간단한 정전기 척이 제공된다.

公开(公告)号：KR1020070012086A

公开(公告)日：2007-01-25

申请号：KR1020050066915

申请日：2005-07-22

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 전상진 ,  박종록 ,  사승엽 ,  양희전 ,  이근석

IPC: H01L21/205

CPC classification number: H01L21/67069 ,  H01J37/321 ,  H01J37/3266

Abstract: A substrate processing apparatus is provided to improve plasma generation efficiency by using ferrite core. A substrate to be processed is positioned in a process chamber having a reaction space(12) in which plasma is formed. A ferrite core(25) includes a plurality of poles(21) and a connection part(22a,22b) of a closed loop type. The plurality of poles are positioned outside the reaction space. The connection part interconnects the plurality of poles, confronting the reaction space wherein the connection part and the reaction space are located at both sides of the poles. A coil(26) winds round the plurality of poles. A power part(31) applies power to the coil. With respect to adjacent poles, the coil is wound in opposite directions.

Abstract translation: 提供了通过使用铁氧体磁芯来提高等离子体产生效率的衬底处理装置。 待处理的基板位于具有形成等离子体的反应空间（12）的处理室中。 铁氧体磁芯（25）包括多个极（21）和闭环类型的连接部（22a，22b）。 多个极位于反应空间的外部。 连接部将多个极相互连接，与反应空间相对，其中连接部分和反应空间位于极的两侧。 一个线圈（26）绕着多个极线旋转。 功率部件（31）向线圈供电。 对于相邻的极点，线圈以相反方向缠绕。

公开(公告)号：KR100541447B1

公开(公告)日：2006-01-11

申请号：KR1020030050448

申请日：2003-07-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박종록 ,  조재용 ,  안병선

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/6831

Abstract: 본 발명은 헬륨공급유로를 통해 헬륨가스를 공급함으로써 웨이퍼(wafer)에 발생되는 열을 간단하고 편리하게 냉각시킬 수 있도록 한 웨이퍼용 정전척에 관한 것이다.
본 발명에 따른 웨이퍼용 정전척은, 웨이퍼(10)가 장착되는 베이스(20)와; 베이스(20)의 상부면 단부에 마련되는 링형의 제1실링부재(30)와; 제1실링부재(30)의 내측으로 이격되어 베이스(20)의 상부면에 마련되며, 웨이퍼(10) 장착시 웨이퍼(10)를 에지부(12) 및 센터부(14)로 구분하는 링형의 제2실링부재(40)와; 베이스(20)의 내부에 분기 형성되어, 웨이퍼(10)의 에지부(12)로 헬륨가스를 배출하는 제1헬륨공급유로(50)와; 제1헬륨공급유로(50)와 높이차를 가지도록 베이스(20)의 내부에 분기 형성되어, 웨이퍼(10)의 센터부(14)로 헬륨가스를 배출하는 제2헬륨공급유로(60)를 포함하여 구성된다. 이에 따라, 웨이퍼의 가공 공정시 에지부 및 센터부의 온도 균일성을 확보할 수 있을 뿐 아니라 냉각효율을 상대적으로 향상시킬 수 있다.
웨이퍼, 베이스, 실링부재, 헬륨공급유로, 헬륨가스, 정전척

公开(公告)号：KR1020050011369A

公开(公告)日：2005-01-29

申请号：KR1020030050448

申请日：2003-07-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박종록 ,  조재용 ,  안병선

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/6831

Abstract: PURPOSE: A wafer electrostatic chuck is provided to dissipate simply easily the heat of a wafer by supplying a helium gas to the wafer using a helium supply channel. CONSTITUTION: A wafer electrostatic chuck includes a base(20) for loading a wafer(10), a ring type first sealing member(30) on an edge portion(12) of the base, a ring type second sealing member(40) on the base within the first sealing member, a first helium supply channel(50) for supplying a helium gas to the edge portion of the wafer, and a second helium supply channel(60) for supplying the helium gas to a center portion(14) of the wafer.

Abstract translation: 目的：提供晶片静电卡盘，通过使用氦气供应通道向晶圆供应氦气，从而简单地消散晶片的热量。 构成：晶片静电卡盘包括用于装载晶片（10）的基座（20），位于基座的边缘部分（12）上的环形第一密封构件（30），环形第二密封构件（40） 第一密封构件内的基部，用于向晶片的边缘部分供应氦气的第一氦气供应通道（50）和用于将氦气供应到中心部分（14）的第二氦气供应通道（60） 的晶片。

公开(公告)号：KR1020040096243A

公开(公告)日：2004-11-16

申请号：KR1020030029122

申请日：2003-05-07

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최인호 ,  안병선 ,  박종록

IPC: H01L21/68

Abstract: PURPOSE: A wafer support apparatus is provided to prevent effectively the vibration such as the pitching and the yawing by connecting a couple of linear motion guides symmetrically to the axial direction. CONSTITUTION: A chuck(30) is coupled to an upper part of a column(20) in order to support a wafer. A linear motion member(40) is connected to the column in order to move the column to the upper direction and the lower direction. A plurality of linear motion guides(50a,50b) are coupled to the outside of the column in order to support the linear motion of the column. A driving unit(60) is used for driving the linear motion member.

Abstract translation: 目的：提供一种晶片支撑装置，通过将一对线性运动引导件对称地与轴向连接来有效地防止诸如俯仰和偏转的振动。 构成：卡盘（30）联接到柱（20）的上部以便支撑晶片。 直线运动构件（40）连接到柱上，以便将柱移动到上方向和下方向。 多个直线运动引导件（50a，50b）联接到柱的外部，以便支撑柱的直线运动。 驱动单元（60）用于驱动线性运动件。